【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及一種選擇紋理映射水平的方法及一種利用該方法的材質貼圖系統,尤其涉及一種選擇紋理圖像的紋理映射水平的方法和一種利用該方法的材質貼圖系統。
技術介紹
在計算機圖形領域,材質貼圖是一種用于在虛擬三維對象的表面上繪制詳細的紋理或噴繪顏色的方案。在材質貼圖中,通過利用多種方法,數學方程式或二維圖片可繪制在一個三維對象的表面上,以至于該數學方程或二維圖片看起來像一個真實的對象一樣。紋理映射是用于提高三維圖形的材質貼圖領域的繪制速度,且由基本紋理和從該基本紋理連續減少的紋理構成。
技術實現思路
在實施例中,一種用于基于材質貼圖的全局光照的選擇紋理映射水平的方法。在該選擇紋理映射水平的方法中,識別屏幕中的至少一個對象的對象信息。該對象信息可包括至少一個對象的數量、該至少一個對象的形狀、屏幕中該至少一個對象的材質和/或屏幕空間中相關對象的位置。紋理映射水平選擇算法是基于該對象信息而確定的。該紋理映射水平選擇算法可包括微分方法和/或距離測量方法,該微分方法可基于相鄰光線的微分值選擇紋理映射,以及距離測量方法通過計算距離選擇紋理映射,其中,設定像素和紋理的比例為1:1。基于確定的方法選擇紋理映射水平。在一個實施例中,確定提供圖像的圖像質量和/或處理速度的需求。紋理映射水平選擇算法可以基于該確定的結果而確定。例如,由于該確定的結果,當相應圖像的圖像質量的需求水平變高,微分方法可選擇用來作為紋理映射水平選擇算法。作為另一個例子,當由于確定的結果,相應圖像的處理速度的需求水平變高,距離測量方法可選擇用來作為紋理映射水平選擇算法。在一個實施例中,選擇紋理映射水平的方法包括基 ...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種基于材質貼圖用于全局光照的選擇紋理映射水平的方法,所述方法包括: (a)識別屏幕上至少一個對象的對象信息,所述對象信息包括所述至少一個對象的數量、所述至少一個對象的形狀、所述屏幕中所述至少一個對象的材質和/或相應對象在所述屏幕的空間中的位置; (b)基于所述對象信息確定選擇紋理映射水平的算法,所述選擇紋理映射水平的算法包括微分方法和/或距離測量方法,所述微分方法基于相鄰光線的微分值選擇紋理映射,以及所述距離測量方法通過計算距離選擇紋理映射,其中,像素和紋理的比例設定為1:1 ;以及 (c)基于所述確定的方法選擇紋理映射水平。2.如權利要求1所述的方法,其中,所述步驟(b)進一步包括: (bl)識別被提供圖像的圖像質量和/或處理速度的需求水平;以及 (b2)基于所述識別的結果確定所述選擇紋理映射水平的算法。3.如權利要求2所述的方法,其中,步驟(b2)包括:根據識別的結果,當相應對象的所述圖像質量的所述需求水平更高時,選擇微分方法作為所述選擇紋理映射的算法。4.如權利要求2所述的方法,其中,步驟(b2)包括:根據識別的結果,當相應對象的所述操作速度的所述需求水平更高時,選擇距離測量方法作為所述選擇紋理映射的算法。5.如權利要求4所述的方法,其中,所述步驟(c)包括: (cl)基于紋理的大小和屏幕的大小,計算對應于紋理的像素的大小; (c2)基于對應于紋理三角形的三個頂點的紋理坐標,計算紋理的數量; (c3)基于所述步驟(Cl)和(c2)計算的值,計算所述三角形的大小; (c4)基于對應于給定三角形的三個頂點的模型坐標,計算所述給定三角形的大小;(c5)基于所述步驟(c3)和(c4)計算出的值,計算距離,其中像素和紋理的比例設定為1:1;以及 (c6)基于計算出的所述距離,選擇紋理映射水平。6.如權利要求5所述的方法,其中,所述步驟(Cl)包括根據下面的數學方程式計算對應于所述紋理的所述像素的大小。7.如權利要求5所述的方法,其中,步驟(c2)包括根據下面的數學方程式計算包含在所述三角形中的所述紋理的數量。8.如權利要求5所述的方法,其中,步驟(c3)包括根據下面的數學方程式計算所述三角形的大小。Txs-Txn · Tps 在這里,“Txs”是包含紋理的所述三角形的大小,Txn”是所述紋理的數量,以及“Xps”是對應于所述紋理的所述像素的大小。9.如權利要求5的方法,其中,所述步驟(c4)包括根據下面的數學方程式基于所述模型坐標計算所述三角形的大小。10.如權利要求5所述的方法,其中,所述步驟(c5)包括根據下面的數學方程式計算距離,其中,像素和紋理的比例設定為1:1。11.一種利用選擇紋理映射水平的方法的材質貼圖系統,包括: 對象信息存儲單元,用于存儲關于顯示在屏幕中的對象的對象信息,所述對象信息包括至少一個對象的數量、所述至少一個對象的形狀、所述屏幕中的所述至少一個對象的材質和/或相應對象在所述屏幕的空間中的位置; 對象信息識別單元,用于從所述對象信息存儲單元獲取關于顯示在所述屏幕中的目標對象的對象信息和識別所述獲取的對象; 算法確定單元,用于分析...
【專利技術屬性】
技術研發人員:樸祐贊,尹亨敏,
申請(專利權)人:矽鋰鉻藝術有限公司,世宗大學校產學協力團,
類型:
國別省市:
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