【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】
本專利技術涉及對顯示器的制造工序等中生成的廢有機溶劑進行提純(Purify)，以高回收率回收丙二醇甲醚醋酸酯(Propylene glycol monomethyl ether acetate)的方法。
技術介紹
在像半導體和TFT-1XD等顯示器的制造工序中，為了制作電子電路、像素等，廣泛使用光刻(lithography)。這種光刻是用于在基板上生成微圖案的方法，其是這樣的工序:借助印刷有所期望的圖案的掩膜，在涂布有感光性物質-光刻膠(photoresist)的基板上照射光，將掩膜的電路圖案轉移到基板上，光刻膠一般由作為結合劑(binder)成分的樹脂類、光引發劑、有機溶劑、各種顏料、分散劑及其它添加劑等構成。這樣，在進行利用光刻膠的光刻工序時，雖然會在不想要的部分即光刻膠涂布工序中光刻膠涂布噴嘴、涂布周邊設備或基板的邊緣等部分上涂上光刻膠，但這些部分可能會在其后進行的光刻膠涂布工序中誘發不良情況而必須除去。此時，利用有機溶劑，除去不想要的光刻膠。因此，除去光刻膠留下的廢有機溶劑包含光刻膠的成分即樹脂類、光引發劑、顏料、有機溶劑、添加劑等雜質。這樣，對于被雜質污染的廢有機溶劑，存在燃燒處理的情況，因為在燃燒過程中，不但生成有害化學物質，而且廢有機溶劑自身的利用價值下降，所以近些日子，將產生的廢有機溶劑再生處理為高純度的有機溶劑，以便可以在顯示器制造工序中再度使用。這種廢有機溶劑的再生通常與一般的相似，其利用不同成分的沸點差，分別蒸餾進行分離。但是，廢有機溶劑中所含其它有機溶劑的雜質中，有許多與要回收的有機溶劑沸點接近。對于這種具有接近沸點的雜質，不容易...
【技術保護點】
【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種有機溶劑的提純方法，其特征在于，包括以下過程:在含有丙二醇甲醚醋酸酯(PGMEA)、及作為雜質的丙酸類和酮類的化合物中至少一者的有機溶劑混合物內，添加C^2tl的醇鹽類化合物，使其發生反應，除去所述雜質。2.根據權利要求1所述的有機溶劑的提純方法，其特征在于，除去所述雜質的過程包括分別蒸餾工序。3.根據權利要求1所述的有機溶劑的提純方法，其特征在于，所述有機溶劑混合物源于半導體或顯示器的制造工序生成的廢有機溶劑。4.根據權利要求1所述的有機溶劑的提純方法，其特征在于，所述CV2tl的醇鹽類化合物采用一種以上的下述化學式I表示的化合物: 化學式I M- (OR，) η上式，M 為 Na, K, Co, Ga, Ge, Hf, Fe, Ni, Nb, Mo, La, Re, Sc, Si, Ti, Ta, W，Y 或 Zr ;R’ 為碳數m的直鏈，支鏈或環狀的烷基；n為I 6的整數；m X η...
【專利技術屬性】
技術研發人員：鄭玄鐵，文載雄，丁鎮培，裵恩亨，姜度順，李明鎬，
申請(專利權)人：易安愛富科技有限公司，
類型：
國別省市：
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