一種用于基礎沉降控制的方法技術

本發明專利技術公開了一種用于基礎沉降控制的方法，該用法用于對于基巖面距離筏板底面高度小于0.5m需要適度控制基礎沉降的地基，在基巖上依次設置第一級配砂石層、控制沉降復合板層、第二級配砂石層、混凝土墊層和筏板；其中，第一級配砂石層和第二級配砂石層為80mm～120mm厚度的級配砂石形成，壓實度為0.90～0.93，混凝土墊層為80mm～120mm厚素混凝土層。本發明專利技術通過調節基礎不同部分較大的沉降差異，大大減小基礎內力，提高結構安全性。尤其是通過在原本沉降很小的部位設置控制沉降復合板，可以調節不同部分基礎的沉降相近，沉降差控制不超過5mm。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種沉降控制方法，特別是涉及一種調節建筑物基礎沉降的方法，該方法尤其適合于石灰巖地區場地復雜地層存在起伏很大的基巖面的中淺層地基增加沉降控制。
技術介紹
沉降是建筑結構設計中需要十分關注的問題。建筑物基礎不同部分的不均勻沉降可能使基礎以及上部結構的內力大大增加，對結構的安全性十分不利。同時由于沉降計算理論的近似性，以及建筑場地地質條件的不均勻性，導致單純通過計算方法達到調節基礎各部分差異沉降很難實現。如果可以通過一種構造措施達到調節基礎沉降的作用，則可以較好地解決這一問題。高層建筑結構豎向荷載大，常需采用樁基礎或筏板基礎等基礎形式才可滿足承載力和變形要求。在石灰巖溶地區，地下隱伏溶洞規模大，范圍廣。現有技術采用常規鉆孔樁、沖孔樁易造成樁端溶洞頂板塌陷，且成樁過程中若穿過溶洞則不易處理。這種情況下，采用剛性樁復合地基可以充分利用淺層樁間土的承載力，大大提高加固部分地基的承載力，滿足高層建筑結構需求，同時不需穿過溶洞，避免了以上的工程問題。然而，石灰巖地區的基巖面往往起伏不平，基巖傾斜面甚至可以達到70° 90°。常出現這樣的情況場地淺層基巖面起伏很大，筏板基礎一部分直接支承在基巖上，另一部分支承在經過處理的地基上，容易導致筏板的不均勻沉降。直接支承在基巖的筏板基礎的沉降幾乎為零，支承在經過處理的地基的沉降則可以達到20mm 30mm。這樣的沉降差對結構安全及筏板內力是非常不利的。因此需要對直接支承在基巖的筏板基礎的沉降進行控制。
技術實現思路
為克服地基不均勻沉降問題，本專利技術提供，用于直接支承在基巖的筏板基礎的沉降控制，實現復雜地層條件下建筑沉降均勻。本專利技術目的通過如下技術方案實現對于基巖面距離筏板底面高度小于O. 5m需要適度控制基礎沉降的地基，在基巖上依次設置第一級配砂石層、控制沉降復合板層、第二級配砂石層、混凝土墊層和後板；其中，第一級配砂石層和第二級配砂石層為80mm 120mm厚度的級配砂石形成，壓實度為O. 90 O. 93,混凝土墊層為80mm 120mm厚素混凝土層。所述控制沉降復合板層由多塊控制建筑沉降的復合板拼接形成；控制建筑沉降的復合板為方形結構，包括上刨花板、EPS板、下刨花板和接口裝置；上刨花板和下刨花板分別位于EPS板的上下兩側；上刨花板和下刨花板的厚度為4mm 6mm ；EPS板的厚度為20mm 40mm，控制建筑沉降的復合板的至少一邊設有用于拼接的接口裝置，該接口裝置為榫頭或榫槽；榫頭為EPS板超出上刨花板和下刨花板邊緣15mm 25mm形成的凸起；榫槽為EPS板位于上刨花板和下刨花板邊緣內15mm 25mm形成的槽。為進一步實現本專利技術目的，所述第一級配砂石層和第二級配砂石層優選為100_厚級配砂石形成。所述混凝土墊層優選為IOOmm厚C15素混凝土墊層。所述上刨花板和下刨花板通過膠水粘接在EPS板上下兩面。所述上刨花板和下刨花板的厚度優選為5mm。所述榫頭的凸起高度為20mm，榫槽的槽深為20mm。本專利技術尤其適合的場地地質條件為基巖面傾斜很大，在建筑筏板基礎以下，一部分基巖埋深很淺，筏板直接支承在其上；另一部分基巖埋藏很深，需采用筏板、剛性樁復合地基等方法對天然地基進行處理才可滿足承載力要求。本專利技術正是針對筏板直接支承基巖上的基礎沉降控制。相對于現有技術，本專利技術的有益效果是調節基礎不同部分較大的沉降差異，大大減小基礎內力，提高結構安全性。對于基巖面離地表較深的部分，已采用適當的地基處理方案，以滿足高層建筑對地基承載力的要求。通常情況下，采用剛性樁復合地基(可以是預應力管樁，長螺旋樁，CM樁等)比較合理，此時樁頂與墊層底面接觸。目前常見高層建筑為30 50層，作用在地基上的荷載為350kPa 500kPa。這種荷載水平下經過處理的復合地基的沉降常在20mm 30mm。在基巖離地表很淺部分的地基，本專利技術通過在基巖上依次設置第一級配砂石層、控制沉降復合板層、第二級配砂石層、混凝土墊層和筏板，達到平衡不同部分基礎沉降的目的。本專利技術采用的控制沉降復合板具有以下性質初始壓縮變形模量為O. 4MPa O. 5MPa，隨著其上荷載增加，豎向應變增加，逐漸致密，剛度增大。最終在350kPa 500kPa的荷載壓強作用下，該材料的壓縮量為20mm 30mm。此后壓縮量即基本固定在此大小，不會隨時間推移出現很大的蠕變，即不會在荷載長期作用下出現壓縮量逐漸加大的情況。這一壓縮量與經過處理部分地基的沉降量相近。因此，通過在原本沉降很小的部位設置控制沉降復合板，可以調節不同部分基礎的沉降相近，沉降差控制不超過5_。附圖說明圖1是本專利技術用于基礎沉降控制的方法的層級設置結構示意圖。圖2是本專利技術控制建筑沉降的復合板的結構示意圖。圖3為本專利技術控制建筑沉降的復合板的拼接和安裝示意圖。圖中示出1_上刨花板，2-EPS板，3-下刨花板，4-榫頭，5-榫槽，11-基巖，12-第一級配砂石層，13-控制建筑沉降的復合板，14-第二級配砂石層，15-素混凝土墊層，16-筏板。具體實施例方式下面結合附圖和實施方式對本專利技術做進一步說明，但本專利技術要求保護的范圍并不局限于實施方式表述的范圍。如圖1所示，對于基巖面距離筏板底面高度小于O.5m需要適度控制基礎沉降的地基，在基巖11上依次設置第一級配砂石層12、控制沉降復合板層13、第二級配砂石層14、混凝土墊層15和筏板16(基巖11上的地基物質可以直接清除)；其中，第一級配砂石層12和第二級配砂石層14為80mm 120mm厚度的級配砂石形成，壓實度為O. 90 O. 93，第一級配砂石層12和第二級配砂石層14優選為IOOmm厚級配砂石形成；混凝土墊層15為80mm 120mm厚素混凝土層，優選IOOmm厚C15素混凝土墊層。級配砂石是根據粒度將碎石、石屑、中粗砂和水按照質量比5 3 1.5 O. 5混合而成，其中碎石的粒徑為l_2cm ;石屑的粒徑為2 IOmm ;中粗砂的為3. 7-2. 3，細度模數是砂單純的建筑材料的范圍。細度模數越大，表示砂越粗。控制沉降復合板層13由多塊控制建筑沉降的復合板拼接形成；如圖2所示，控制建筑沉降的復合板，為方形結構，包括上刨花板1、EPS板2、下刨花板3和接口裝置；上刨花板I和下刨花板3分別位于EPS板2的上下兩側；優選上刨花板I和下刨花板3通過膠水粘接在EPS板2的上下兩面；上刨花板I和下刨花板3的厚度為4mm 6mm ;優選上刨花板I和下刨花板3的厚度為5mm ；EPS板2的厚度為30mm 50mm,控制建筑沉降的復合板的至少一邊設有接口裝置，該接口裝置為榫頭4或榫槽5 ;榫頭4為EPS板2超出上刨花板I和下刨花板3邊緣15mm 25mm形成的凸起；榫槽5為EPS板2位于上刨花板I和下刨花板3邊緣內15mm 25mm形成的槽，優選榫頭4的凸起高度為20臟，優選榫槽5槽深為20mm ；優選控制建筑沉降的復合板水平面大小為lmX2m。EPS板為聚苯乙烯泡沫板，是一種常用的建筑外墻保溫材料。如圖3所示，使用時，將一塊控制建筑沉降的復合板的榫頭4裝入另一塊控制建筑沉降的復合板的榫槽5，裝入時在榫頭4上涂布建筑膠黏劑即可。這樣可以方便地實現控制建筑沉降的復合板之間的拼接與安裝。根據現場施工需要，可以對控制建筑沉降本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于基礎沉降控制的方法：其特征在于，對于基巖面距離筏板底面高度小于0.5m需要適度控制基礎沉降的地基，在基巖上依次設置第一級配砂石層、控制沉降復合板層、第二級配砂石層、混凝土墊層和筏板；其中，第一級配砂石層和第二級配砂石層為80mm～120mm厚度的級配砂石形成，壓實度為0.90～0.93，混凝土墊層為80mm～120mm厚素混凝土層。所述控制沉降復合板層由多塊控制建筑沉降的復合板拼接形成；控制建筑沉降的復合板為方形結構，包括上刨花板、EPS板、下刨花板和接口裝置；上刨花板和下刨花板分別位于EPS板的上下兩側；上刨花板和下刨花板的厚度為4mm～6mm；EPS板的厚度為20mm～40mm，控制建筑沉降的復合板的至少一邊設有用于拼接的接口裝置，該接口裝置為榫頭或榫槽；榫頭為EPS板超出上刨花板和下刨花板邊緣15mm～25mm形成的凸起；榫槽為EPS板位于上刨花板和下刨花板邊緣內15mm～25mm形成的槽。

【技術特征摘要】
1.一種用于基礎沉降控制的方法:其特征在于，對于基巖面距離筏板底面高度小于0.5m需要適度控制基礎沉降的地基，在基巖上依次設置第一級配砂石層、控制沉降復合板層、第二級配砂石層、混凝土墊層和筏板；其中，第一級配砂石層和第二級配砂石層為80mm 120_厚度的級配砂石形成，壓實度為0.90 0.93,混凝土墊層為80_ 120_厚素混凝土層。所述控制沉降復合板層由多塊控制建筑沉降的復合板拼接形成；控制建筑沉降的復合板為方形結構，包括上刨花板、EPS板、下刨花板和接口裝置；上刨花板和下刨花板分別位于EPS板的上下兩側；上刨花板和下刨花板的厚度為4mm 6mm ；EPS板的厚度為20mm 40_，控制建筑沉降的復合板的至少一邊設有用于拼接的接口裝置，該接口裝置為榫頭或榫槽；榫頭為EP...

【專利技術屬性】
技術研發人員：韓小雷，李耀琨，季靜，
申請(專利權)人：華南理工大學，
類型：發明
國別省市：