【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及一種二維位移測量裝置。
技術介紹
用于位移測量的裝置，在機械加工業中有很廣泛的應用。目前，公知的用來精密 測量物體的移動位移的工具包括光柵尺，磁柵尺，球柵尺等，這些都是測量一個方向上位移 的，利用它們，也可以構成測量平面位置的系統。但是，在某些比較特殊的領域，比如半導體 工業測量，測量顯微鏡，要求測量系統體積相對較小，移位方便等，如采用兩個一維光柵尺 構成的系統，讀數頭為兩個，數據線也為兩套，不利于減小系統體積。
技術實現思路
本專利技術為解決現有在二維位移測量中，需要兩套獨立測量系統，導致體積較大的 問題，提供一種能夠進行二維位移測量的裝置。二維位移測量的裝置，該裝置包括激光器、擴束鏡、第一反射鏡、半反半透鏡、第一 聚焦透鏡、二維測量光柵、二維位移平臺、第二反射鏡、第二聚焦透鏡和二維面陣探測器，其 特征在于激光器發出的激光光束經擴束鏡和第一反射鏡后平行入射到半反半透鏡，透射 光束經聚第一焦透鏡聚焦在二維測量光柵并發生衍射，衍射光束經半反半透鏡和第二反射 鏡后平行入射到第二聚焦透鏡上，最終在二維面陣探測器上成像，圖像顯示系統對二維面 陣探測器上的成像進行顯示。本專利技術的有益效果本專利技術采用二維參考微光學陣列元件和二維測量微光學陣列 元件進行二維測量，測量過程中只需要移動二維測量微光學陣列元件，通過二維面陣探測 器接收圖像并根據后期信號處理即可精確完成位移測量，本專利技術所述的裝置在測量過程中 測量準確方便，并減少了裝置的體積。附圖說明圖1 二維測量裝置結構示意圖2 二維測量光柵元件結構示意圖3衍射級次環示意圖4聚焦光束掃描振幅型光柵對應的輻...
【技術保護點】
二維位移測量的裝置，該裝置包括激光器（1）、擴束鏡（2）、第一反射鏡（3）、半反半透鏡（4）、第一聚焦透鏡（5）、二維測量光柵（6）、二維位移平臺（7）、第二反射鏡（8）、第二聚焦透鏡（9）和二維面陣探測器（10），其特征在于：激光器（1）發出的激光光束經擴束鏡（2）和第一反射鏡（3）后平行入射到半反半透鏡（4），透射光束經聚第一焦透鏡（5）聚焦在二維測量光柵（6）并發生衍射，衍射光束經半反半透鏡（4）和第二反射鏡（8）后平行入射到第二聚焦透鏡（9）上，最終在二維面陣探測器（10）上成像。
【技術特征摘要】
1.二維位移測量的裝置，該裝置包括激光器(I)、擴束鏡(2)、第一反射鏡(3)、半反半透鏡(4)、第一聚焦透鏡(5)、二維測量光柵(6)、二維位移平臺(7)、第二反射鏡(8)、第二聚焦透鏡(9)和二維面陣探測器(10)，其特征在于激光器(I)發出的激光光束經擴束鏡(2)和第一反射鏡(3)后平行入射到半反半透鏡(4)，透射...
【專利技術屬性】
技術研發人員：盧振武，劉華，黨博石，孫強，
申請(專利權)人：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，
類型：發明
國別省市：
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