【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于空間光學
中涉及的一種20°視場無中心遮攔的共軸四反射鏡光學系統。
技術介紹
現有的三反射鏡光學系統已經在空間光學中得到廣泛的應用，分為共軸三反射鏡光學系統和離軸三反射鏡光學系統。三反射鏡光學系統不易將視場做大，視場角通常小于5° ,10°以上視場可稱為大視場。在大視場下，共軸三反射鏡光學系統由于存在較大的中心遮攔，使得進入光學系統的能量減少，從而影響光學系統的成像質量；離軸三反射鏡光學系統通過離軸避免了中心遮攔，增加了設計自由度，但是，每一鏡片偏擺和旋轉自由度都需要矯正調節，光學基準與安裝基準很難高精度重合，給加工、裝調、檢測帶來很大困難；同時，由于三反射鏡光學系統的設計自由度較少，一般畸變過大系統成像變形嚴重，影響了其應用范圍。共軸四反射鏡光學系統擁有足夠的自由度來校正像差，并且同軸結構裝調相對簡單，因此，共軸四反射鏡光學系統在空間光學的應用中具有很大的應用潛力。與本專利技術最為接近的已有技術是中國科學院西安光學精密機械研究所申請的一項專利技術專利，申請號為200810018151. 4，專利技術名稱為共軸四反光學系統。該光學系統如附圖說明圖1所示，包括虛擬物面1、主鏡2、次鏡3、三鏡4、四鏡5和探測器像面6。次鏡3設置在主鏡2的反射光路上，三鏡4設置在次鏡3的反射光路上，四鏡5設置在三鏡4的反射光路上。成像光束經過虛擬物面I后，被主鏡2反射到次鏡3、再經過三鏡4和四鏡5的兩次反射后成像在探測器像面6上。該成像系統達到11. 6°，畸變全視場控制在0.2%，但是還不能滿足某些特殊應用對大視場的要求。專利技術和內容為了克服已有技術存...
【技術保護點】
一種20°視場無中心遮攔的共軸四反射鏡光學系統，包括主鏡(7)、次鏡(8)、光闌(9)、三鏡(10)、四鏡(11)、探測器像面(12)；次鏡(8)放置在主鏡(7)的反射光路上，三鏡(10)放置在次鏡(8)的反射光路上，將光闌(9)置于次鏡(8)的鏡框上，兩者固連，四鏡(11)放置在三鏡(10)的反射光路上，探測器像面(12)放置在四反射鏡光學系統的焦面上；其特征在于：主鏡(7)、次鏡(8)、三鏡(10)和四鏡(11)的光路連接中各鏡之間的距離分別為：d1、d2、d3、d4；主鏡(7)、次鏡(8)、三鏡(10)和四鏡(11)，四個鏡面的頂點曲率半徑分別為：?R1、R2、?R3、R4、；主鏡(7)和次鏡(8)為雙曲面，主鏡(7)、次鏡(8)的二次曲面系數為k1、k2；三鏡(10)和四鏡(11)為包含二階與六階項的高次非球面，三鏡(10)二次曲面系數為k3，二階非球面系數為A3，六階非球面系數為C3；四鏡(11)的二次曲面系數為k4，二階非球面系數為A4，六階非球面系數為C4；其中，d1=?418.645mm，d2=420.000mm，d3=?419.000mm，d4=470.000mm；R...
【技術特征摘要】
1.一種20°視場無中心遮攔的共軸四反射鏡光學系統，包括主鏡(7)、次鏡(8)、光闌(9)、三鏡(10)、四鏡(11)、探測器像面(12);次鏡(8)放置在主鏡(7)的反射光路上，三鏡(10)放置在次鏡(8)的反射光路上，將光闌(9)置于次鏡(8)的鏡框上，兩者固連，四鏡(11)放置在三鏡(10)的反射光路上，探測器像面(12)放置在四反射鏡光學系統的焦面上；其特征在于主鏡(7)、次鏡(8)、三鏡(10)和四鏡(11)的光路連接中各鏡之間的距離分別為dl、d2、d3、d4 ;主鏡(7)、次鏡(8)、三鏡(10)和四鏡(11)，四個鏡面的頂點曲率半徑分別為Rl、R2、R3、R4、；主鏡(7)和次鏡⑶為雙曲面，主鏡(7)、次鏡⑶的二次曲面系數為kl、k2 ;三鏡(10)和四鏡(11)為包含...
【專利技術屬性】
技術研發人員：劉偉奇，劉軍，呂博，康玉思，柳華，
申請(專利權)人：中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，
類型：發明
國別省市：
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