【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種拋邊裝置,尤其是涉及一種光掩膜板拋邊裝置。
技術(shù)介紹
光掩膜板是半導(dǎo)體行業(yè)芯片光刻的基板。而光掩膜板的基板原先均由日本壟斷生 產(chǎn),其加工要求十分精密,除了玻璃基板的平面度、平行度、表面光潔度外,對外形的倒邊拋 光要求更是難度高,勞動強度大,而且產(chǎn)能很低,阻礙了玻璃基板的加工。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的就是為了克服上述現(xiàn)有技術(shù)存在的缺陷而提供一種結(jié)構(gòu)簡單、設(shè)備 成本低的光掩膜板拋邊裝置。本專利技術(shù)的目的可以通過以下技術(shù)方案來實現(xiàn)一種光掩膜板拋邊裝置,其特征在于,包括電機、機座、機架、磨輪、靠模機構(gòu)和支 撐結(jié)構(gòu),所述的機架固定在機座上,所述的靠模機構(gòu)位于機架的一側(cè),所述的電機和磨輪固 定在機架另一側(cè)的支撐結(jié)構(gòu)上,所述的磨輪設(shè)在電機的正下方。所述的靠模機構(gòu)包括靠模、靠模滑板、靠模滑軌,所述的靠模滑軌安裝于機架的一 側(cè),所述的靠模滑板可滑動的水平安裝在靠模滑軌上,所述的靠模安裝在靠模滑板上。所述的靠模為90°靠模。所述的支撐結(jié)構(gòu)包括滑板和滑軌,所述的滑板與滑軌水平滑動連接,所述的電機 和磨輪安裝在滑板上。與現(xiàn)有技術(shù)相比,本專利技術(shù)通過靠模的方式來實現(xiàn)對產(chǎn)品的加工,結(jié)構(gòu)簡單,設(shè)備成 本低,操作簡單,產(chǎn)品加工精度高。附圖說明圖1為本專利技術(shù)的結(jié)構(gòu)示意圖。具體實施方式下面結(jié)合附圖和具體實施例對本專利技術(shù)進(jìn)行詳細(xì)說明。如圖1所不,一種光掩膜板拋邊裝置,包括機座1、機架2、電機3、磨輪4、靠模機構(gòu) 5和支撐結(jié)構(gòu)6。機架2固定在機座I上;靠模機構(gòu)5位于機架2的一側(cè),包括靠模7、靠模 滑板8、靠模滑軌9,靠模滑軌9,靠模滑板8可滑動的水平安裝在靠模滑軌9上 ...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種光掩膜板拋邊裝置,其特征在于,包括電機、機座、機架、磨輪、靠模機構(gòu)和支撐結(jié)構(gòu),所述的機架固定在機座上,所述的靠模機構(gòu)位于機架的一側(cè),所述的電機和磨輪固定在機架另一側(cè)的支撐結(jié)構(gòu)上,所述的磨輪設(shè)在電機的正下方。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種光掩膜板拋邊裝置,其特征在于,包括電機、機座、機架、磨輪、靠模機構(gòu)和支撐結(jié)構(gòu),所述的機架固定在機座上,所述的靠模機構(gòu)位于機架的一側(cè),所述的電機和磨輪固定在機架另一側(cè)的支撐結(jié)構(gòu)上,所述的磨輪設(shè)在電機的正下方。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光掩膜板拋邊裝置,其特征在于,所述的靠模機構(gòu)包括靠模、靠模滑板、靠模滑軌,所述的靠...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:姚建明,
申請(專利權(quán))人:上海雙明光學(xué)科技有限公司,
類型:發(fā)明
國別省市:
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