一種鍍膜件，其包括基材、形成于基材表面的復合層及形成于復合層表面的鉻氧氮層，該復合層包括若干鎳鋁鈥層和若干金屬銥層，該鎳鋁鈥層和金屬銥層交替排布，其中該復合層中與所述基材直接相結(jié)合的是鎳鋁鈥層，與鉻氧氮層直接相結(jié)合的為金屬銥層。所鍍膜層使所述鍍膜件具有良好的抗高溫氧化性能，從而有效提高鍍膜件的使用壽命。此外，本發(fā)明專利技術(shù)還提供一種所述鍍膜件的制備方法。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及一種。
技術(shù)介紹
鈮基合金具有較高的熔點(> 1700°C )，較低的密度(6. 6 7. 2g/cm3)，良好的室溫斷裂韌性(> 20Mpa.m1/2)，良好的高溫強度及鑄造性能。然而，鈮基合 金抗氧化性能差， 在溫度較高的條件下(1200°C 1400°C或更高溫度)使用時存在嚴重的氧化現(xiàn)象。
技術(shù)實現(xiàn)思路
有鑒于此，有必要提供一種提高鈮基合金抗高溫氧化性能的鍍膜件。另外，還有必要提供一種上述鍍膜件的制備方法。一種鍍膜件，其包括基材、形成于基材表面的復合層及形成于復合層表面的鉻氧氮層，該復合層包括若干鎳鋁欽層和若干金屬銥層，該鎳鋁欽層和金屬銥層交替排布，其中該復合層中與所述基材直接相結(jié)合的是鎳鋁欽層，與鉻氧氮層直接相結(jié)合的為金屬銥層。一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟提供基材；在該基材的表面形成鎳鋁欽層；在該鎳鋁欽層的表面形成金屬銥層；交替重復上述形成鎳鋁欽層和金屬銥層的步驟制備所述復合層，且使復合層的最外層為金屬銥層；在該復合層的表面形成鉻氧氮層。本專利技術(shù)復合層包括若干鎳鋁欽層和若干金屬銥層，鎳鋁欽層具有優(yōu)異的抗氧化性能；金屬銥層在高溫條件下氧滲透率低，可以有效阻止氧朝基材內(nèi)擴散；最外層鉻氧氮層膜層致密，可有效延緩氧朝基材的方向擴散，從而進一步保護復合層和基材；因此所鍍膜層使所述鍍膜件具有良好的抗高溫氧化性能，從而有效提高鍍膜件的使用壽命。附圖說明圖1為本專利技術(shù)一較佳實施例的鍍膜件的剖視圖；圖2為本專利技術(shù)一較佳實施例真空鍍膜機的俯視示意圖。主要元件符號說明權(quán)利要求1.一種鍍膜件，其包括基材，其特征在于該鍍膜件還包括形成于基材表面的復合層及形成于復合層表面的鉻氧氮層，該復合層包括若干鎳鋁欽層和若干金屬銥層，該鎳鋁欽層和金屬銥層交替排布，其中該復合層中與所述基材直接相結(jié)合的是鎳鋁欽層，與鉻氧氮層直接相結(jié)合的為金屬銥層。2.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于該鎳鋁欽層中鎳的原子百分含量為50 60%，鋁的原子百分含量為25 30%，欽的原子百分含量為10 25%。3.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于該鉻氧氮層中鉻的原子百分含量為80 90%,氧的原子百分含量為5 10%,氮的原子百分含量為5 10%。4.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于所述若干金屬銥層和若干鎳鋁欽層的層數(shù)均為50 133層。5.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于該基材由金屬或陶瓷制成。6.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于每一金屬銥層的厚度為15 20nm。7.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于每一鎳鋁欽層的厚度為15 20nm。8.如權(quán)利要求1所述的鍍膜件，其特征在于該鉻氧氮層的厚度為3 5μπι。9.一種鍍膜件的制備方法，其包括如下步驟提供基材；在該基材的表面形成鎳鋁欽層；在該鎳鋁欽層的表面形成金屬銥層；交替重復上述形成鎳鋁欽層和金屬銥層的步驟制備所述復合層，且使復合層的最外層為金屬銥層；在該復合層的表面形成鉻氧氮層。10.如權(quán)利要求9所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于形成所述鎳鋁欽層的方法為采用磁控濺射法，使用鎳鋁欽合金靶，設置鎳鋁欽合金靶的電源功率為10 15kw，以氬氣為工作氣體，氬氣流量為80 150SCCm，對基材施加的偏壓為-100 -300V，鍍膜溫度為 100 200°C，濺鍍鎳鋁欽層的時間為45 90s。11.如權(quán)利要求9所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于形成所述金屬銥層的方法為采用磁控濺射法，使用銥靶，設置銥靶的電源功率為8 10kw，以氬氣為工作氣體，氬氣流量為80 150SCCm，對基材施加的偏壓為-100 -300V，鍍膜溫度為100 200°C，濺鍍金屬銥層的時間為45 90s。12.如權(quán)利要求9所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于交替濺鍍鎳鋁欽層和金屬銥層的次數(shù)為50 133次。13.如權(quán)利要求9所述的鍍膜件的制備方法，其特征在于形成所述鉻氧氮層的方法為采用磁控濺射法，使用鉻靶，并設置鉻靶的電源功率為8 10kw，以氮氣和氧氣為反應氣體，氮氣流量為10 50SCCm，氧氣流量為20 80SCCm，以氬氣為工作氣體，氬氣流量為 80 150SCCm，對基材施加的偏壓為-100 -300V，鍍膜溫度為100 200°C，濺鍍鉻氧氮層的時間為50 80min。全文摘要一種鍍膜件，其包括基材、形成于基材表面的復合層及形成于復合層表面的鉻氧氮層，該復合層包括若干鎳鋁鈥層和若干金屬銥層，該鎳鋁鈥層和金屬銥層交替排布，其中該復合層中與所述基材直接相結(jié)合的是鎳鋁鈥層，與鉻氧氮層直接相結(jié)合的為金屬銥層。所鍍膜層使所述鍍膜件具有良好的抗高溫氧化性能，從而有效提高鍍膜件的使用壽命。此外，本專利技術(shù)還提供一種所述鍍膜件的制備方法。文檔編號C23C14/35GK102994954SQ201110267028公開日2013年3月27日 申請日期2011年9月9日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月9日專利技術(shù)者陳正士, 李聰 申請人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護點】
一種鍍膜件，其包括基材，其特征在于：該鍍膜件還包括形成于基材表面的復合層及形成于復合層表面的鉻氧氮層，該復合層包括若干鎳鋁鈥層和若干金屬銥層，該鎳鋁鈥層和金屬銥層交替排布，其中該復合層中與所述基材直接相結(jié)合的是鎳鋁鈥層，與鉻氧氮層直接相結(jié)合的為金屬銥層。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：陳正士，李聰，
申請(專利權(quán))人：鴻富錦精密工業(yè)深圳有限公司，鴻海精密工業(yè)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：
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