本發明專利技術提供一種用于無水膠印制版的底涂液，其制備方法及其應用。本發明專利技術的底涂液在無電解、陽極氧化處理的版基上涂布，實現版基與感光層的粘結，再在感光層上涂布硅橡膠層，利用感光層樹脂親墨、硅橡膠層硅橡膠斥墨的原理實現高精度印刷。本發明專利技術所述底涂液由5～50wt％聚合物、0.01～20wt％的金屬附著力促進劑、0.01～20wt％防光暈的納米顆粒及余量的溶劑組成。
【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于無水膠印制版領域，具體涉及用于無水膠印制版的底涂液、其制備方法及其應用。
技術介紹
無水膠印技術自1931年提出以來，因無水及潤版液參與，不依賴水墨平衡原理，故印刷精度及耐印率優良。無水膠印具有以下優點1)網點再現性好。200線至500線的高光部分2 %的網點和暗調部分98 %的網點都能很好地再現，而且暗調部分的細節和層次能清晰地再現出來。無水膠印印刷品從2%到98%的網點再現率為96%，而有水膠印印刷品從5%到95%的網點再現率只有90%。2)墨色一致，光澤度好。無水膠印技術無因水墨平衡的波動而造成印刷品墨色大小不一致的現象。印刷品干燥后，墨層厚實，色彩鮮艷，質量穩定。3)網點擴大受到控制。因無水膠印技術沒有潤版液的影響，所以網點擴大值只有7%。而有水膠印技術網點增大值為10 15%以上。4)套印準確。無水膠印技術由于無水的影響，所以不會造成紙張伸縮現象，從而保證了印品的套印準確。5)印版起印快，可節省試印紙。6)印刷效率高，縮短生產周期。采用無水膠印技術不僅能提高產品質量，而且減少了由于水墨平衡波動造成的調整和停機時間，縮短了生產周期。7)色彩空間大，因為無水膠印技術可以印刷出更高的油墨密度(比有水膠印技術的油墨密度高20%左右)，故無水膠印技術的色彩空間比有水膠印技術的色彩空間大。使用高網線數印刷，可以向紙張上轉移更多油墨，亦可增大色彩空間。8)承印范圍廣，由于沒有潤版液和水的參與，紙張變形小，套準精度高，所以無水膠印技術在膠版紙和再生紙上都可以印刷出高質量的印品。對于非吸收性的承印物(如塑料薄膜、金屬、合成紙等)，無水膠印技術也能較好地保證印刷質量。9)能采用調頻技術。調頻網的網點大小是一致的，由于無水膠印技術網點再現性好，因此，調頻網技術適合于無水膠印。10)操作方便。由于無水膠印技術徹底解決了由于水墨平衡這一多變因素給操作者帶來的困難和產品質量的波動，因而操作無水膠印機極為方便。11)節省材料，減少環境污染。無水膠印技術印刷時可不使用潤版系統，同時可省去水斗溶液、保護膠，使環境不受污染。12)水資源 保護，無水印刷可以保護水資源。隨著全球范圍環保意識的增強，印刷業采用無水膠印技術具有重大的意義。目前世界范圍內無水膠印機約3000臺，主要集中在美國、加拿大、德國、日本等發達國家。據09年統計，歐洲的無水膠印市場占有率為6 7%，美國為5 6%，Fogra研究所報道無水膠印市場占有率將會增至10 %左右。亞洲除日本的無水膠印市場占有率較高夕卜，臺灣地區和東南亞一些國家也有少量應用。在我國除北京等地有實驗性使用外，再沒有其它地方使用，市場占有率幾乎為零。無水膠印技術在我國沒有進展的原因主要是版材國產化未解決，從日本進口價格高出3 4倍。日本東麗公司(JP1237551A)曾單獨使用環氧樹脂、尿素樹脂、三聚氰胺甲醛樹月旨、聚酯樹脂與染料或顏料組合作底涂，提高了曝光寬容度，耐印率未有明顯改善；接著通過引入含硫的不飽和烴類化合物(JP8211594A)改進了耐印率及圖像的再現性。無水膠印版取消了電解、陽極氧化等處理過程，減少了環境污染，提高耐印率必須研發將版基與感光層結合的底涂層。
技術實現思路
為了提高無水膠印版耐顯影液及定影液的能力及耐印力，本專利技術通過優化粘結樹脂種類及在底涂液中加入金屬附著力促進劑，通過該底涂液的改善，提高了與感光層的粘結力，并有效改善了耐印率。本專利技術通過如下技術方案實現一種用于無水膠印制版的底涂液，所述底涂液，以質量百分比記，其組成及含量為 聚合物5 50wt%金屬附著力促進劑 0.01 20wt%防光暈的納米顆粒 0.01 20wt%溶劑余量。其中，在底涂液中起主要粘結作用的是粘結樹脂，即聚合物，所述的聚合物含量范圍 5-60wt %，優選 10-50wt %，更優選 15-40wt %，還更優選 20_35wt %，最優選 25_30wt %。所述的聚合物選自聚乙烯醇縮丁醛、聚氨酯、聚丙烯酸樹脂、聚甲基丙烯酸樹脂、酚醛樹脂、環氧樹脂、三聚氰胺甲醛樹脂、聚酯樹脂、醇酸樹脂、乙烯-醋酸乙烯共聚物。在印刷領域，印刷版基常選用金屬基底，金屬附著力促進劑的添加可以增加基底與感光層的粘結力，從而提高耐印率，金屬附著力促進劑的含量為O. 01 20Wt%，優選I 15wt % ο所述金屬粘結力促進劑選自硅烷偶聯劑、鈦酸酯偶聯劑、芳基磷酸酯類、烷基磷酸酯類、鋯鋁酸鹽類、鋯酸鹽類。所述芳基磷酸酯類中的芳基為取代或未取代的芳基，優選選自苯基、甲苯基、萘基；所述芳基磷酸酯類優選苯基磷酸酯或甲苯基磷酸酯。所述烷基磷酸酯類中的烷基選自碳原子數為1-20的烷基鏈；所述的鋯鋁酸鹽類選自鋯鋁酸鉀、鋯鋁酸鈉等，所述鋯酸鹽選自鋯酸鋇、偏鋯酸鹽M2+ZrO3 (其中M選自二價金屬)，焦鋯酸鹽M3+Zr2O7 (其中 M 選自鑭、鈰、釹、釤)，M43+Zr3012 (其中 M 選自鈧、鐿)，T1-ZrO4、V2ZrO7、NbltlZrO27、MO2ZrO4、W2ZrO80所述防光暈的納米顆粒選自氧化鋁、氧化鋅、二氧化硅、氧化鋯、二氧化鈦、碳化硅。防光暈納米顆粒含量為O. 01 20wt%,優選I 15wt%,更優選5 IOwt %。所述溶劑優選環保型無污染溶劑，選自醇類、酮類、醚類、酯類或烴類。優選醇類或酯類。所述醇類選自低級醇或多元醇，優選具有1-5個碳原子的一元醇或具有2-5個碳原子的二元或三元醇；所述酮類選自丙酮、丁酮、甲乙酮、環己酮、N-甲基吡咯烷酮(NMP)；所述醚類選自醇醚，優選選自乙二醇單甲醚、乙二醇單乙醚、乙二醇單正丁醚、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、丙二醇單乙醚、丙二醇二甲醚、丙二醇二乙醚；所述酯類選自羧酸酯類，優選乙酸乙酯、乙酸甲酯、甲酸乙酯、甲酸丁酯、丙二醇甲醚醋酸酯。所述烴類選自芳香烴，優選甲苯、二甲苯；所述烷烴優選正庚烷、正己烷。在本專利技術的底涂液中，作為粘結樹脂的聚合物及金屬附著力促進劑這兩種關鍵組分共同作用，可以將版基與感光層較好的粘結，以減少電解、陽極氧化引起的污染，從而實現高的耐印率及分辨率好的印刷結果。本專利技術優選的底涂液組成及含量如下(I) 5wt%的聚乙烯醇縮丁醒、O. lwt5^tJ娃燒偶聯劑、20wt%的氧化鋅及余量的乙醇。(2) 50wt%的聚酯樹脂、20wt%的鈦酸酯偶聯劑、O. Olwt %的氧化鋁及余量的二甲 苯。(3)30wt%的酚醛樹脂、O. 2￥丨％的苯基磷酸酯、O. 03wt %的二氧化硅及余量的乙二醇單乙醚。⑷20wt %的聚氨酯、O. Olwt %的甲苯基磷酸酯、O. 05wt %的二氧化鈦及余量的N-甲基吡咯烷酮(NMP)。(5)40wt%的聚丙烯酸樹脂、O. 02wt%的鋯鋁酸鉀、O. 3wt %的氧化鋯及余量的丙酮。(6) 15wt%的聚甲基丙烯酸樹脂、O. 05wt%的錯招酸鈉、O. 3wt%的碳化娃及余量的丁酮。(7)30wt%的環氧樹脂、O. 2wt%的鋯酸鋇、10界七％的氧化鋁及余量的乙酸乙酯。(8) 15wt %的三聚氰胺甲醒樹脂、5wt %的Nb1(lZr027、3wt %的氧化鋅及余量的乙醇。(9) 25wt%的醇酸樹脂、2wt%的硅烷偶聯劑、lwt%的二氧化硅及余量的二甲苯。(10)40wt%的乙烯本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種用于無水膠印制版的底涂液，以質量百分比記，該底涂液的組成及含量為：FSA00000571651400011.tif
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：周海華，宋延林，
申請(專利權)人：中國科學院化學研究所，
類型：發明
國別省市：
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