一種用于激光印字機直接制版的膠印版材及其制備方法技術

本發明專利技術涉及一種用于激光印字機直接制版的膠印版材及其制備方法，該版材有兩層結構，一層為基體層是改性膠片，另一層為圖文接受固定層，是以專用涂料在基體層上一次涂布、一次成膜而獲得。在大氣中常壓狀態下采用電暈放電等離子體處理膠片，之后，涂布專用涂料成膜。此種版材可用于激光印字機直接制版，也可用復印機直接制版，印刷中不僅可用ＰＳ版潤版液，而且可以僅用清水做潤版液。耐印力可達１００００～１５０００印。（*該技術在2014年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及。目前絕大多數膠印機用的版材是PS版或氧化鋅版，其制版工藝順序分別如下氧化鋅版為①用激光印字機出紙樣，②拼版，③靜電制版，④修版，⑤烤版，⑥出印版；PS版為①用激光印字機或激光照排機出陽圖軟片，②顯影、定影，③拼版，④曬版，⑤顯影、定影，⑥出印版；出印版后即可上印刷機掛版印刷。其共同缺點是工藝流程長，設備多，投資大。而直接印版是當代印刷領域的一個重要課題。日本專利JP-A-60181457、JP-A-61148097以及中國專利CN1062694A(申請號92100285·8)公開了這種版材及制備方法，但其方案均為三層結構具有支持體1，圖像固定層2。(位于中間)，圖像接受層3。就耐印力而言，即使三者中較高的中國專利也只有2000～5000印。本專利技術的目的是提供一種具有兩層結構的用于激光印字機直接制版的膠印版材，即將計算機編輯好的圖文，通過激光印字機直接印在該版上，即成為印版，直接上印刷機掛版印刷，從而大大縮短制版工藝，減少投資，而且具有高耐印力。本專利技術具體方案如下直接印版具有兩層結構，一層為基體層，是經等離子體處理的聚酯膠片，另一層為圖文接受固定層，是以一種專用涂料在基體層上一次涂布，一次成膜而獲得的。聚酯膠片為市購70～100μ的原聚酯薄膜，具有耐高溫，印刷中不變形的特點。本專利技術的制備工藝方法為在大氣中常壓狀態下采用電暈放電等離子體處理聚酯片基，放電間隙電壓為10～25千伏，等離子體電源頻率為10～35千赫茲，處理時間4～10秒，聚酯膠片勻速通過等離子體區；然后，表面均勻涂布專用涂料，涂布量為100～200g/m2(濕基)，之后在130℃～150℃下干燥處理4～5分鐘即得成品；專用涂料重量百分含量為二氧化鈦8～9％，，聚乙烯醇4～6％，硫酸鉻鉀0.2～0.4％，聚羧酸鹽0.4～0.6％，三羥甲基三聚氰胺0.6～0.8％，鹽酸0.4～0.6％，水83～86％。經電暈等離子體改性處理的膠片，表面物理、化學結構及性能發生變化，表面活化能增加，使涂層能牢固地附著其上。本專利技術的優點在于圖文接受固定層在基體層上附著牢固，具有極強的親水、保水能力，并且不溶于水；用于激光印字機直接制版時，炭粉附著牢固，印刷中不脫落，圖文再現好。只有兩層結構，制備工藝簡便；不僅可用于激光印字機直接制版，也可以用復印機直接制版；另具獨道之處是印刷中不僅可用PS版潤版液，而且可以僅用清水做潤版液；同時制好的版可重復使用多次；可以與專用粘合劑配合而用于大膠印機；可用專用修版膏進行修版；耐印力可達10000～15000印。實施例聚酯膠片厚度80～90μ。在大氣中常壓狀態下，采用電暈放電等離子體處理，條件如下表所示 上述三種處理后的聚酯膠片分別以如下表所列兩種涂料、及工藝條件涂布處理 終產品均可用作激光印字機直接制版膠印版材，其耐印力均在10000～15000印。涂料所用原料均為市購產品。二氧化鈦粒徑小于30μ。權利要求1.一種用于激光印字機直接制版的膠印版材，具有兩層結構，一層為基體層，一層為圖文接受固定層，其特征在于基體層是經等離子體處理的聚酯膠片，圖文接受固定層是以一種專用涂料在基體層上一次涂布、一次成膜獲得的，此專用涂料由下列物質組成二氧化鈦、聚乙烯醇、硫酸鉻鉀、聚羧酸鹽、三羥甲基三聚氰胺、鹽酸和水。2.一種制備權利要求1所述產品的方法，其特征在于在大氣中常壓狀態下，采用電暈放電等離子體處理，放電間隙電壓為10～25千伏，等離子體電源頻率為10～35千赫茲，處理時間4～10秒，聚酯膠片勻速通過等離子體區，然后，表面均勻涂布專用涂料，涂布量為100～200g/m2(濕基)，之后在130℃～150℃下干燥處理4～5分鐘，即得成品；專用涂料重量百分含量為二氧化鈦8～9％，聚乙烯醇4～6％，硫酸鉻鉀0.2～0.4％，聚羧酸鹽0.4～0.6％，三羥甲基三聚氰胺0.6～0.8％，鹽酸0.4～0.6％，水83～86％。3.根據權利要求1或2所述的產品，其特征在于專用于激光印字機直接制版的膠印版材。全文摘要本專利技術涉及，該版材有兩層結構，一層為基體層是改性膠片，另一層為圖文接受固定層，是以專用涂料在基體層上一次涂布、一次成膜而獲得。在大氣中常壓狀態下采用電暈放電等離子體處理膠片，之后，涂布專用涂料成膜。此種版材可用于激光印字機直接制版，也可用復印機直接制版，印刷中不僅可用PS版潤版液，而且可以僅用清水做潤版液。耐印力可達10000～15000印。文檔編號B41N1/00GK1133241SQ941169公開日1996年10月16日 申請日期1994年10月20日 優先權日1994年10月20日專利技術者葛袁靜, 張廣秋, 王東寶, 喬治山, 張迅, 向陽 申請人:北京印刷學院本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于激光印字機直接制版的膠印版材，具有兩層結構，一層為基體層，一層為圖文接受固定層，其特征在于：基體層是經等離子體處理的聚酯膠片，圖文接受固定層是以一種專用涂料在基體層上一次涂布、一次成膜獲得的，此專用涂料由下列物質組成：二氧化鈦、聚乙烯醇、硫酸鉻鉀、聚羧酸鹽、三羥甲基三聚氰胺、鹽酸和水。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：葛袁靜，張廣秋，王東寶，喬治山，張迅，向陽，
申請(專利權)人：北京印刷學院，
類型：發明
國別省市：11[中國|北京]