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    一種制備水溶性納米硅粒子的生產系統技術方案

    技術編號:8482638 閱讀:153 留言:0更新日期:2013-03-28 01:35
    本發明專利技術公開了一種制備水溶性納米硅粒子的生產系統,包括:電化學腐蝕裝置、超聲裝置、紫外線照射裝置、過濾裝置、離心裝置和真空分離裝置。所述的生產系統還包括粒徑測量裝置,所述的粒徑測量裝置為透射電顯微鏡。本發明專利技術操作簡單,適用于制備水溶性較好、無毒且粒徑分布均勻的納米硅粒子,應用前景十分廣泛,具有較好的市場價值和經濟效益。

    【技術實現步驟摘要】

    【技術保護點】
    一種制備水溶性納米硅粒子的生產系統,其特征在于,包括:電化學腐蝕裝置、超聲裝置、紫外線照射裝置、過濾裝置、離心裝置和真空分離裝置,其中,所述的電化學腐蝕裝置包括電化學池、工作電極、參比電極、輔助電極以及光源組成;所述的超聲裝置的是多頻組合超聲裝置,包括支架、夾套、超聲振蕩器;所述的紫外線照射裝置的紫外線發光體由發光波長為256nm的紫外線發光二極管構成;所述的過濾裝置包括納米過濾紙和空氣過濾層,所述的納米過濾紙粘附在空氣過濾紙層表面;所述的離心裝置包括機架座,機夾座上側設置有機殼、機殼頂部設置有上蓋,機架座中設置有動力裝置;在機殼中還設置有轉鼓,轉鼓內設置離心管;所述的真空分離裝置包括真空裝置和分離裝置。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:巢毅敏
    申請(專利權)人:常州諾瑞格納米科技有限公司
    類型:發明
    國別省市:

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