批處理式熱處理裝置的加熱器制造方法及圖紙

本發明專利技術公開了一種批處理式熱處理裝置的加熱器，適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，其特征在于，所述加熱器包括：第一管；第二管，與所述第一管具有規定間隔且圍繞所述第一管；以及發熱體，插入到所述第一管的內部，并且，使冷卻用氣體通過所述第一管和所述第二管之間的空間而流過。根據本發明專利技術，裝載到腔室中的基板被與每個基板相對應的多個加熱器加熱，從而具有能夠對基板的整個面積均勻地進行熱處理的效果。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種批處理式熱處理裝置的加熱器，更詳細地說，涉及一種能夠同時對多個基板的基板整個面積進行均勻熱處理，并且為了在結束熱處理工序之后能夠迅速地冷卻熱處理裝置的腔室內部而使冷卻用氣體流過的批處理式熱處理裝置的加熱器。
技術介紹
在半導體、平板顯示器以及太陽能電池的制造中使用的退火裝置，是對蒸鍍在像硅晶片、玻璃這樣的基板上的規定薄膜進行結晶化、相變化等工序所不可缺少的進行熱處理步驟的裝置。作為代表性的退火裝置，有在制造液晶顯示器或者薄膜型晶體硅太陽能電池時將蒸鍍在玻璃基板上的非晶體硅結晶化為多晶硅的硅結晶化裝置。為了執行如上所述的結晶化工序(熱處理工序)，需要有能夠對形成有規定薄膜的基板進行加熱的熱處理裝置。例如，為了使非晶體硅結晶化至少需要550°C至600°C的溫度。通常，熱處理裝置具有能夠對一個基板進行熱處理的單片式和對多個基板進行熱處理的批處理式。雖然單片式具有裝置的結構簡單的優點，但是存在生產率低的缺點。因此，最近批處理式作為大量生產用而受到矚目。尤其是，最近隨著平板顯示器以及太陽能電池玻璃基板的尺寸大面積化，上述問題更加受到關注。因此，需要開發一種能夠對基板的整個面積進行均勻熱處理的批處理式熱處理裝置。而且，以往的熱處理裝置由于在結束熱處理工序之后將基板從熱處理裝置卸載的步驟需要較長時間，所以存在降低熱處理工序的生產率的問題。這種降低生產率的現象是由于以下原因產生的，即，為了防止熱沖擊所導致的基板損傷，需要在結束熱處理工序之后將腔室內部冷卻至規定溫度以下后才可以卸載基板，因此降低腔室內部溫度的過程需要較長時間。
技術實現思路
因此，本專利技術是為了解決上述現有技術的問題而做出的，其目的在于提供一種適用于批處理式熱處理裝置的加熱器，在對多個基板同時進行熱處理時，基板被與基板相對應的多個加熱器加熱，從而能夠對基板整個面積進行均勻熱處理。還有，本專利技術是為了解決上述現有技術的問題而做出的，其目的在于提供一種適用于批處理式熱處理裝置的加熱器，在結束熱處理工序之后迅速冷卻腔室內部，從而能夠顯著地提高制造平板顯示器或者太陽能電池等時所不可缺少的熱處理工序的生產率。為了達到上述目的，本專利技術涉及的加熱器適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，其中，所述加熱器包括可使冷卻用氣體流向所述加熱器內部的空間。另外，為了達到上述目的，本專利技術涉及的加熱器，適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，其中，所述加熱器包括第一管；第二管，與所述第一管具有規定間隔且圍繞所述第一管；以及發熱體，插入到所述第一管的內部，使冷卻用氣體通過所述第一管和所述第二管之間的空間而流過。也可以是，所述發熱體的兩端部的截面積大于中央部的截面積。也可以是，所述發熱體可以從所述第一管或所述第二管分離。本專利技術涉及的加熱器，適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，所述加熱器包括第一管；線圈型加熱線，纏繞在所述第一管的外周面上而設置；以及第二管，與所述第一管具有規定間隔且圍繞所述第一管，并且，使冷卻用氣體通過所述第一管的中央空間流過。還有，為了達到上述目的，本專利技術涉及的加熱器，適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，所述加熱器包括第一管；線圈型加熱線，纏繞在所述第一管的外周面上而設置；第二管，與所述第一管具有規定間隔且圍繞所述第一管；以及第三管， 與所述第二管具有規定間隔且圍繞所述第二管，并且，使冷卻用氣體通過所述第一管的中央空間、以及所述第二管和所述第三管之間的空間中的至少一個空間流過。也可以是，所述加熱線的間距與所述第一管上的位置無關地相同，或者根據所述第一管上的位置而變化。也可以是，纏繞有所述線圈型加熱線的第一管可以從所述第二管或所述第三管分離。也可以是，在所述第三管的兩端，設有使冷卻所述第三管的冷卻水流過的第一冷卻部。也可以是，在所述第三管的兩端，還設有使冷卻用氣體通過所述第二管和所述第三管之間的空間流過的第二冷卻部。也可以是，所述第一冷卻部包括內部形成有空間的第一主體；使冷卻水流入到所述第一主體的內部空間的冷卻水流入管；以及使流入到所述第一主體的內部空間的冷卻水流出的冷卻水流出管。也可以是，所述第二冷卻部包括在內部形成有空間的第二主體；以及與所述第二主體的內部空間連接的氣體管，其中，所述第二主體的內部空間與所述第二管和所述第三管之間的空間連接。也可以是，本專利技術的加熱器還包括對所述加熱線供給電源的端子部；以及對所述端子部進行絕緣的絕緣部。也可以是，本專利技術的加熱器還包括設置在所述第二管的端部且與所述加熱線連接的固定帽。也可以是，所述端子部包括設置在所述第一管上且與外部的電源連接的導電管； 以及使所述導電管與所述加熱器的固定帽緊密接合的固定螺母。也可以是，所述絕緣部包括內部形成有空間且圍繞所述端子部的絕緣帽，在所述絕緣帽的一側形成有孔。根據本專利技術，裝載到腔室中的基板被與每個基板相對應的多個加熱器加熱，從而具有能夠對基板的整個面積均勻地進行熱處理的效果。另外，根據本專利技術，能夠同時對多個基板進行熱處理，因此，具有提高平板顯示器以及太陽能電池的生產率的效果。另外，根據本專利技術，由于在加熱器內部具有冷卻用氣體流過的空間，因此在結束熱處理工序之后能夠迅速冷卻熱處理裝置的腔室內部，從而縮短卸載基板過程所需的時間， 具有顯著地提高制造平板顯示器或者太陽能電池等時所不可缺少的熱處理工序的生產率的效果。附圖說明圖I以及圖2是表示本專利技術的一實施例涉及的批處理式熱處理裝置結構的立體圖3是表示本專利技術的一實施例涉及的批處理式熱處理裝置的基板、主加熱單元以及輔助加熱單元的配置狀態的立體圖4是表示本專利技術的一實施例涉及的批處理式熱處理裝置的晶舟結構的立體圖5是表示本專利技術的一實施例涉及的批處理式熱處理裝置的氣體供給管和氣體排出管結構的立體圖6是表示圖5的氣體供給管結構的示意圖7和圖8是本專利技術的一實施例涉及的批處理式熱處理裝置的單位主加熱器的排列狀態的示意圖9是表示本專利技術的一實施例涉及的加熱器結構的立體圖10和圖11是表示本專利技術的另一實施例涉及的加熱器結構的截面立體圖以及截面圖12是表示本專利技術的一實施例涉及的加熱器端部上設置有第一冷卻部以及第二冷卻部、端子部以及絕緣部的狀態的示意圖13是表示在本專利技術的一實施例涉及的加熱器端部設置的第一冷卻部以及第二冷卻部結構的分解立體圖14是表示在本專利技術的一實施例涉及的加熱器端部設置的端子部以及絕緣部結構的分解立體圖15、圖16以及圖17是表示本專利技術的一實施例涉及的導電管結構的示意圖18以及圖19是表示本專利技術的一實施例涉及的第一保護螺母結構的示意圖20、圖21以及圖22是本專利技術的一實施例涉及的第二保護螺母結構的示意圖23、圖24以及圖25是表示本專利技術的一實施例涉及的絕緣帽結構的示意圖26以及圖27是表示本專利技術的另一實施例涉及的加熱器結構的剖視立體圖以及剖視圖。附圖標記I :熱處理裝置；10 :基板；12 :支架；100 :腔室；102 :框架；106 :蓋子；120 :主加熱單元；140b :第二輔助加熱單元；150b :第二單位輔助加熱器170 :氣體排出管；200 :單位主加熱器；220a、220b :第一管；104 門；108 :晶舟；140a :第一輔助加熱單元； 150a :第一單本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種批處理式熱處理裝置的加熱器，適用于可同時對多個基板進行熱處理的批處理式熱處理裝置，其特征在于，所述加熱器包括可使冷卻用氣體流向所述加熱器內部的空間。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：許官善，康浩榮，
申請(專利權)人：泰拉半導體株式會社，
類型：發明
國別省市：