一種彩色濾光片的制作方法技術

本發明專利技術涉及液晶顯示技術，公開了一種彩色濾光片的制作方法，該方法包括以下步驟：S1、在襯底基板上形成黑色矩陣涂層；S2、在具有黑色矩陣涂層的襯底基板上形成像素區域的開口，涂覆像素樹脂，并以形成有開口的黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光并顯影，在所述像素區域內形成彩色的像素樹脂層。本發明專利技術達到了黑色矩陣涂層和像素樹脂層的緊密連接，使得在像素樹脂層的制作過程中無需進行對位，有利于避免黑色矩陣和像素樹脂層之間因曝光對位精度而產生的漏光現象，進一步地有利于減小或避免黑色矩陣和像素樹脂層之間的段差，像素樹脂層與黑色矩陣之間無重疊，避免了牛角狀區域的形成，提高彩色濾光片的平整度。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及液晶顯示
，特別是涉及。
技術介紹
隨著薄膜晶體管液晶顯示器(TFT-IXD)技術的發展，其成本的降低和制造工藝的進一步完善，使其成為平板顯示領域的主流技術。TFT-LCD由彩色濾光片和陣列基板對盒而成，彩色濾光片主要為TFT-LCD提供色彩。現有技術所制備的彩色濾光片如圖I所示，包括襯底基板I、黑色矩陣2、像素樹脂層3和柱狀隔墊物4。首先在襯底基板I上形成黑色矩陣2，然后在此基礎上分別形成紅色、 綠色和藍色像素樹脂層3，最后形成柱狀隔墊物4。現有技術在曝光工序中對位稍有偏差就會導致像素樹脂層與黑色矩陣2之間不是緊密相接，造成漏光。為了避免漏光現象，需增大像素樹脂層和黑色矩陣2的重疊部分， 導致形成牛角狀區域5，影響彩色濾光片的平整度，如圖I中所示。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本專利技術要解決的技術問題是如何避免彩色濾光片形成牛角狀區域，以提高彩色濾光片的平整度。(二)技術方案為了解決上述技術問題，本專利技術提供，包括以下步驟SI、在襯底基板上形成黑色矩陣涂層；S2、在具有黑色矩陣涂層的襯底基板上形成像素區域的開口，涂覆像素樹脂，并以形成有開口的黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光并顯影，在所述像素區域內形成彩色的像素樹脂層，同時在彩色的像素樹脂層之間形成黑色矩陣。進一步地，所述步驟SI中黑色矩陣涂層的形成方法為采用濺射、涂覆或蒸鍍方式在襯底基板上形成黑色矩陣涂層。進一步地，所述黑色矩陣涂層的材質為鉻金屬或氧化鉻。進一步地，每一種顏色的像素樹脂層對應于一個顏色的像素區域。進一步地，步驟S2中每形成一種顏色的像素區域后形成一種顏色的像素樹脂層， 然后重復該過程依次形成其它顏色的像素樹脂層。進一步地，所述步驟S2中像素區域的形成方法為在具有黑色矩陣涂層的襯底基板上形成一層正性光刻膠，通過曝光、顯影的方式去除一種顏色的像素區域的光刻膠，并刻蝕去除該像素區域中的黑色矩陣涂層，最后去除其余的正性光刻膠。進一步地，在先形成的像素樹脂層的像素樹脂中加入紫外吸收劑。進一步地，所述紫外吸收劑為水楊酸酯類、苯酮類、苯并三唑類、取代丙烯腈類、三嗪類和受阻胺類中的一種或幾種。進一步地，在形成下一個像素樹脂層時采用紫外線濾光鏡將前面已形成的像素樹脂層覆蓋。進一步地，所述步驟S2之后還包括步驟S3、在形成彩色的像素樹脂層后形成透明保護層。(三)有益效果上述技術方案所提供的，采用黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光形成像素樹脂層，達到了黑色矩陣和像素樹脂層之間的緊密連接；一方面， 省去了掩模板的成本費，節約了成本，提高了良品率；另一方面，采用黑色矩陣涂層作為掩膜板，在像素樹脂層的制作過程中無需進行對位，降低了工藝難度，有利于避免黑色矩陣和像素樹脂層之間因曝光對位精度而產生的漏光現象，進一步地有利于減小或避免黑色矩陣和像素樹脂層之間的段差，像素樹脂層與黑色矩陣之間無重疊，避免了牛角狀區域的形成， 提高彩色濾光片的平整度。附圖說明圖1是現有技術彩色濾光片的結構示意圖2是本專利技術一種實施例完成步驟SP后的結構示意圖圖3為本專利技術一種實施例完成步驟S2'后的結構示意圖 圖4為本專利技術一種實施例完成步驟S3'后的結構示意圖圖5為本專利技術一種實施例完成步驟Sf后的結構示意圖圖6為本專利技術一種實施例完成步驟S5'后的結構示意圖圖7為本專利技術一種實施例的彩色濾光片的結構示意圖。其中，I、襯底基板；2、黑色矩陣；3、像素樹脂層；4、隔墊物；5、牛角狀區域；6、像素區域；7、透明保護層。具體實施方式下面結合附圖和實施例，對本專利技術的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本專利技術，但不用來限制本專利技術的范圍。如圖2-7所示，本專利技術的，包括步驟SI、在襯底基板I上形成黑色矩陣涂層；具體為在為玻璃、石英、透明樹脂等材質的襯底基板I上形成黑色矩陣涂層。具體地該黑色矩陣涂層的形成方法為可采用濺射、涂覆或蒸鍍方式在襯底基板I上形成黑色矩陣涂層。其中，黑色矩陣涂層的材質為鉻金屬或氧化鉻。本實施例的黑色矩陣涂層還可以由其它可以產生黑色矩陣涂層的金屬或金屬氧化物制成。該黑色矩陣涂層的厚度為 O. 5-2 μ m之間的任意一個數值，優選為1-1. 5 μ m。步驟S2、在具有黑色矩陣涂層的襯底基板I上形成像素區域的開口 ；涂覆像素樹脂，并以形成有開口的黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光并顯影，在像素區域內形成彩色的像素樹脂層3，同時在彩色的像素樹脂層之間形成黑色矩陣2 ；具體為在完成步驟SI后，在具有黑色矩陣涂層的襯底基板I上形成像素區域的開口，涂覆像素樹脂，并以形成有開口的黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光并顯影，在像素區域內形成彩色的像素樹脂層3，該彩色的像素樹脂層3至少具有三種顏色，同時在該三種顏色的像素樹脂層之間形成黑色矩陣2。上述步驟S2中，像素區域的形成方法為在具有黑色矩陣涂層的襯底基板I上形成一層正性光刻膠，通過曝光、顯影的方式去除一種顏色的像素區域的光刻膠，并刻蝕去除該像素區域中的黑色矩陣涂層，最后去除該像素區域以外剩余的正性光刻膠。其中，形成一層正性光刻膠可以采用涂覆等方式；去除剩余的正性光刻膠可以采用灰化工藝、剝離工藝等方法。上述步驟S2中，像素樹脂層3的形成方法為首先涂覆像素樹脂，然后以黑色矩陣涂層作為掩膜板通過背面曝光并顯影而形成像素樹脂層3。具體地，本實施例中每一種顏色的像素樹脂層3對應于一個顏色的像素區域。更具體地，像素區域內的 黑色矩陣涂層分步去除，依次分步形成不同彩色的像素樹脂層3，具體為首先在具有黑色矩陣涂層的襯底基板I上形成一層正性光刻膠，通過曝光、顯影的方式去除一種顏色的像素區域的正性光刻膠，并刻蝕去除該像素區域中的黑色矩陣涂層，最后去除剩余的正性光刻膠，然后涂覆一種顏色的像素樹脂，以黑色矩陣涂層作為掩膜板通過背面曝光并顯影而形成的該種顏色的像素樹脂層3 ;重復上述的步驟依次形成其它顏色的像素樹脂層。本實施例中采用黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光形成彩色的像素樹脂層 3，達到了黑色矩陣和像素樹脂層3之間的緊密連接，一方面，不僅解決了現有彩色濾光片生產技術中由于像素樹脂無法完全填充黑色矩陣所限定的像素區域所造成的漏光現象，提高了產品的良品率，降低了生產成本，而且采用此種方法形成的像素樹脂層3與黑色矩陣之間無重疊，避免了牛角狀區域的形成，提高了彩色濾光片的平整度，進而提高了彩色濾光片的濾光效果。另一方面，采用黑色矩陣涂層作為掩膜板，在像素樹脂層3的制作過程中無需進行對位，降低了工藝難度。其中，像素樹脂層3的厚度為1-5 μ m之間的任意一個數值，例如，具體可以為1. 5、 2、2. 5、3、3. 5、4、4. 5、5um。進一步地，為了避免在先形成的像素樹脂層上殘留有后形成的像素樹脂層，可采用以下A、B兩種方式A、可在先形成的像素樹脂層的像素樹脂中加入紫外吸收劑；具體為在將要用于形成像素樹脂層的像素樹脂中添加紫外吸收劑，加入到像素樹脂中可部分替代引發劑，在制備像素樹脂的過程中直接加入，分散均勻即可；上述紫外吸收劑可以為水楊酸酯類、苯酮類、苯并三唑類、取代丙烯腈類、三嗪類和受阻胺類中的一種或幾種；受阻胺類是一種光穩定劑，為具有空間位阻效應的哌啶衍生物。例如二苯甲酮(苯酮類)、水楊酸苯酯(水楊酸酯類)等是紫外線吸收劑和引本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種彩色濾光片的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：S1、在襯底基板上形成黑色矩陣涂層；S2、在具有黑色矩陣涂層的襯底基板上形成像素區域的開口，涂覆像素樹脂，并以形成有開口的黑色矩陣涂層作為掩膜板進行背面曝光并顯影，在所述像素區域內形成彩色的像素樹脂層，同時在彩色的像素樹脂層之間形成黑色矩陣。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：陸金波，張卓，劉宸，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：