彩色濾光片的制造方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)涉及一種彩色濾光片的制造方法，包括：提供一基板；在所述基板上形成黑矩陣層；在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩膜形成至少一第一濾光圖案；在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩膜形成至少一第二濾光圖案；在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩膜形成至少一第三濾光圖案；其中，所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及，特別是涉及一種共用同一掩膜實(shí)現(xiàn)具有紅(R)，綠(G)，藍(lán)(B)三原色的濾光層的制造方法。
技術(shù)介紹
液晶顯示裝置已被廣泛應(yīng)用于人類的生活和工作中，其中液晶顯示裝置的液晶面板攸關(guān)到液晶顯示裝置的顯示效果，包括視角、明暗程度以及顏色等。主流的薄膜晶體管液晶裝置(TFT-1XD)，其生產(chǎn)流程主要是通過曝光和掩模實(shí)現(xiàn)，由于液晶裝置屬于被動發(fā)光顯示模式，其基板包括彩色濾光片和薄膜晶體管陣列兩個部分，雖然目前發(fā)展有一種彩色濾光片陣列基板(Color film On Array, C0A)設(shè)計,但由于COA工藝較為復(fù)雜，良率也較低，因此主流的技術(shù)仍為彩色濾光片和薄膜晶體管陣列基板分離的結(jié)構(gòu)。上述薄膜晶體管陣列基板主要包括數(shù)據(jù)線、掃描線、薄膜晶體管開關(guān)、像素電極、外圍電路等；而彩色濾光片基板上主要包括黑矩陣(Black Matrix，BM)、紅(R)，綠(G)，藍(lán)(B)三原色的濾光層等。由于液晶面板是通過改變驅(qū)動集成芯片的電壓來控制液晶分子的排列狀態(tài)，決定背光源的開關(guān)，經(jīng)由濾光層形成不同色光，從而創(chuàng)造出各種色彩，可使液晶顯示器呈現(xiàn)逼真，鮮艷的畫面，因此彩色濾光片為液晶顯示器的關(guān)鍵組件。傳統(tǒng)的彩色濾光片生產(chǎn)至少需要下列5道掩膜(Mask)如下:在玻璃基板上以濺鍍樹脂層膜以形成黑矩陣、接著在黑矩陣之間的開口部形成紅色濾光圖案、重復(fù)上述步驟再依序形成綠色濾光圖案、藍(lán)色濾光圖案、最后再形成間隙層(Photo Spacer, PS),而垂直配向液晶顯示器(Mult1-domain Vertical Alignment, MVA IXD)更需要通過六道掩膜:黑矩陣、紅色濾光圖案、綠色濾光圖案、藍(lán)色濾光圖案、共用電極、間隙層才能實(shí)現(xiàn)。其中，上述紅色濾光圖案、綠色濾光圖案與藍(lán)色濾光圖案必須使用三張不同的掩膜，依序進(jìn)行三次曝光、顯影等步驟而完成，如圖1至3所示，先利用第一張掩膜11形成紅色濾光圖案110之后,利用第二張掩膜12形成綠色濾光圖案120，再利用第三張掩膜13形成藍(lán)色濾光圖案130。由于在現(xiàn)有技術(shù)中，形成紅色濾光圖案、綠色濾光圖案與藍(lán)色濾光圖案必須利用三張不同的掩膜而完成，因此生產(chǎn)成本高，花費(fèi)時間長。故，有必要提供一種彩色濾光片基板的制造方法，以解決現(xiàn)有技術(shù)所存在的問題。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
有鑒于此，本專利技術(shù)的目的在于提供一種，特別是一種共用同一掩膜實(shí)現(xiàn)具有紅(R)，綠(G)，藍(lán)(B)三原色濾光層的制造方法以降低掩膜成本。為實(shí)現(xiàn)本專利技術(shù)目的，提供一種彩色濾光片的制造方法如下:提供一基板；在所述基板上形成黑矩陣層；在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案；在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案；在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中，所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，所述彩色濾光片的制造方法還可包括:在設(shè)置有所述黑矩陣層、第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的基板上，形成一保護(hù)層；在所述保護(hù)層的上方形成一公用電極層；以及在所述公用電極層上方形成一間隙層。本專利技術(shù)的特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上，所述在形成有所述黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第一濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第一光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影以形成第一濾光圖案。接著，在所述形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層以及所述第一濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第二光阻材料，所述第二光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第二濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第二光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影以形成第二濾光圖案。以及，在所述形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案包括:清洗設(shè)置有所述黑矩陣層、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第三光阻材料，所述第三光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第三濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)；將涂覆有所述第三光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影以形成第三濾光圖案。所述第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料為有機(jī)負(fù)型光阻。所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別為紅光、綠光、藍(lán)光圖案。在本專利技術(shù)的一實(shí)施例中，提供一種由上述制造方法所完成的彩色濾光片，所述彩色濾光片包括:基板；多個黑矩陣，設(shè)置于所述基板上；以及多個不同顏色的濾光圖案，直列并列于所述基板上且每一所述濾光圖案設(shè)置于兩相鄰的所述黑矩陣之間。在本專利技術(shù)的另一實(shí)施例中，所述彩色濾光片還可包括:一保護(hù)層，設(shè)置于所述黑矩陣與所述多個不同顏色的濾光圖案上方；一公用電極層，設(shè)置于所述保護(hù)層上方；以及一間隙層，設(shè)置于所述公用電極層上方。由于本專利技術(shù)所述的掩膜可根據(jù)第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案不同的透光光譜，選擇第一光阻材料、所述第二光阻材料以及所述第三光阻材料的感光頻率，因此所述第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案可共用同一張掩膜，進(jìn)而減少兩張掩膜量，簡化彩色濾光片的制程并且降低液晶顯示裝置的生產(chǎn)成本。為讓本專利技術(shù)的上述內(nèi)容能更明顯易懂，下文特舉優(yōu)選實(shí)施例，并配合所附圖示，做詳細(xì)說明如下:【附圖說明】圖1為現(xiàn)有技術(shù)的第一濾光圖案制造工藝示意圖。圖2為現(xiàn)有技術(shù)的第二濾光圖案制造工藝示意圖。圖3為現(xiàn)有技術(shù)的第三濾光圖案制造工藝示意圖。圖4為本專利技術(shù)彩色濾光片的制造流程圖。圖5為本專利技術(shù)的黑矩陣制造工藝示意圖。圖6為本專利技術(shù)的第一濾光圖案制造工藝示意圖。圖7為本專利技術(shù)的第二濾光圖案制造工藝示意圖。圖8為本專利技術(shù)的第三濾光圖案制造工藝示意圖。圖9為本專利技術(shù)第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的紫外線穿透率光譜圖。圖10為本專利技術(shù)第一濾光圖案、第二濾光圖案以及第三濾光圖案的感光頻率圖。圖11為本專利技術(shù)一實(shí)施例的彩色濾光片的結(jié)構(gòu)剖面圖。圖12為本專利技術(shù)另一實(shí)施例的彩色濾光片的結(jié)構(gòu)剖面圖。【具體實(shí)施方式】以下各實(shí)施例的說明是參考附圖，用以式例本專利技術(shù)可以用以實(shí)施的特定實(shí)施例。本專利技術(shù)所提到的方向用語，例如「上」、「下」、「前」、「后」、「左」、「右」、「內(nèi)」、「外」、「偵愐」等，僅是參考附加圖式的方向。因此，使用的方向用語是用以說明及理解本專利技術(shù)，而非用以限制本專利技術(shù)。請參照圖4，顯示本專利技術(shù)第一優(yōu)選實(shí)施的彩色濾光片的制造流程圖。在本實(shí)施例中，所述彩色濾光片10可透過顏料分散法(Pigment Dispersed Method)所形成,具體步驟如下:步驟S1:提供一基板50，所述基板50為透明玻璃基板。步驟S2:請參照圖5，在所述基板50上形成黑矩陣層51，具體可包括:步驟S211，通過裂縫式或旋轉(zhuǎn)式涂覆本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟：提供一基板；在所述基板上形成黑矩陣層；在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案；在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案；在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述制造方法包括以下步驟: 提供一基板； 在所述基板上形成黑矩陣層； 在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案； 在形成有所述黑矩陣以及所述第一濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第二濾光圖案； 在形成有所述黑矩陣、所述第一濾光圖案以及所述第二濾光圖案的基板上，通過所述掩模形成至少一第三濾光圖案；其中 所述掩膜具有與所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案分別對應(yīng)的不同的透光光譜。2.根據(jù)權(quán) 利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括: 將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外線曝光機(jī)，將一具有黑矩陣圖案的掩模設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對所述黑色光阻材料進(jìn)行曝光； 利用顯影劑對所述黑色光阻材料進(jìn)行顯影蝕刻，以形成多個黑矩陣層。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述在所述基板上形成黑矩陣層包括: 以蒸鍍或?yàn)R鍍方式于基板上形成鉻或鉻合金的薄膜； 將一黑色光阻材料涂覆在所述基板上； 利用紫外線曝光機(jī)，將一具有黑矩陣圖案的掩模設(shè)置于所述黑色光阻材料上方，對所述黑色光阻材料進(jìn)行曝光； 利用顯影劑對所述黑色光阻材料進(jìn)行顯影蝕刻； 利用去除劑將所述黑色光阻材料去除，以形成多個黑矩陣層。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述彩色濾光片的制造方法，其特征在于，所述第一濾光圖案、所述第二濾光圖案以及所述第三濾光圖案具有不同的顏色且直列并排在所述基板上，所述在形成有黑矩陣層的基板上，通過一掩模形成至少一第一濾光圖案包括: 清洗設(shè)置有所述黑矩陣層的所述基板，并且在清洗后的所述基板上涂覆第一光阻材料，所述第一光阻材料的感光頻率落于所述掩模的對應(yīng)于所述第一濾光圖案的透光光譜的范圍內(nèi)； 將涂覆有所述第一光阻材料的所述基板進(jìn)行紫外線曝光以及顯影，以形成第一濾光圖案。5.根據(jù)權(quán)利要求...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：徐向陽，
申請(專利權(quán))人：深圳市華星光電技術(shù)有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：廣東;44