【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及化工領域中一種染料及其合成過程,尤其涉及。
技術介紹
方酸菁染料具有優異的存儲性能,獨特的光學性能及尚待開發的近紅外吸收性能,是一類具有優異光學性能的吸收染料。由于方酸菁染料在近紅外光區的吸收峰峰寬窄,吸收強度大,可以用來制備激光防護涂層,對抗激光偵察技術。自1959年Cohen S.在美國化學會志J. A. C. S報道合成出新化合物方酸以來,以它為原料與其他化合物的活性集團縮合得到了大量方酸菁染料,該類染料的研究發展十分迅速。目前大量關于方酸菁染料研究的文獻多集中在方酸問世后的幾年和近幾年。雖然早在1968年,Teribs和Jakob就合成了非對稱型方酸菁染料,但由于合成困難,關于這類染料的研究一直較少。近年來,基于方酸菁染料結構變化和功能改進的需要,方酸菁的研究日漸活躍。北京防化研究院楊小兵等制得了含喹喔啉環的方酸菁染料;楊成等研究了多臂方酸菁的合成方法;北京感光化學研究所林童探索了高溶解性方酸菁染料的合成,并研究了其光譜特性;上海交通大學陳建國合成了含叔丁基的吡喃鎗方酸菁染料;大連理工大學精細化國家重點實驗室宋波研究了新型水溶性熒光標示劑吲哚方酸菁染料的合成及光譜性能。現有的技術方案中,中間體的合成需要在反應過程中加料,使得操作比較麻煩。方酸菁染料的合成制備方法有經典縮合法和微波激勵合成法,它們的裝置都比較復雜;合成過程中要時刻進行監控,使得操作相當繁瑣;反應條件苛刻,不易于控制;產率低,這些都增加了合成成本,而且不容易得到高質量的產品。因此,現有技術存在染料吸收強度小,穩定性差以及合成過程中原料用量大,操作步驟繁瑣,反應條件苛刻, ...
【技術保護點】
一種吲哚方酸菁染料,其特征在于:所述吲哚方酸菁染料的結構通式為:????????????????????????????????????????????????其中,X為Br、Cl和I的任一種;R為以下結構的任一種:、、、、。759694dest_path_image001.jpg,985883dest_path_image002.jpg,567037dest_path_image003.jpg,89154dest_path_image004.jpg,818075dest_path_image005.jpg,834573dest_path_image006.jpg
【技術特征摘要】
...
【專利技術屬性】
技術研發人員:趙宏,劉棟,張娟鳳,
申請(專利權)人:深圳市美凱特科技有限公司,
類型:發明
國別省市:
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