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    增強的圖形防滑地面標識制造技術

    技術編號:8369210 閱讀:308 留言:0更新日期:2013-02-28 19:46
    本發明專利技術提供一種地面標志,其包括:A.包括頂面表面和底面表面的安裝粘合層;B.圖形層,包括:(1)暗區和亮區,和(2)頂面表面和底面表面,所述圖形層的底面表面與所述安裝粘合層的頂面表面直接接觸;D.包括頂面表面和底面表面的覆膜層,所述覆層的底面表面與所述圖形層的頂面表面直接接觸;以及E.包括頂面表面和底面表面的防滑層,所述防滑層的底面表面與所述覆層的頂面表面直接接觸,前提是所述防滑層與所述圖形層的所述暗區重合。

    【技術實現步驟摘要】
    【國外來華專利技術】
    本專利技術涉及地面標識。在一方面,本專利技術涉及示出耐久的、可識別的圖形的地面標識,而在另一方面,本專利技術涉及示出防滑特性的地面標識。2.相關技術描述期望在工廠中使用將耐受工業條件下的重型交通的耐久性地面標記標志。重型交通的例子包括叉車、手車和/或托盤千斤頂(pallet jack)的車輪在標志上直行、轉向或轉動;清潔洗漆器(cleaning scrubber)從標志去除污物;剎車拖曳通過標志;嵌入車輪或其它物體的金屬刮片或碎片通過標志;以及標志上頻繁的步行交通。帶應當易于沿直線安裝,能夠重新定位但仍形成足夠高的粘合性。通常,標志僅用于室內應用,可以使用多種顏色, 并且能夠印刷有多種圖形,如交通警示、滅火器位置等。市場上的現有產品是通過將合適的圖形印刷到帶或其它基材上,然后用耐久的上覆層(over-laminate)或者用涂層來保護圖形而制成的。為了工業應用并使其特別明顯,標志傾向于是大的,因此與平均鞋的大小相比其占據了顯著量的地面面積。因此,需要為標志制造這樣的頂層,該頂層提供牽引力以防止可能由滑倒或絆倒以及跌倒引起的損傷。如通過多種方法(例如可變傾角摩擦計)所測量的,雖然大多數潔凈的、干燥的表面具有相當程度的防滑性,但是許多表面在濕的時候將會變滑。在濕表面上保持高防滑性的常用方法是在表面上提供粗糙結構。這使得在高點產生牽引力,而液體在低點積累并排走。這通過在表面中賦予某種程度的紋理來完成。通常通過壓紋、打磨或在膜或涂層中包含顆粒來施加紋理。可以通過增加膜的順度(compliance)(柔軟度,softness),以及在高點上引起一些壓縮來增強壓紋膜上的牽引力。粗糙表面的缺點是非平滑表面傾向于積累工廠地面上非常常見的污物。該污物在地面標志的表面留下痕跡或者通過其他方法與地面標志的表面直接接觸,并且其通過嵌入軟涂層或膜和/或進入并留存在膜上的裂縫和低點中而在標志上積累。這導致地面圖形很快被污物湮沒,從而無法行使其提供信息的功能。專利技術概述在一個實施方案中,本專利技術是一種地面標志,其包括A.包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的安裝粘合層或第一粘合層;B.包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的任選的防粘襯里,防粘襯里的頂面表面與粘合層的底面表面直接接觸;C.圖形層,其包括(1)暗區和亮區,和(2)頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面,圖形層的底面表面與安裝粘合層的頂面表面直接接觸;D.包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的半透明的(優選透明的)覆膜層或第一膜層,覆層的底面表面與圖形層的頂面表面直接接觸;和E.包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的防滑層,防滑層的底面表面與覆層的頂面表面直接接觸,前提是防滑層施加于覆層以基本上只覆蓋圖形層的暗區。在一個實施方案中,包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的任選層合粘合層或第二粘合層位于圖形層與覆層之間,使得層合粘合層的底面表面與圖形層的頂面表面直接接觸,層合粘合層的頂面表面與覆層的底面表面直接接觸。在一個實施方案中,包括頂面表面或第一面表面和底面表面或第二面表面的任選基材層或第二膜層位于安裝粘合層與圖形層之間,使得基材層的底面表面與安裝粘合層的頂面表面直接接觸,基材層的頂面表面與圖形層的底面表面直接接觸。在一個實施方案中(如圖IB所示),任選的基材層位于安裝粘合層與圖形層之間,使得基材層的底面表面與安裝粘合層的頂面表面直接接觸,基材層的頂面表面與圖形層的底面表面直接接觸;任選的層合粘合層位于圖形層與覆層之間,使得層合粘合層的底面表面與圖形層的頂面表面直接接觸,層合粘合層的頂面表面與覆層的底面表面直接接觸。在一個實施方案中(如圖IC所不),任選的基材層位于安裝粘合層與任選的層合粘合層之間,使得基材層的底面表面與安裝粘合層的頂面表面直接接觸,基材層的頂面表面與任選的層合粘合層的底面表面直接接觸;圖形層位于任選的層合粘合層與覆層之間,使得圖形層的底面表面與任選的層合粘合層的頂面表面直接接觸,圖形層的頂面表面與覆層的底面表面直接接觸。在一個實施方案中,任選的基材層是白色的膜,優選為白色的聚酯膜。在一個實施方案中,基材膜層被處理以增強其對圖形層的接受性和粘合性。在一個實施方案中,圖形層反印(reverse print)于半透明覆層的底面表面。在一個實施方案中,圖形層的暗區包含黑墨。在一個實施方案中,覆膜是半透明的聚酯膜,其頂面表面被處理以增強其對防滑層的接受性和粘合性。在一個實施方案中,防滑層印刷于覆膜。附圖簡要說明 參照附圖對本專利技術進行一般性描述,附圖的目的僅是說明某些實施方案而非限制本專利技術的范圍。在附圖中,使用相同的附圖標記來表示本專利技術中相同的部分。圖IA是本專利技術的地面標志的一個實施方案的示意性側視圖,該實施方案包括任選的防粘襯里、任選的防粘襯里上方的安裝粘合層、安裝粘合層上方的圖形層、圖形層上方的透明覆層、透明覆層上方的防滑層。圖IB是圖IA的實施方案的示意性側視圖,該實施方案進一步包括位于安裝粘合層與圖形層之間的任選的基材層和位于圖形層與透明覆層之間的任選的層合粘合層。圖IC是圖IA的實施方案的示意性側視圖,該實施方案進一步包括位于安裝粘合層上方的任選的基材層和位于基材層與圖形層之間的任選的層合粘合層。圖2A是傳達洗眼處(eye wash station)的方向的地面標志的一個實施方案的俯視圖。圖2B是傳達滅火器的方向之地面標志的一個實施方案的俯視圖。圖2C是傳達交通控制信息的地面標志的一個實施方案的俯視圖。優選實施方案詳述“面表面”、“平面表面”、“頂表面”、“底表面”等用來與“邊緣表面”相區別。如果形狀或構造為長方形,則標志將包括兩個相對的面表面,這兩個面表面由四個邊緣表面(兩對相對的邊緣表面,一對與另一對以直角相交)相連接。如果構造為圓形,則標志將包括兩個相對的面表面,這兩個面表面由一個連續的邊緣表面相連接。“墨”及類似術語指能夠包含并且通常確實包含染料和/或顏料的可涂覆的或者可印刷的配制物。“染料”及類似術語指以分子地分散的(溶解的)形式存在的可見光吸收化合物。“顏料”及類似術語指以非分子地分散的(顆粒)形式存在的可見光吸收材料或化合物。“圖形”、“圖像”及類似術語指由墨或其它染料或顏料物質形成的文字或圖像表示物。圖形包括但不限于文字、數字、條形碼、圖片、設計(幾何的或其它的)和純色(通常通過流涂來施加)。·本專利技術的上下文中所使用的“半透明的”包括透明的。參照附圖對本專利技術進行一般性描述,附圖的目的僅是說明某些實施方案而非限制本專利技術的范圍。在附圖中,使用相同的附圖標記來表示本專利技術中相同的部分。圖IA是本專利技術的一個實施方案的示意性側視圖。地面標志IOA包括安裝粘合層11,安裝粘合層11的頂面表面Ila與圖形層13的底面表面13b直接接觸。圖形層13的頂面表面13a與覆層14的底面表面14b直接接觸,覆層14的頂面表面14a與防滑層15的底面表面15b直接接觸。防滑層15僅施加于覆層14的與圖形層13的暗區13c重合(coincident)的那些區域。在圖形層的暗區和防滑層的上下文中所使用的“重合”指不管存在或不存在任何中間層(例如,層合粘合層),防滑層與圖形層的暗區基本疊合。因此,覆層14的在本文檔來自技高網...

    【技術保護點】

    【技術特征摘要】
    【國外來華專利技術】2010.06.04 US 12/794,1081.一種地面標志,其包括 A.包括頂面表面和底面表面的安裝粘合層; B.包括頂面表面和底面表面的任選的防粘襯里,所述防粘襯里的所述頂面表面與所述粘合層的所述底面表面直接接觸; C.圖形層,其包括(I)暗區和亮區,和(2)頂面表面和底面表面,所述圖形層的所述底面表面與所述安裝粘合層的所述頂面表面直接接觸; D.包括頂面表面和底面表面的覆膜層,所述覆膜層的所述底面表面與所述圖形層的所述頂面表面直接接觸;和 E.包括頂面表面和底面表面的防滑層,所述防滑層的所述底面表面與所述覆膜層的所述頂面表面直接接觸,前提是所述防滑層施加于所述覆膜層以基本上只覆蓋所述圖形層的所述暗區。2.根據權利要求I所述的地面標志,還包括層合粘合層,所述層合粘合層包括頂面表面和底面表面,并且所述層合粘合層位于所述圖形層與所述覆膜層之間,使得所述層合粘合層的所述底面表面與所述圖形層的所述頂面表面直接接觸,并且所述層合粘合層的所述頂面表面與所述覆膜層的所述底面表面直接接觸。3.根據權利要求I所述的地面標志,還包括基材層或第二膜層,所述基材層或第二膜層包括頂面表面和底面表面,所述基材層位于所述安裝粘合層與所述圖形層之間,使得所述基材層的所述底面表面與所述安裝粘合層的所述頂面表面直接接觸,并且所述基材層的所述頂面表面與所述圖形層的所述底面表面直接接觸。4.根據權利要求I所述的地面標志,還包括 (i)基材層,所述基材層位于所述安裝粘合層與所述圖形層之間,使得所述基材層的底面表面與所述安裝粘合層的所述頂面表面直接接觸,并且所述基材層的頂...

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:邁克爾·D·薩瓦吉安史蒂文·H·梅斯
    申請(專利權)人:貝迪國際集團
    類型:
    國別省市:

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