XYθ精密對位平臺制造技術

本實用新型專利技術涉及一種XYθ精密對位平臺，包括：一XY軸移動平臺，包括：一X軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；一Y軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；所述X軸移動平臺及Y軸移動平臺為層疊組合；一θ角回動平臺，包括:一平臺；一圓弧形齒排，其設于平臺的底部；一滑軌元件，其結合至少一滑塊；一蝸桿結構，其與圓弧形齒排嚙合；所述滑軌元件及蝸桿結構對應設于所述XY軸移動平臺的承載面；所述θ角回動平臺層疊設置于XY軸移動平臺承載面，且所述滑塊對應結合于平臺的底部；本實用新型專利技術通過控制其蝸桿結構傳動該圓弧形齒排，可以精密地令該θ角回動平臺進行θ角精密回動，回動角度更是可達360°，機體厚度更是只有4層，達成薄形化的產品目標。?（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

XY θ精密對位平臺
本技術屬于對位平臺領域，特別涉及一種可以達成360°回動、薄形化、高精密度的XY θ精密對位平臺。
技術介紹
在各種液晶面板制造、檢查設備、半導體制造、檢查設置、網印設備或印刷電路板制造、檢查設備中，必須使用對位平臺進行對位移動等程序，而為了提高精密度，除X軸、Y 軸的移動外，除以伸縮元件達成XY軸的移動外，更應具備θ角移動功能，方能達成高精密度的要求；但已知市售同性質產品中，號稱具有Θ角回動功能，實則僅以XXY軸或XYY軸結構間接達成，顯然并不是真正的Θ角回動；而其回動角度亦受到限制，例如普遍均只能達到±5°范圍內；且元件復雜，層疊組合后達到6層的厚度，不符合設備元件輕薄化的要求； 更進一步指出，已知結構在運轉時更存在有干涉現象，實在無法達到絕對精密度；如何改善上述缺點，實有其必要性。
技術實現思路
有鑒于此，本案新型的本技術的目的在于提供一種XY Θ精密對位平臺。為達到上述目的，本技術提供一種XY Θ精密對位平臺，所述XY Θ精密對位平臺包括一 XY軸移動平臺，包括一 X軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；一 Y軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；所述X軸移動平臺及Y軸移動平臺為層疊組合；一 Θ角回動平臺，包括一平臺；一圓弧形齒排，其設于所述平臺底部；一滑軌元件，其結合至少一滑塊；一蝸桿結構，其與所述圓弧形齒排嚙合；所述滑軌元件及蝸桿結構對應設于所述XY軸移動平臺的承載面；所述Θ角回動平臺層疊設置于所述XY軸移動平臺的承載面，且所述滑塊對應結合于所述平臺的底部。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的優選方案，其中所述圓弧形齒排為圈狀。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的優選方案，其中所述圓弧形齒排為弧狀。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的優選方案，其中所述滑軌元件為圈狀。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的優選方案，其中所述XY軸移動平臺架設于一底座座面。為達到上述目的，本技術還提供一種XY Θ精密對位平臺的Θ角回動平臺，所述ΧΥΘ精密對位平臺的Θ角回動平臺包括一平臺；一圓弧形齒排，其設于所述平臺底部；一滑軌元件，其結合至少一滑塊；所述平臺的底部對應結合于所述滑塊；且所述平臺由一蝸桿結構與其圓弧形齒排嚙合傳動。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的Θ角回動平臺的優選方案，其中所述圓弧形齒排為圈狀。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的Θ角回動平臺的優選方案，其中所述圓弧形齒排為弧狀。作為上述一種XY Θ精密對位平臺的Θ角回動平臺的優選方案，其中所述滑軌元件為圈狀。本技術所提供的XY Θ精密對位平臺，通過控制其蝸桿結構傳動該圓弧形齒排，可以精密地令該Θ角回動平臺進行Θ角精密回動，回動角度更是可達360°，機體厚度更是只有4層，達成薄形化的產品目標。附圖說明圖I為本技術較佳實施例的立體外觀圖；圖2為本技術較佳實施例的元件立體組合示意圖；圖3為本技術較佳實施例的Θ角回動平臺結構示意圖；圖4為本技術較佳實施例的作動示意圖之一一 X軸移動；圖5為本技術較佳實施例的作動示意圖之二一 Y軸移動；圖6為本技術較佳實施例的作動示意圖之三一 Θ角回動；圖7為本技術另一實施例的元件立體組合示意圖；圖8為本技術另一實施例的Θ角回動平臺結構示意圖；圖9為本技術另一實施例的作動示意圖一 Θ角回動。主要附圖標記I-XY軸移動平臺；11-X軸移動平臺；111_滑軌元件；12-Y軸移動平臺；121_滑軌元件；13_底座；2- Θ角回動平臺；21_平臺；22_圓弧形齒排；23_滑軌元件；24_滑塊；25_蝸桿結構；26_伺服電動機。具體實施方式有關本技術的詳細說明及
技術實現思路
，將結合附圖進行說明，然而以下附圖及實施例僅作為說明之用，并非用于限制本技術。如圖I 圖3所示，本技術所述的XY Θ精密對位平臺，包括一 XY軸移動平臺I，包括一 X軸移動平臺11，其底部設有至少一滑軌元件111 ;— Y軸移動平臺12，其底部設有至少一滑軌元件121 ；所述X軸移動平臺11及Y軸移動平臺12為層疊組合；該XY軸移動平臺I架設于一底座13的座面；一 Θ角回動平臺2,包括一平臺 21 ；一圓弧形齒排22，其設于平臺21的底部；其中，圓弧形齒排22為圈狀；或圓弧形齒排22為弧狀，參照圖7、圖8 ;一滑軌元件23，且其結合至少一滑塊24 ；其中，滑軌元件23為圈狀；滑塊24依平臺21荷重調整其數量；一蝸桿結構25，且其應與所述圓弧形齒排22嚙合；蝸桿結構25由一伺服電動機26傳動；所述滑軌元件24及蝸桿結構25對應設于所述XY軸移動平臺I的承載面；Θ角回動平臺2層疊設置于XY軸移動平臺I的承載面,且所述滑塊24對應結合于所述平臺21的底部；如圖4所示，本技術以所述XY軸移動平臺I中的X軸移動平臺11進行X軸方向受控移動；如圖5所示，本技術以所述XY軸移動平臺I中的Y軸移動平臺12進行Y軸方向受控移動；特別指出，則是所述Θ角回動平臺2通過控制其蝸桿結構25傳動所述圓弧形齒排22，可以精密地令Θ角回動平臺2進行Θ角精密回動；參照圖6及圖9 ;本技術Θ角回動平臺2有固定運動軌跡，可配合安裝光學尺，且可以獨立進行回動，回動角度更是可達360° (所述圓弧形齒排22為圈狀時)，完全滿足產業界的精密需求。另外，本技術組合后的機體厚度降低至只有4層，有效達成薄形化的產品目標。以上所述，僅為本技術的較佳實施例，并非因此而限定本技術的保護范圍，舉凡依據本技術專利精神所作的等效變化、修飾與置換等，皆應屬于本技術專利的保護范圍內。權利要求1.一種ΧΥΘ精密對位平臺，其特征在于，所述XY Θ精密對位平臺包括一 XY軸移動平臺，包括一 X軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；一 Y軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；所述X軸移動平臺及Y軸移動平臺為層疊組合；一 θ角回動平臺，包括一平臺；一圓弧形齒排，其設于所述平臺底部；一滑軌元件，其結合至少一滑塊；一蝸桿結構，其與所述圓弧形齒排嚙合；所述滑軌元件及蝸桿結構對應設于所述XY軸移動平臺的承載面；所述Θ角回動平臺層疊設置于所述XY軸移動平臺的承載面，且所述滑塊對應結合于所述平臺的底部。2.如權利要求I所述的XYΘ精密對位平臺，其特征在于，所述圓弧形齒排為圈狀。3.如權利要求I所述的XYΘ精密對位平臺，其特征在于，所述圓弧形齒排為弧狀。4.如權利要求I所述的XYΘ精密對位平臺，其特征在于，所述滑軌元件為圈狀。5.如權利要求I所述的XYΘ精密對位平臺，其特征在于，所述XY軸移動平臺架設于一底座座面。6.一種ΧΥΘ精密對位平臺的Θ角回動平臺，其特征在于，所述XY Θ精密對位平臺的 Θ角回動平臺包括一平臺；一圓弧形齒排，其設于所述平臺底部；一滑軌元件，其結合至少一滑塊；所述平臺的底部對應結合于所述滑塊；且所述平臺由一蝸桿結構與其圓弧形齒排嚙合傳動。7.如權利要求6所述XYΘ精密對位平臺的Θ角回動平臺，其特征在于，所述圓弧形齒排為圈狀。8.如權利要求6所述XYΘ精密對位平臺的Θ角回動平臺，其特征在于，所述圓弧形齒排為弧狀。9.如權利要求6所述XYΘ精密對位平臺的Θ角回動平臺，其特征在于，所述滑軌元件為圈狀。專利摘本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種XYθ精密對位平臺，其特征在于，所述XYθ精密對位平臺包括：一XY軸移動平臺，包括：一X軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；一Y軸移動平臺，其底部設有至少一滑軌元件；所述X軸移動平臺及Y軸移動平臺為層疊組合；一θ角回動平臺，包括:一平臺；一圓弧形齒排，其設于所述平臺底部；　　一滑軌元件，其結合至少一滑塊；一蝸桿結構，其與所述圓弧形齒排嚙合；所述滑軌元件及蝸桿結構對應設于所述XY軸移動平臺的承載面；所述θ角回動平臺層疊設置于所述XY軸移動平臺的承載面，且所述滑塊對應結合于所述平臺的底部。

【技術特征摘要】
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【專利技術屬性】
技術研發人員：吳茂祥，
申請(專利權)人：吳茂祥，
類型：實用新型
國別省市：