一種簡易的無掩膜光刻機制造技術

本實用新型專利技術提供一種簡易的無掩膜光刻機，至少包括：機體；承載臺，設置于所述機體中；抽屜式承片板，滑動設置在所述承載臺上，具有多個用于承載待光刻LED芯片的容置槽，所述容置槽內的容置空間與所述LED芯片的透明襯底外形相吻合，且所述LED芯片倒置于所述容置槽內；光源系統，懸設于所述承載臺上方，對倒置于所述抽屜式承片板容置槽內的LED芯片進行背面曝光作業。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種半導體制造設備，特別是涉及一種簡易的無掩膜光刻機，屬于微電子裝備領域。
技術介紹
發光二極管具有體積小、效率高和壽命長等優點，在交通指示、戶外全色顯示等領域有著廣泛的應用，尤其是LED以其優異的性能被業界普遍認為是第四代光源的理想選擇，LED光源在發光效率、使用壽命、回應時間、環保等方面均優于白熾燈、熒光燈等傳統光源。LED發光效率逐年提高，已經達到了通用照明應用的需求。從Cree2010年最新公布的 結果來看，目前其實驗室白光LED發光效率達到2001m/w，商用芯片達到1601m/w，并計劃在2013年量產2001m/w的LED。以LED照明封裝模塊的光效為1601m/w記，經過從光源到燈具的過程損失其中約50%，燈具輸出的光效能達到801m/w，仍然超過目前熒光燈60-801m/w的光效，并遠超過白熾燈10-151m/w的效率。從光效上，LED照明已經達到了替代傳統光源的標準。目前，LED器件制造過程中，光刻技術起著至關重要的作用，LED的光效已經達到了替代傳統光源的要求，目前制約LED照明迅速普及的主要因素是其高昂的成本，尤其是一些高昂的自動化設備，光刻機成為最昂貴的設備之一。光刻技術是在一片平整的硅片上構建半導體MOS管和電路的基礎，這其中包含有很多步驟與流程，一般包括涂膠、前烘、曝光、顯影、堅膜、腐蝕、去膠等步驟。光刻技術中常用的曝光方式分類如下接觸式曝光和非接觸式曝光，區別在于曝光時掩模與晶片間相對關系是貼緊還是分開。接觸式曝光具有分辨率高、復印面積大、復印精度好、曝光設備簡單、操作方便和生產效率高等特點。但容易損傷和沾污掩模版和晶片上的感光膠涂層，影響成品率和掩模版壽命，對準精度的提高也受到較多的限制。非接觸式曝光主要指投影曝光，在投影曝光系統中，掩膜圖形經光學系統成像在感光層上，掩模與晶片上的感光膠層不接觸，不會引起損傷和沾污，成品率較高，對準精度也高，能滿足高集成度器件和電路生產的要求。但投影曝光設備復雜，技術難度高。鑒于此，如何設計出一種簡易、實用、高效的無掩膜光刻機，降低LED芯片制造成本，成為目前LED制造行業虐待解決的問題。
技術實現思路
鑒于以上所述現有技術的缺點，本技術的目的在于提供一種無掩膜光刻機，用于解決現有技術中光刻機設備復雜、成本高、技術難度大的問題。為實現上述目的及其他相關目的，本技術提供一種無掩膜光刻機，至少包括機體；承載臺，設置于所述機體中；抽屜式承片板，滑動設置在所述承載臺上，具有多個用于承載待光刻LED芯片的容置槽，所述容置槽內的容置空間與所述LED芯片的透明襯底外形相吻合，且所述LED芯片倒置于所述容置槽內；光源系統，懸設于所述承載臺上方，對倒置于所述抽屜式承片板容置槽內的LED芯片進行背面曝光作業。可選地，所述光源系統還包括一用來控制光源的曝光時間和相對輻照強度的光源控制器?？蛇x地，所述承載臺上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑輪?？蛇x地，所述承載臺上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑塊?？蛇x地，所述承載臺上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑槽。可選地，所述光源系統的光源為專用紫外LED或高壓汞燈。 可選地，所述機體內具有密閉空間，所述承載臺及光源系統設置在所述密閉空間內。可選地，所述抽屜式承片板具有第一限位部，所述承載臺上具有對應所述第一限位部的第二限位部。進一步可選地，所述第一限位部為旋轉固定于所述抽屜式承片板上的定位塊，所述第二限位部為定位槽。如上所述，本技術的無掩膜光刻機，具有以下有益效果本技術提出的一種無掩膜光刻機，該簡易的光刻機利用了金屬電極的不透光性，通過從LED晶片襯底背面對所述光刻膠進行曝光，實現了精確的自對準光刻，無需光刻版，省去了高昂的光刻機設備費和光刻版的費用，并消除了對準誤差而造成的不良影響，提高了作業效率。附圖說明圖I顯示為本技術無掩膜光刻機的結構示意圖。圖2a 2c顯示為本技術無掩膜光刻機進行光刻作業的操作流程示意圖。元件標號說明I 機體10 承載臺100 定位槽11抽屜式承片板110 容置槽111 定位塊12 光源系統120 光源控制器2LED 芯片20 LED芯片襯底背面A、B 方向標示具體實施方式以下由特定的具體實施例說明本專利技術的實施方式，熟悉此技術的人士可由本說明書所揭露的內容輕易地了解本專利技術的其他優點及功效。請參閱圖1，以及圖2a至圖2c。須知，本說明書所附圖式所繪示的結構、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內容，以供熟悉此技術的人士了解與閱讀，并非用以限定本專利技術可實施的限定條件，故不具技術上的實質意義，任何結構的修飾、比例關系的改變或大小的調整 ，在不影響本專利技術所能產生的功效及所能達成的目的下，均應仍落在本專利技術所揭示的
技術實現思路
得能涵蓋的范圍內。同時，本說明書中所引用的如“上”、“下”、“左”、“右”、“中間”及“一”等的用語，亦僅為便于敘述的明了，而非用以限定本專利技術可實施的范圍，其相對關系的改變或調整，在無實質變更
技術實現思路
下，當亦視為本專利技術可實施的范疇。下面結合說明書附圖進一步說明本技術提供的一種無掩膜光刻機，為了示出的方便附圖并未按照比例繪制，特此述明。參考圖I并結合圖2b所示，本專利技術提供一種無掩膜光刻機，用于對待光刻LED芯片2進行光刻作業。所述無掩膜光刻機包括機體1，承載臺10，抽屜式承片板11，以及光源系統12。所述機體I內具有密閉空間，需要說明的是，所述光刻機的其它部件設置在該機體I內。所述承載臺10設置于所述機體I中。所述抽屜式承片板11滑動設置在所述承載臺10上，于本實施例中，具體地，本實施例中，所述抽屜式承片板11與承載臺10之間的滑動設置暫選為所述承載臺10上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板11的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑輪。但并不限于此，在其它實施例中，所述抽屜式承片板11與承載臺10之間的滑動設置亦可以為所述承載臺10上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板11的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑塊或所述抽屜式承片板11的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑槽，特此聲明。能夠達成所述抽屜式承片板11與承載臺10之間的滑動設置的結構應為本領域技術人員所熟知的技術，故于本實施例中未予以圖示。需要說明的是，本實施例中，所述抽屜式承片板旋轉固定有兩個定位塊111，所述承載臺10上具有對應所述定位塊111的一個定位槽100，但不限于此，在其它實施例中亦可選用其它固定裝置，例如銷孔與銷軸配合等。操作時，所述定位塊111與所述定位槽100配合使用，以將所述抽屜式承片板11固定在所述承載臺10上，以防止所其前后移位。所述抽屜式承片板11上具有多個用于承載待光刻LED芯片2的容置槽110，所述的多個用于承載待光刻LED芯片2的容置槽110的個數例如為4個，這樣一次可以承載4個LED芯片，但并不局限于此，但為便于說明，在本實施例中暫以所述抽屜式承片板11上具有I個用于承載待光刻LED芯片2的容置槽110為例進行說明，所述容置槽110內的容置空間與所述LED芯本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種無掩膜光刻機，其特征在于，至少包括：機體；承載臺，設置于所述機體中；抽屜式承片板，滑動設置在所述承載臺上，具有多個用于承載待光刻LED芯片的容置槽，所述容置槽內的容置空間與所述LED芯片的透明襯底外形相吻合，且所述LED芯片倒置于所述容置槽內；光源系統，懸設于所述承載臺上方，對倒置于所述抽屜式承片板容置槽內的LED芯片進行背面曝光作業。

【技術特征摘要】
1.一種無掩膜光刻機，其特征在于，至少包括 機體； 承載臺，設置于所述機體中； 抽屜式承片板，滑動設置在所述承載臺上，具有多個用于承載待光刻LED芯片的容置槽，所述容置槽內的容置空間與所述LED芯片的透明襯底外形相吻合，且所述LED芯片倒置于所述容置槽內； 光源系統，懸設于所述承載臺上方，對倒置于所述抽屜式承片板容置槽內的LED芯片進行背面曝光作業。2.根據權利要求I所述的無掩膜光刻機，其特征在于所述光源系統還包括一用來控制光源的曝光時間和相對輻照強度的光源控制器。3.根據權利要求I所述的無掩膜光刻機，其特征在于所述承載臺上設置有兩列相對平行的滑軌，所述抽屜式承片板的相對兩側邊設置有用于在所述滑軌內滑動的滑輪。4.根據權利要求I所述的一種無掩膜光刻機，其特征在于所述承載臺上設置有兩列相對...

【專利技術屬性】
技術研發人員：袁根如，郝茂盛，張楠，李士濤，朱廣敏，陳誠，
申請(專利權)人：上海藍光科技有限公司，
類型：實用新型
國別省市：