本實用新型專利技術提供了一種氣體濃度控制裝置，所述裝置包括：進口氣路單元，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元；流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。本實用新型專利技術的氣體濃度控制裝置擴展性強，控制精度高，可靠性、可重復性和穩定性好。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）
【技術實現步驟摘要】
本技術涉及半導體工藝氣體濃度控制領域，特別涉及氣度濃度控制裝置、系統和方法。
技術介紹
硅片是一種重要的半導體材料，它的加工工藝，特別是外延工藝，隨著硅片直徑增大，集成電路的結構越來越復雜，器件的性能要求越來越高，娃外延片在娃材料中的比重越來越大，同時對其參數的要求也進一步提高。其中外延層厚度是一個關鍵參數，因而必須精確控制。例如，控制外延層厚度以保證埋層的外擴散和自摻雜不會消耗外延層，另外，一些雙極型器件的參數，如擊穿電壓、結電容、晶體管增益和交流特性，都取決于外延層厚度。根據Grove外延膜生長模型，外延膜的生長速率正比于氣體中反應物的摩爾分數，因而精確控制控制源氣體濃度就至關重要。目前的外延工藝多數采用粗略控制，或者是采用液體氣相控制器(LVC)作為氣體濃度控制器件。但是，這些控制方法的穩定性，均勻性和可重復性·差，其控制效果會隨著工藝條件的不同而產生波動，從而降低外延片的成品率。
技術實現思路
(一)要解決的技術問題本技術的目的是設計一種控制精度高、使用范圍廣泛的氣體濃度控制裝置、系統及其控制方法，以克服現有技術的不足。(二)技術方案一種氣體濃度控制裝置，所述裝置包括進口氣路單元，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元;流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。其中，所述進口氣路單元中，依次連接有單向閥，手動閥，過濾器，調壓閥，壓力表及其顯示單元，氣動閥。其中，所述出口氣路單元中，依次連接有壓力表及其顯示單元，手動閥。其中，所述氣體濃度檢測單元為氣體濃度傳感器。其中，所述流量控制單元為質量流量控制器。(三)有益效果本技術的氣體濃度控制裝置擴展性強，控制精度高，可靠性、可重復性和穩定性好。附圖說明圖I為本技術一種實施方式的氣路原理示意圖；圖I中(1)單向閥；(2)手動閥；(3)過濾器；(4)調壓閥；(5)壓力表顯示單元；(6)壓力表；(7)氣動閥；(8)源瓶；(90氣體濃度傳感器；(10)質量流量控制器。具體實施方式以下結合附圖和實施例，對本技術的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本技術，但不用來限制本技術的范圍。如圖I所示，為本技術提供的裝置的氣路原理示意圖。該裝置包括進口氣路控制單元包括單向閥(1)，手動閥(2)，過濾器(3)，調壓閥(4)，壓力表(6)以及氣動閥門(7)，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理好的氣體通入源瓶中；出口氣路控制單元包括壓力表(6)及其顯示單元(5)和手動閥(2)，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶(8)出口混合氣體通入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元用于檢測攜帶源氣體的濃度，并與流量控制單元相連；流量控制單元用于控制氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。以上實施方式僅用于說明本技術，而并非對本技術的限制，有關
的普通技術人員，在不脫離本技術的精神和范圍的情況下，還可以做出各種變化和變型，因此所有等同的技術方案也屬于本技術的范疇，本技術的專利保護范圍應由權利要求限定。權利要求1.一種氣體濃度控制裝置，其特征在于，所述裝置包括 進口氣路單元，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶； 源瓶，用于存放源氣體； 出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元； 氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元； 流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。2.如權利要求I所述的裝置，其特征在于，所述進口氣路單元中，依次連接有單向閥，手動閥，過濾器，調壓閥,壓力表及其顯示單元,氣動閥。3.如權利要求I所述的裝置，其特征在于，所述出口氣路單元中，依次連接有壓力表及其顯示單元,手動閥。4.如權利要求I所述的裝置，其特征在于，所述氣體濃度檢測單元為氣體濃度傳感器。5.如權利要求I所述的裝置，其特征在于，所述流量控制單元為質量流量控制器。專利摘要本技術提供了一種氣體濃度控制裝置，所述裝置包括進口氣路單元，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元；流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。本技術的氣體濃度控制裝置擴展性強，控制精度高，可靠性、可重復性和穩定性好。文檔編號C30B23/02GK202705565SQ201220320628公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月3日 優先權日2012年7月3日專利技術者崔娟娟, 程朝陽, 劉俊豪, 馬超 申請人:北京七星華創電子股份有限公司本文檔來自技高網...
【技術保護點】
一種氣體濃度控制裝置，其特征在于，所述裝置包括：進口氣路單元，用于控制、過濾、調節以及顯示進口氣體壓力，并將處理后的氣體送入源瓶；源瓶，用于存放源氣體；出口氣路單元，用于控制以及顯示出口氣體壓力，并將源瓶出口的混合氣體送入氣體濃度檢測單元；氣體濃度檢測單元，用于檢測氣體的攜帶源濃度，并將混合氣體通過流量控制單元；流量控制單元，用于控制混合氣體流量，并將混合氣體通入工藝腔室。
【技術特征摘要】
【專利技術屬性】
技術研發人員：崔娟娟，程朝陽，劉俊豪，馬超，
申請(專利權)人：北京七星華創電子股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：
還沒有人留言評論。發表了對其他瀏覽者有用的留言會獲得科技券。