晶圓清洗刷和晶圓清洗裝置制造方法及圖紙

本實用新型專利技術公開了一種晶圓清洗刷，包括刷盤、第一旋轉軸、第一旋轉馬達以及直線馬達，第一旋轉馬達經第一旋轉軸驅動刷盤轉動，直線馬達驅動所述第一旋轉軸作直線位移，刷盤是一直徑大于或者等于晶圓的圓盤，圓盤的一個表面上設置有若干刷毛。本實用新型專利技術還公開了一種晶圓清洗裝置，包括用于吸附晶圓的吸盤、第二旋轉軸、第二旋轉馬達、以及如上的晶圓清洗刷，所述第二旋轉馬達經第二旋轉軸驅動吸盤轉動。一方面，由于刷盤上的刷毛可以同時接觸晶圓的整個表面，因此，可以提高清洗面積，從而可以一定程度上提高晶圓的清洗效率；另一方面，吸盤和刷盤做反向旋轉，從而可以增加刷毛和晶圓的相對速度，進而，可以進一步提高刷毛對晶圓的清洗效率。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

【技術保護點】
一種晶圓清洗刷，其特征在于，包括刷盤、第一旋轉軸、第一旋轉馬達以及直線馬達，所述第一旋轉馬達經所述第一旋轉軸驅動所述刷盤轉動，所述直線馬達驅動所述第一旋轉軸作直線位移，所述刷盤是一直徑大于或者等于晶圓的圓盤，所述圓盤的一個表面上設置有若干刷毛。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：唐強，
申請(專利權)人：中芯國際集成電路制造上海有限公司，
類型：實用新型
國別省市：