微機(jī)電系統(tǒng)結(jié)構(gòu)技術(shù)方案

一種形成至少一個(gè)微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）腔體的方法包括在下布線層之上形成第一犧牲腔體層。該方法還包括形成一層。該方法還包括在第一犧牲層之上形成第二犧牲腔體層并且該第二犧牲腔體層與該層接觸。該方法還包括在第二犧牲腔體層上形成頂蓋。該方法還包括在頂蓋中形成至少一個(gè)排放孔，暴露第二犧牲腔體層的一部分。該方法還包括在排放或剝離第一犧牲腔體層之前，排放或剝離第二犧牲腔體層，使第二犧牲腔體層的頂表面不再接觸頂蓋的底表面，從而分別形成第一腔體和第二腔體。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國(guó)外來(lái)華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：A斯坦珀，CV揚(yáng)斯，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：國(guó)際商業(yè)機(jī)器公司，
類型：
國(guó)別省市：