微機電系統技術方案

一種形成微機電系統（MEMS）的方法包括在MEMS的腔體內的第一絕緣體層上形成下電極。該方法還包括在下電極的頂部上的另一絕緣材料之上形成上電極，上電極與下電極至少部分地接觸。下電極和上電極的形成包括調整下電極和上電極的金屬體積以修改梁彎曲。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：A斯坦珀，CV揚斯，
申請(專利權)人：國際商業機器公司，
類型：
國別省市：