手工工具密封裝置和方法制造方法及圖紙

用于使用密封裝置和用于在緊固件上操作的手工工具來密封工作空間的裝置和方法，包括適當(dāng)?shù)慕缑鎭砀綦x工作空間，例如為利用EDM裝置做準(zhǔn)備。公開了可互換和可調(diào)整部件。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本說明書涉及相對于工件居中密封的手工工具的裝置和方法
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，公開了一種手工工具密封裝置，其包括基底；界面，其置于所述基底的底端并且被構(gòu)造成可密封地置于包含緊固件的表面上，該表面包括但不限于框架；接收處，其被構(gòu)造成可密封地至少接收手工工具的一個(gè)尖端；其中所述基底和所述尖端被構(gòu)造成當(dāng)所述界面可密封地置于所述表面并且所述尖端被可密封地接收在所述接收處內(nèi)時(shí)封罩工作空間。在一些示例中，手工工具密封裝置可以包括外部墊圈和內(nèi)部墊圈，其附接于或形成所述界面。在一些示例中，在基底的底端處設(shè)置有凹槽。內(nèi)部墊圈可以是被構(gòu)造成裝配在該凹槽內(nèi)的插入件的之所以部分。該凹槽可以與所述界面大致同心，其中該凹槽具有與該界面相鄰的環(huán)形壁。在一些示例中，插入件可以被裝配到凹槽內(nèi)。插入件提供大致圓形開口。在一些示例中，圓形開口可以是剛性材料。在一些示例中，界面的至少一部分可以是柔性可壓縮材料。該表面可以是平坦的。該表面可以是彎曲的。緊固件可以是具有與所述表面齊平的表面的平頭緊固件。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，公開了封罩工作空間的方法，其包括向包含緊固件的表面提供密封裝置，其中該密封裝置的界面被可密封地置于該表面；使得手工工具的尖端接合到該密封裝置的接收處內(nèi)，其中所述尖端可密封地接合在所述接收處內(nèi)。通過至少所述緊固件、所述表面、所述界面和所述手工工具的所述尖端來限定工作空間。該方法可以進(jìn)一步包括燒蝕所述緊固件的至少一部分。該方法可以進(jìn)一步包括使得流體沖刷通過工作空間。該流體可以是電介質(zhì)液體。該方法可以進(jìn)一步包括將工作空間內(nèi)的流體維持在比工作空間外的壓力更高的壓力。該方法可以進(jìn)一步包括將工作空間內(nèi)的流體維持在比大氣壓力更高的壓力。附圖說明結(jié)合附圖參考下述描述將更加顯而易見到本專利技術(shù)的上述特征和目標(biāo)，附圖中類似附圖標(biāo)記指代類似元件并且其中圖IA示出了基底的平面圖；圖IB示出了基底的剖面圖IC示出了基底的立體圖；圖ID示出了基底的立體圖；圖IE不出了基底的俯視圖；圖IF不出了基底的仰視圖；圖2A示出了接近基底的插入件的剖視圖；圖2B示出了基底內(nèi)的插入件的剖視圖；圖3A示出了具有插入件的基底的平面圖； 圖3B示出了具有插入件的基底的剖視圖；圖3C示出了具有插入件的基底的立體圖；圖3D示出了具有插入件的基底的立體圖；圖3E不出了具有插入件的基底的俯視圖；圖3F不出了具有插入件的基底的仰視圖；圖4A示出了接近基底的插入件的剖視圖；圖4B示出了基底內(nèi)的插入件的剖視圖；圖5A示出了接近基底的觀察器的平面圖；圖5B示出了接近基底的觀察器的剖視圖；圖5C示出了接近基底的觀察器的立體圖；圖示出了接近基底的觀察器的立體圖；圖5E示出了接近基底的觀察器的俯視圖；圖5F示出了接近基底的觀察器的仰視圖；圖6A示出了基底內(nèi)的觀察器的平面圖；圖6B示出了基底內(nèi)的觀察器的剖視圖；圖6C示出了基底內(nèi)的觀察器的立體圖；圖6D示出了基底內(nèi)的觀察器的立體圖；圖6E示出了基底內(nèi)的觀察器的俯視圖；圖6F示出了基底內(nèi)的觀察器的仰視圖；圖7A示出了接近基底的尖端的剖視圖；以及圖7B示出了基底內(nèi)的尖端的剖視圖。具體實(shí)施例方式根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，這里公開了。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，可以提供基底10，如圖1A、圖1B、圖1C、圖1D、圖IE和圖IF所示。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，基底10可以包括界面30。界面30可以被置于基底10的底端。界面30可以被構(gòu)造成可密封地被置于具有包含緊固件400的表面412的框架410上。所述密封可以是臨時(shí)的且可逆的。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，界面30可以包括一個(gè)或更多個(gè)組成部件。例如，如圖1B、圖ID和圖IF所示，界面30可以包括外部墊圈60。外部墊圈60可以是柔性的并且被構(gòu)造成當(dāng)被置于表面上時(shí)形成密封。進(jìn)一步如圖1B、圖ID和圖IF所示，墊圈60可以由凹槽40中斷，該凹槽40由環(huán)形壁41界定。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，界面30可以包括插入件80的至少一部分，如圖2A和圖2B所示。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，插入件80可以被可選擇地提供給基底10的凹槽40。插入件80可以包含可選擇地提供來實(shí)現(xiàn)適于環(huán)境和場景的結(jié)果的各種特征。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，如圖2A、圖2B、圖3A、圖3B、圖3C、圖3D、圖3E和圖3F所示，插入件80可以包括瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100，其可以被構(gòu)造成有助于使用者視覺地將基底10或其部件對齊于緊固件400。瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100可以是任意不同的形狀或尺寸。瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100可以是剛性材料以便減少或免除會干擾基于瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100的準(zhǔn)確對齊的變形。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，如圖2A、圖2B、圖3A、圖3B、圖3C、圖3D、圖3E和圖3F所示，插入件80可以包括內(nèi)部墊圈70。內(nèi)部墊圈70可以形成界面30的一部分。內(nèi)部墊圈70可以是柔性的并且被構(gòu)造成當(dāng)被置于表面上時(shí)形成密封。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，如圖4A和圖4B所示，插入件80可以包括內(nèi)部墊圈70。 如圖4A和圖4B所示，插入件80可以省去剛性材料的瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100。如圖5A、圖5B、圖5C、圖5D、圖5E、圖5F、圖6A、圖6B、圖6C、圖6D、圖6E和圖6F所示，插入件80可以被構(gòu)造成裝納另一裝置或部件，例如觀察器200。如5F、圖6D和圖6F所示，觀察器200可以包括瞄準(zhǔn)引導(dǎo)件100。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，界面30可以包括外部墊圈60和內(nèi)部墊圈70中至少一者。界面30可以提供根據(jù)給定應(yīng)用所需來確定的密封和穩(wěn)定性特征。例如，界面30可以提供耐用性、柔軟度、柔韌性、摩擦、潤滑性和抗搖動(dòng)性。界面可以足夠柔軟以便保持與表面的密封，不過又足夠剛性以便不會不良地運(yùn)動(dòng)。甚至可以在工作空間90處于高壓狀態(tài)下均保持S封。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，界面30可以是可壓縮的，其中界面30至少沿縱向方向(至少基本與界面30所置表面412正交)提供一定程度的緩沖。界面30的可壓縮性提供了對于表面412的各種條件和幾何外形的一定程度的適應(yīng)性。根據(jù)一些不例性實(shí)施方式，界面30可以具有有限的縱向壓縮以便保持切深的正確性。例如，由于界面30的縱向壓縮所導(dǎo)致的基底10相對于緊固件400的位置的寬度變化會降低切深的準(zhǔn)確性，其中至少依靠于基底10的初始位置來測量深度。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，界面30會引入減小的、最小化的或者甚至不引入橫向擺動(dòng)或游移。例如，界面30可以被構(gòu)造成抵抗會導(dǎo)致基底橫向移動(dòng)離開初始位置的橫向壓縮。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，基底100可以包括接收處20。接收處20可以將基底10的底端暴露于其頂部。接收處20可以被構(gòu)造成可密封地接收手工工具的至少燒蝕尖端300。在這種示意性實(shí)施例中，所述燒蝕尖端包括或容納生成等離子的電極。可以應(yīng)用2009年10月21日提供的美國申請序列號12/603，507中所公開的放電裝置、系統(tǒng)和方法，其中等離子結(jié)合電介質(zhì)被生成以便以受控方式燒蝕和/或分解材料團(tuán)。如圖7A和圖7B所示，尖端300可以被置入基底10的接收處20內(nèi)，其中該基底10被置于框架410的表面412上并且相對于緊固件400理想對齊。尖端300可以密封地被置于接收處20內(nèi)，以致工作空間90被封罩。接收處20和尖端300的幾何外形可以是互補(bǔ)的，以致之間的匹配在其間形成密封。根據(jù)一些示例性實(shí)施方式，這種密封可以是完本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：M·魯格利，
申請(專利權(quán))人：完美點(diǎn)EDM公司，M·魯格利，
類型：
國別省市：