反射罩、照明裝置、檢測/測量裝置及檢測/測量方法制造方法及圖紙

本發明專利技術公開一種反射罩、應用該反射罩的照明裝置、測量裝置、檢測裝置，及測量方法及檢測方法。該反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩。所述相較于現有技術，本發明專利技術的反射罩包括至少二反射面；所述反射面具有共同焦點，所述反射罩將位于焦點發出的光線投射于待測物體上并形成一光點，提高了光的強度，增加了光的利用率。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及一種反射罩，尤其涉及一種提高光的利用率的反射罩，應用該反射罩的檢測裝置或測量裝置及檢測方法或測量方法。
技術介紹
測量及檢測技術廣泛應用于現代加工制造業，以確定元件、半成品或者成品是否符合要求。一種檢測系統包括圓頂燈、棱鏡及成像模塊。所述圓頂燈發出的光線照射到待測物體表面，光線從待測物體表面反射至棱鏡以便成像模塊拍攝成像。上述的檢測系統，雖 然能實現非接觸式在線測量；但，需要較高功率的圓頂燈才能提供清晰成像所需要的亮度，光的利用率不高。
技術實現思路
鑒于以上所述，有必要提供一種提高光的利用率的反射罩。此外，還有必要提供一種應用該反射罩的測量和/或檢測裝置。進一步地，還有必要提供一種利用上述測量裝置的測量方法。進一步地，還有必要提供一種利用上述檢測裝置的檢測方法。進一步地，還有必要提供一種利用上述反射罩的照明裝置。一種反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩。其中，所述反射面的個數為二、三或者四個。其中，該反射罩還包括第一側面、第二側面及第三側面，第一側面與第二側面相互平行，第三側面分別與第一側面及第二側面垂直連接。一種測量和/或檢測裝置，用于測量和/或檢測待測物體，該裝置包括光源、反射罩及成像模塊，所述反射罩用于接收光源發出的光并投射于待測量和/或檢測物體上，從而為成像模塊提供成像光線，該反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩，所述反射罩用于接收光源發出的光投射于待測量和/或檢測物體上形成光點。其中，所述光源包括兩個或者兩個以上，第i個光源的安裝位置為第i段橢圓長 { h I軸與待測量和/或檢測物體的待檢測面的夾角為ayQr, = arcsin—，其中，該反射面所2 f -Ij在橢圓方程為+ + A = I，hi為第i個光源距離待檢面的垂直距離，f1； f2，...，fi;... fn Ai Bi為第i段橢圓弧所在的橢圓的焦距，Ai為第i段反射面所在橢圓的長軸長度，Bi為第i段反射面所在橢圓的短軸長度，A2=Ai2-Bi2, A^Bi0其中，所述裝置還進一步包括控制芯片，所述控制芯片與電源及成像模塊信號連接，所述控制芯片用于處理成像模塊所拍攝的圖像。其中，所述光源為LED光源，每個LED光源為LED環狀光源；所述環狀的寬度越小，越有利于提聞光照效果。 其中，所述反射罩至少兩個，所述反射罩間隔地安裝于該裝置上，每一反射罩上光源的數量與反射罩的反射面數量相同。其中，所述裝置對稱安裝有所述反射罩及光源。其中，所述反射面的個數為二、三或者四個。一種檢測裝置，用于檢測待測物體，該裝置包括成像模塊及線光源、反射罩，所述反射罩成對設置，所述反射罩用于接收線光源發出的光并投射于待檢測物體上，從而為成像模塊提供成像光線，該反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩。一種應用上述的測量裝置的測量方法，包括以下步驟將待測量物質放置于預定位置；光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體表面上并形成反射光；所述反射光進入成像模塊成像。一種應用上述檢測裝置的檢測方法，包括以下步驟將待測量物質放置于預定位置；光源的光線將經所述反射罩后投射于待測量物體表面上并形成反射光；所述反射光進入成像模塊成像；將得圖像與基準圖像比較，判斷是否滿足要求或者所屬等級。一種照明裝置，該照明裝置包括光源及反射罩，該反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩，所述反射面將安裝于另一焦點上的光源發出的光線集中于所述各共同焦點上以形成光點。相較于現有技術，本專利技術的反射罩包括至少二反射面，所述反射罩裝有多個光源，所述光源的光線聚集于一點，提高了光照的強度。附圖說明圖I是本專利技術第一較佳實施例的反射罩的沿著旋轉軸的剖面示意圖。圖2是本專利技術第二較佳實施例的反射罩的沿著旋轉軸的剖面示意圖。圖3是本專利技術第三較佳實施例的反射罩的沿著旋轉軸的剖面示意圖。圖4是本專利技術第四較佳實施例的反射罩的沿著旋轉軸的剖面示意圖。圖5是本專利技術第五較佳實施例的反射罩的沿著旋轉軸的剖面示意6是本專利技術較佳實施例的測量裝置模塊示意圖。圖7是本專利技術較佳實施例的測量裝置結構示意圖。具體實施例方式為詳細說明本專利技術的
技術實現思路
、構造特征、所實現目的及效果，以下結合實施方式并配合附圖詳予說明。本專利技術的反射罩應用于光學領域測量或者檢測領域，以下以其應用于測量領域為例加以說明。請參閱圖1，本專利技術第一較佳實施例的反射罩102為旋轉體，包括第一反射面11、第二反射面13。所述第一反射面11及第二反射面13為經過旋轉軸的平面所獲得的截面的內邊緣為兩段橢圓弧，所述橢圓弧具有一共條焦點A，所述旋轉軸經過該共同焦點。所述橢圓弧的長度可以分別為內周總長的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的長度。請參考圖2，本專利技術第二較佳實施例的反射罩101與第一較佳實施例大致相似，惟所述旋轉體的厚度不均勻。從焦點All發出的光線經第一反射面11反射后照投射待測物體上的a點(圖未示)。從焦點A12發出的光線經第二反射面13反射后投射到待測物體上的b點(圖未示),所述a點與b點重合。請參閱圖3，本專利技術第二較佳實施例的反射罩103包括第一反射面11、第二反射面13以及第三反射面15。所述橢圓圓弧的長度分別可以分別為橢圓總圓周長的五分之一，四分之一，三分之一，或者其他需要的長度。所述第一反射面11、第二反射面13及第三反射面15在平行于長軸面的切面的橢圓上在旋轉軸Z軸上具有共同的焦點，所述光線反射后投射 于所述共同焦點上。從焦點A21發出的光線經第一反射面11反射后照射到待測物體上的點與從焦點A22發出的光線a22經第二反射面13反射后照射到待測物體上的點，及從焦點A23發出的光線a23經第一反射面11反射后照射到待測物體上的點相重合。請參閱圖4，類似地，本專利技術第三較佳實施例的反射罩105包括若干個反射面11、13···，η，每一反射面11、13···，η均為橢圓弧經旋轉形成。從每一焦點上發出的光線經對應的反射面反射后，投射到待測物體上重合的位置。請參閱圖5，本專利技術第四較佳實施例的反射罩107與第一較佳實施例的反射罩101結構相似，惟，該反射罩107還包括第一側面12、第二側面14及第三側面16。所述第一側面12與第二側面14大致相互平行，所述第三側面16分別第一側面12及第二側面14大致相互垂直。本第四較佳實施例的第一至第三側面12、14及16的平面設置更便于安裝于定位。請參閱圖6及7，本專利技術較佳實施例的測量裝置100以應用第二較佳實施例的反射罩103為例加以說明。所述測量裝置100還包括光源30、成像模塊70及控制芯片90。所述反射罩103將光源30所發出的光聚集于待測物體200上。所述光源30的發光位置設置于反射罩103各焦點所在位置上。所述控制芯片90用于控制光源30的發光及成像模塊70的成像。在本專利技術的較佳實施例中，所述的光源30為LED光源30，所述LED光源30包括多顆LE本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種反射罩，其特征在于：該反射罩包括兩個或者兩個以上連續的反射面，所述反射面具有一共同焦點，所述反射罩由經過該共同焦點的直線為旋轉軸旋轉形成所述反射罩。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳身健，李波，張梁，王秀秀，樊思民，溫曄，
申請(專利權)人：肇慶中導光電設備有限公司，
類型：發明
國別省市：