氣霧劑噴射設(shè)備制造技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)提供一種氣霧劑噴射設(shè)備，包括：容納有待從所述設(shè)備通過氣態(tài)推進劑被排放的液體的加壓或可加壓容器和安裝在所述容器上的噴霧排放組件，所述氣態(tài)推進劑為溫度為25℃且壓力為至少50bar的氣體。所述噴霧排放組件包括：閥桿，所述閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設(shè)備的噴霧排放；噴霧出口區(qū)域，所述噴霧出口區(qū)域具有出口孔，來自所述容器的流體從所述出口孔被排放；流動管道，所述流動管道用于將流體從所述容器供給到所述噴霧出口區(qū)域，所述流動管道具有用于來自所述容器的液體的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游；和閥門系統(tǒng)裝置，所述閥門系統(tǒng)裝置適于使所述閥桿的從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產(chǎn)生氣泡包含流，并且所述閥桿返回所述第一極限位置的移動關(guān)閉所述第一入口和所述第二入口，其中：（i）所述流動管道至少在由下面第（iii）中限定的所述第二入口的區(qū)域中具有與直徑為0.5mm至1.5mm的圓相當?shù)臋M截面面積；（ii）所述第一入口具有與直徑為0.15mm至1.5mm的圓的面積相當?shù)目倷M截面面積，附加條件是至少一個第一入口具有與直徑為至少0.1mm的圓的面積相當?shù)臋M截面面積；并且（iii）所述第二入口具有與直徑為0.1mm至0.7mm的圓的面積相當?shù)目倷M截面面積，附加條件是至少一個第二入口具有與直徑至少為0.10mm的圓的面積相當?shù)目倷M截面面積，進一步的附加條件是所述第二入口具有的總橫截面面積比所述第一入口的總橫截面面積小；并且（iv）所述噴霧出口孔具有的橫截面面積比所述第一入口的所述總橫截面面積小且比所述第二入口的所述總橫截面面積大。所述氣霧劑噴射設(shè)備可包括適合的MBU和/或任何適當?shù)牟寮?br />

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
【國外來華專利技術(shù)】
本專利技術(shù)涉及一種用于以噴霧的形式排放液體產(chǎn)品(例如，諸如空氣清新劑的家用產(chǎn)品)的氣霧劑噴射設(shè)備。本專利技術(shù)特別應(yīng)用于利用壓縮氣體推進劑而非液化氣體推進劑的氣霧劑噴射設(shè)備。
技術(shù)介紹
廣泛而言，氣霧劑噴射設(shè)備包括將待被排放的液體保持在一起的容器和與閥門系統(tǒng)裝置關(guān)聯(lián)的出口噴嘴，閥門系統(tǒng)裝置可選擇性地操作以允許液體借助容器內(nèi)提供的推進劑從噴嘴作為噴霧被排放。“壓縮氣體推進氣霧劑”和“液化氣體推進氣霧劑”均已知。前者包括的推進劑為溫度為25° C且壓力為至少50巴(bar)的氣體(例如，空氣、氮氣或二氧化碳)。這種氣體在氣霧劑噴射設(shè)備中沒有液化。當閥門系統(tǒng)裝置打開時，壓縮氣體“推動”噴射設(shè)備中的液 體通過提供用于霧化的上述噴嘴。事實上，具有兩種類型的“壓縮氣體推進氣霧劑”。在一種類型中，只有來自容器的液體(被壓縮氣體“推出”)被供給到出口噴嘴。在另一種主要類型中，來自容器的推進劑氣體的一部分被泄放至正被供應(yīng)到噴嘴的液體中，噴嘴使所產(chǎn)生的兩相氣泡充滿(“多泡”)流霧化以產(chǎn)生噴霧。后種方式能產(chǎn)生比前者更細的噴霧。相反，“液化氣體推進氣霧劑”使用既以氣相存在也以液相存在(在氣霧劑噴射設(shè)備中)的推進劑并可與后者溶混。例如，推進劑可為丁烷、丙烷及其混合物。在排放時，氣相推進劑“推進”容器中的液體(包括通過噴嘴溶解的液相推進劑)。眾所周知，“液化氣體推進氣霧劑”比“壓縮氣體推進氣霧劑”能夠產(chǎn)生更細的噴霧。這是由于在前者中，大部分液化氣體在從氣霧劑噴射設(shè)備排放液體期間“迅速蒸發(fā)”，該快速膨脹導致細的噴霧。這種細的噴霧通常不能通過上述兩種主要形式的“壓縮氣體推進氣霧劑”實現(xiàn)。已經(jīng)嘗試改進由“壓縮氣體推進氣霧劑”產(chǎn)生的噴霧的“細度”。現(xiàn)有技術(shù)提案包括“泄放”存在于容器中的壓縮氣體(例如，氮氣)中的一些且將其與液體產(chǎn)品混合以實現(xiàn)“兩種流體霧化”的可能性，已知這種技術(shù)為噴霧技術(shù)的其他領(lǐng)域提供細的噴霧，例如液體燃料燃燒。然而，已發(fā)現(xiàn)對于氣霧劑噴射設(shè)備使用兩種流體霧化以產(chǎn)生細的噴霧特別困難，最接近的方法是使用蒸汽相龍頭的相當物(VPTs被用于“液化氣體推進氣霧劑”中)以將一些氣體泄放至閥中。然而，改進噴霧細度的結(jié)果不是顯著有利。WO 90/05580 (Weston等)公開一種用于調(diào)整來自被諸如氮氣的永久氣體推進劑加壓的氣霧劑罐的液體產(chǎn)品流的排放閥。該排放閥包括能從第一極限位置移動到第二極限位置的閥桿，以影響從設(shè)備經(jīng)由其噴霧出口區(qū)域的噴霧排放。該閥桿形成有流動管道(被稱為“混合腔”)，流動管道形成有至少一個上游液體孔和至少一個下游氣體孔。排放閥包括閥門系統(tǒng)裝置，使得閥桿從第一極限位置到第二極限位置的移動打開液體孔和氣體孔，以使液體/氣體混合物被產(chǎn)生在混合腔中。WO 90/05580的表I給出了混合室、液體孔和氣體孔的橫截面的示例性尺寸，但是沒有給出對其相對尺寸的詳細考慮。WO 90/05580中設(shè)備的混合腔的下游為至少一個限流器，混合物被迫使通過限流器以產(chǎn)生扼流或聲速流，導致混合物膨脹以形成“泡沫混合物”，該“泡沫混合物”被傳到噴霧出口區(qū)域的出口孔以從噴射設(shè)備排放。限流器被用于WO 90/05580中的氣霧劑噴射設(shè)備以確保從出口孔的噴射在設(shè)備中的液體成分的排放期間基本恒定。這通過確保在設(shè)備中的液體成分將要耗盡時繼續(xù)通過每個限流器的殘留壓力仍然足夠高，以產(chǎn)生通過每個限流器的至少大致的扼流并由此在每個限流器后產(chǎn)生沖擊波來實現(xiàn)。更具體而言，流在限流器的下游變?yōu)槌羲俚模⑶译S著流隨后從超音速轉(zhuǎn)為亞音速而產(chǎn)生沖擊波，導致氣體粒子的有力的破裂以產(chǎn)生均勻的泡沫。然而，提供限流器的需要導致相對復雜的構(gòu)造和排放組件，其不能通過諸如注射模制的大規(guī)模生產(chǎn)技術(shù)而被容易地生產(chǎn)。與此有關(guān)的美國專利申請第61/261，906號公開了一種在“壓縮氣體推進氣霧劑”的情況下產(chǎn)生細的噴霧的氣霧劑噴射設(shè)備，但是對于“液化氣體推進氣霧劑”具有一些適用性。在先美國申請公開的實施例包括噴霧排放組件，該噴霧排放組件包括用于將流體從容器供給到設(shè)備的噴霧出口區(qū)域的流動管道。流動管道具有用于來自容器的液體的至少一個 第一入口和用于來自容器的頭部空間的推擠氣體的至少一個第二入口。噴霧排放組件進一步包括閥門系統(tǒng)裝置，以使閥桿從第一極限位置向第二極限位置的移動打開第一入口和第二入口以使用于供給到噴霧出口區(qū)域的氣泡包含流產(chǎn)生在流動管道中。根據(jù)在先美國申請的教導，在流動管道的下游提供具有至少一個入口和與排放孔連通的出口的引導腔。引導腔的出口(實際上為排放孔的入口)被尖銳的邊緣圍繞。注射孔被定位在流動管道和引導腔之間，氣泡包含流通過注射孔從流動管道穿過并作為射流流入引導腔中，注射孔被配置為將射流對準尖銳的邊緣。已發(fā)現(xiàn)在先美國專利技術(shù)申請由于排放孔中的氣泡包含流的分離和重附著現(xiàn)象而產(chǎn)生細的噴霧。
技術(shù)實現(xiàn)思路
根據(jù)本專利技術(shù)的第一方面，提供一種氣霧劑噴射設(shè)備，該氣霧劑噴射設(shè)備包括容納有待從所述設(shè)備通過氣態(tài)推進劑被排放的液體的加壓或可加壓的容器和安裝在所述容器上的噴霧排放組件，所述氣態(tài)推進劑為在溫度為25°c且壓力為至少50巴的氣體，所述噴霧排放組件包括閥桿，所述閥桿能夠從第一極限位置移動到第二極限位置以影響從所述設(shè)備的噴霧排放；噴霧出口區(qū)域，所述噴霧出口區(qū)域具有出口孔，來自所述容器的流體從所述出口孔被排放；流動管道，所述流動管道用于將流體從所述容器供給到所述噴霧出口區(qū)域，所述流動管道具有用于來自所述容器的液體的至少一個第一入口和用于來自所述容器的頭部空間的推進劑氣體的至少一個第二入口，所述第二入口沿所述管道位于與所述第一入口相同的距離處或位于所述第一入口的下游；和閥門系統(tǒng)裝置，所述閥門系統(tǒng)裝置適于使所述閥桿的從所述第一極限位置向所述第二極限位置的移動打開所述第一入口和所述第二入口，以在所述流動管道中產(chǎn)生氣泡包含流，并且所述閥門系統(tǒng)裝置適于使所述閥桿的返回所述第一極限位置的移動關(guān)閉所述第一入口和所述第二入口，其中(i)所述流動管道至少在由下面第(iii)中限定的所述第二入口的區(qū)域中具有與直徑為O. 5mm至I. 5mm的圓相當?shù)臋M截面面積；(ii)所述第一入口具有的總橫截面面積與直徑為O. 15mm至I. 5mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第一入口具有與直徑為至少O. Imm的圓的面積相當?shù)臋M截面面積；并且(iii)所述第二入口具有的總橫截面面積與直徑為O. Imm至O. 7mm的圓的面積相當，附加條件是至少一個第二入口具有與直徑為至少O. IOmm的圓的面積相當?shù)臋M截面面積，進一步的附加條件是所述第二入口具有的總橫截面面積比所述第一入口的總橫截面面積小；并且(iv)所述噴霧出口孔具有的橫截面面積比所述第一入口的所述總橫截面面積小且比所述第二入口的所述總橫截面面積大。為了上述限定的目的，所述第一入口的橫截面面積和所述第二入口的橫截面面積 在它們進入所述流動管道的點處被測量。本專利技術(shù)基于以下發(fā)現(xiàn)通過所述流動管道的適當?shù)某叽缫约斑M入所述流動管道的所述第一(液體)入口和所述第二 (氣體)入口的截面尺寸，能夠從氣霧劑噴射設(shè)備產(chǎn)生良好的噴霧，而不需要包括如在WO 90/05580的構(gòu)造中所需要的限流器。這是由于這一事實所述第一(液體)入口和所述管道的相對小的尺寸在所述管道內(nèi)產(chǎn)生壓降，并產(chǎn)生所述管道中相對高的流本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】

【技術(shù)特征摘要】
【國外來華專利技術(shù)】...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：卡西姆·加瓦米納斯爾，安德魯·約翰·尤爾，馬丁·勞倫斯·伯比，
申請(專利權(quán))人：索爾福德大學，
類型：
國別省市：