在基材上沉積鈮摻雜的氧化鈦膜的方法和由此制備的涂覆基材技術

涂覆的制品包括鈮摻雜的氧化鈦的熱解施涂的透明導電氧化物膜。該制品可以使用具有鈮前體和鈦前體的涂料混合物制備。將該涂料混合物引導至加熱的基材以使該涂料混合物分解和在該加熱的基材的表面上沉積透明導電鈮摻雜的氧化鈦膜。在本發明專利技術的一種實施方式中，該方法使用混合物包含氣化的鈮前體、氣化的鈦前體、和載氣的氣化涂料實施以沉積薄層電阻大于1.2和折射率2.3以上的鈮摻雜的氧化鈦膜。鈮摻雜的氧化鈦的化學式為Nb：TiOX，其中X為1.8-2.1。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】在基材上沉積鈮摻雜的氧化鈦膜的方法和由此制備的涂覆基材專利技術背景1.專利
本專利技術涉及在基材上沉積透明導電的鈮摻雜的氧化鈦膜的方法和由此制備的涂覆基材，更具體來說，涉及通過熱解涂覆法，例如化學氣相沉積法，將鈮摻雜的氧化鈦膜沉積在玻璃基材上，以提供涂覆的基材，該基材可以用于以下的制造，但不限于此光伏器件、電致變色器件的電極、冰箱和飛機窗戶的可電加熱的視覺面板、有機發光二極管、以及住宅和商業設施窗戶的低發射率涂層。2.現有技術的討論基材，例如但不限于，具有沉積在表面上的透明導電氧化物膜的玻璃板用于以下的制造，但不限于此薄膜光伏應用、電子觸摸板、電致變色器件的電極、有機發光二極管、 防霧的商用冰箱門及飛機透明體的電加熱玻璃、以及住宅和商業設施窗戶例如紅外反射窗的低發射率涂層。當前討論所特別感興趣的是通過化學氣相沉積涂覆法沉積的透明導電氧化物膜，化學氣相沉積在本領域通常稱作CVD法，例如但不限于美國專利4，853，257、5，356，718和7，413，767中討論的CVD法。通過CVD法在玻璃上沉積的最常見的透明導電氧化物膜是通常用氟摻雜的氧化錫膜。雖然氟摻雜的氧化錫膜對于制造透明導電和紅外反射涂層來說是可接受的，但本領域技術人員可以領會的是，提供額外的透明導電氧化物膜或涂層可減少錫的使用并為通過CVD涂覆法制造透明導電氧化物膜中使用的材料購買市場提供更強的競爭力。專利技術概述本專利技術涉及改進的涂覆的制品類型，其具有在基材的表面上的熱解沉積的透明導電氧化物膜，改進包括，該熱解沉積的透明導電氧化物膜是鈮摻雜的氧化鈦等。本專利技術進一步涉及用于熱解涂覆法的氣化涂料混合物，該涂料混合物包含氣化的鈮前體、氣化的鈦前體、和載氣等。本專利技術更進一步涉及在基材的表面施涂透明導電氧化物膜的改進方法，通過本專利技術改進的所述方法包括將涂料混合物引導至加熱的基材表面以在該基材的表面上熱解沉積涂層等，改進包括提供具有鈮前體和鈦前體的涂料混合物；將該涂料混合物的料流引導至加熱的基材以氣化該涂料混合物和在該加熱的基材的表面上沉積透明導電的鈮摻雜的氧化欽I吳，和使該涂料混合物的料流和該基材相對于彼此移動等。附圖簡述圖I是在本專利技術的實施中使用的涂覆裝置的側俯視圖，該裝置將鈮摻雜的氧化鈦膜施涂或沉積在基材上。圖2是玻璃形成室的部分截面側視圖，其具有可以在本專利技術的實施中使用的將鈮摻雜的氧化鈦膜施涂或沉積在基材上的化學氣相沉積設備。圖3-5是具有根據本專利技術施涂或沉積的鈮摻雜的氧化鈦膜等的涂覆的玻璃的側面部分俯視圖。圖6是可以在本專利技術的實施中使用的涂覆器的涂覆側的俯視圖。圖7是玻璃形成室和退火爐的部分截面側視圖，其中熱解涂覆器在形成室的出口端和退火爐的入口端之間；該布置可以用在本專利技術的實施中以將鈮摻雜的氧化鈦膜施涂或沉積在基材上。圖8是涂覆器和玻璃板的側視圖，它們安裝成根據本專利技術的教導相對于彼此移動以將鈮摻雜的氧化鈦膜施涂或沉積在基材上。專利技術的具體說明本文使用的空間或方向術語，例如“內”、“外”、“左”、“右”、“上方”、“下方”、“水平的”、“垂直的”等等，涉及如附圖中所示的本專利技術。然而，應理解本專利技術可采用多種替代定 向，因此，不應將此類術語考慮為限定。此外，正如本文所使用的，說明書和權利要求書中使用的所有表示尺寸、物理特性、工藝參數、成分數量、反應條件等的數字，應理解為在所有情況下均被術語“約”修飾。因此，除非有相反說明，則在下面的說明書和權利要求書中述及的數值可根據意圖通過本專利技術獲得和/或尋求的性能而變化。至少并且不限制將等同原則應用于權利要求書的范圍，至少應根據所記錄的有效數位的數字和通過應用普通舍入技術來理解每個數值。此外，本文公開的所有范圍應理解為包括從起始范圍值到結束范圍值以及其中包含的所有子范圍。例如，所述的“I至10”的范圍應被理解為包括處在最小值I和最大值10(包含端值)之間的任何和所有子范圍；即從I以上的最小值開始并且以10以下的最大值結束的所有子范圍，例如I至6. 7、3. 2至8. I、或5. 5至10。此外，本文使用的術語“在...上方移動”、“在...上方涂覆”、“在...上方施涂”和“在...上方定位”意味著在表面上但不一定與該表面接觸地移動、涂覆和定位。例如，在表面“上方涂覆的”第一膜不排除在該表面和該第一膜之間存在第二膜。在討論本專利技術的若干非限制性實施方式前，應理解，本專利技術不將其應用限制于本文所示和所討論的特定非限制性實施方式的細節，因為本專利技術能夠以其它實施方式實施。而且，本文中使用的討論本專利技術的術語是為了說明的目的而非限制。此外，除非另有說明，在以下討論中，相同數字指代相同要素。在本專利技術的實施中，實施熱解涂覆法以在基材的表面上方或之上，例如與所述基材表面是表面接觸的，沉積用鈮(“Nb”)摻雜的氧化鈦(“Ti02”)的膜(也稱作“Ti02 Nb膜”)。該TiO2 :Nb膜是導電的且折射率為約2.3;涂覆的制品的折射率使用橢圓計測量。如現在可領會的，本專利技術不限于式TiO2 =Nb的化學計量，例如氧的值可以為大于或小于2，例如但不限于1.8-2. I。在下述本專利技術的非限制性實施方式中，熱解涂覆法是本領域中稱作“CVD”涂覆法的化學氣相沉積涂覆法，例如但不限于美國專利5，356，718中披露的CVD涂覆法，所述專利在此通過引用納入。如所領會的，本專利技術不限于任何特定的熱解涂覆法，任何本領域已知的熱解涂覆法，例如但不限于，大氣等離子沉積、噴霧熱解或等離子能涂層氣相沉積，都可以在本專利技術的實施中使用。合適的噴霧熱解法和裝置描述于美國專利3，660，061、4，111，150、4,719, 126和4，719，127中，所述專利在此通過引用納入?；目梢杂扇刍瘻囟雀哂谕扛睬绑w的氣化或分解溫度中較高者的任何材料制成。可以在本專利技術的實施中使用的基材包括，但不限于，透明或著色的玻璃和金屬。另外，基材可以具有任何形狀，例如但不限于瓶狀、平坦基材、彎曲基材、圓形基材、多邊形基材。本專利技術的非限制性實施方式包括，但不限于，在玻璃基材的表面上方或與其表面接觸的TiO2 =Nb膜；在抗暈色層、或顏色抑制層上方或與其表面接觸的TiO2 =Nb膜，所述抗暈色層、或顏色抑制層包含在玻璃基材的表面上方或與其表面接觸的一個或多個涂覆膜；在具有一個或多個透明、半透明的、不透明的涂覆膜或它們的組合的層上方或與其表面接觸的TiO2 =Nb膜，和與鈉阻隔層表面接觸的TiO2 =Nb膜，該鈉阻隔層在玻璃基材的表面上方或與其表面接觸。如可以領會的，本專利技術的TiO2 :Nb膜可以在抗暈色層、或顏色抑制層之下；在具有一個或多個透明的、半透明的、不透明的涂覆膜或它們的組合的層之下；和在鈉阻隔層之下。另外，本專利技術的TiO2 Nb膜可以在折射率值大于或小于本專利技術的TiO2 Nb膜的折射率值的膜之下或上方?？梢杂帽緦＠夹g的涂覆玻璃基材制造的產品包括，但不限于，紅外反射窗的涂覆玻璃、薄膜光伏應用、電子觸摸板、電致變色制品的電極、有機發光二極管、以及防霧的商用冰箱門和飛機透明體的電加熱玻璃。 進行實驗以通過使用熱解法，例如CVD涂覆法將導電的T i O2 : Nb膜沉積在玻璃基材上。更具體來說，參考附圖說明圖1，實施本專利技術的非限制性實施方式，使用鈮前體乙醇鈮(Nb(C2H5O)5)(本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：陸松偉，J·W·麥卡米，J·J·芬雷，
申請(專利權)人：PPG工業俄亥俄公司，
類型：
國別省市：