粒子束流照射裝置和所述粒子束流照射裝置的控制方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供一種粒子束流照射裝置，其能夠用簡單的結構在掃描期間測量并顯示劑量的二維分布，同時減少粒子束流形狀的劣化。根據本發明專利技術的所述粒子束流照射裝置包括：束流產生部分，其產生粒子束流；束流發射控制部分，其控制所述粒子束流的發射；束流掃描部分，其二維地掃描所述粒子束流；傳感器部分，其包括多個在第一方向上平行布置的第一線電極和多個在垂直于所述第一方向的第二方向上平行布置的第二線電極；束流形狀計算部分，其根據從每個所述第一線電極輸出的第一信號和從每個所述第二線電極輸出的第二信號計算粒子束流的重心，并且得到所述重心周圍的所述粒子束流的二維束流形狀；存儲部分，其累積并存儲所述二維束流形狀；以及顯示部分，其顯示所述二維束流形狀，作為劑量的二維分布。

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】

【技術保護點】

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】...

【專利技術屬性】
技術研發人員：井關康，塙勝詞，前田一尚，角谷暢一，古川卓司，稻庭拓，佐藤真二，野田耕司，
申請(專利權)人：株式會社東芝，獨立行政法人放射線醫學綜合研究所，
類型：
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