一種在陣列基板和/或彩膜基板上形成對位標記的掩膜版制造技術

本實用新型專利技術公開了一種在陣列基板和/或彩膜基板上形成對位標記的掩膜版，包括至少兩組對位標記，所述每組對位標記包括兩個對位圖形，所述對位圖形的圖案不同且設置于掩膜版相對的兩側。本實用新型專利技術通過采用該掩膜版，實現了一張掩膜版在陣列基板和/或彩膜基板上形成多種對位標記的效果，極大的降低成本，顯著提升企業的經濟效益和核心競爭力。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及顯示
，特別是涉及一種在陣列基板和/或彩膜基板上形成對位標記的掩膜版。
技術介紹
掩膜版作為轉移微細圖形的工具，用于陣列基板工藝的批量復制生產，在TFT-IXD生產中具有承上啟下的關鍵作用，是TFT-IXD產業鏈中不可或缺的重要環節。生產過程中 有多少次光刻就需要多少張不同圖形的掩膜版，掩膜版的數量代表了制造過程中采用的光刻工藝子流程的數目，減少掩膜版的數量和光刻的次數是提高成品率、縮短制作周期、降低能耗的關鍵，也是TFT技術發展的動力。但是掩膜版價格昂貴，若在掩膜版設計、制作、運輸、保存等過程中有任何差錯，掩膜版就無法使用，給設計者和生產者均帶來了很大困擾。另外，目前掩膜版使用數量的減少，往往是從TFT-LCD陣列基板的結構和工藝簡化來考慮，但忽略了從掩膜版設計本身來考慮問題。在液晶顯示裝置的生產過程中，需要在陣列基板和彩膜基板上制備多種對位標記，如對盒標記、取向膜標記、封框膠標記、層對位標記，以及設備對位標記等，從而實現生產過程中對基板位置的準確控制。目前，對位標記的制備是采用掩膜工藝實現的，每制備一種對位標記，都需要一張與之相對應的掩膜版，特別是在陣列基板和彩膜基板對盒工藝中，需要采用兩張掩膜版分別在陣列基板和彩膜基板上形成對位標記，生產成本比較高。現有技術中，對盒的具體操作過程如下I)利用圖I所示的掩膜版在陣列基板上形成對位標記，該對位標記包括第一空心對位圖形I、第二空心對位圖形2、第三空心對位圖形3、第四空心對位圖形4 ；2)利用圖2所示的掩膜版在彩膜基板上形成對位標記，該對位標記包括第一實心對位圖形I’、第二實心對位圖形2’、第三實心對位圖形3’、第四實心對位圖形4’ ；3)將彩膜基板翻轉，利用形成的對位標記使陣列基板和彩膜基板對盒。為了降低成本，急需一種掩膜版來實現一張掩膜版可制備多種對位標記。
技術實現思路
(一 )要解決的技術問題本技術要解決的技術問題是提供一種掩膜版來實現一張掩膜版可制備多種對位標記。(二)技術方案為了解決上述技術問題，本技術提供一種在陣列基板和/或彩膜基板上形成對位標記的掩膜版，包括至少兩組對位標記，所述每組對位標記包括兩個對位圖形，所述對位圖形的圖案不同且設置于掩膜版相對的兩側。優選地，所述每組對位標記的兩個對位圖形中，一個對位圖形設置于掩膜版的左偵U，另一個設置于掩膜版的右側。優選地，所述每組對位標記的兩個對位圖形中，一個設置于掩膜版的上側，另一個設置于掩膜版的下側。優選地，所述每組對位標記的兩個對位圖形中，一個對位圖形設置于掩膜版的左上角，另一個設置于掩膜版的右下角。優選地，所述每組對位標記的兩個對位圖形中，一個對位圖形設置于掩膜版的右上角，另一個設置于掩膜版的左下角。優選地，所述每組對位標記由大小和/或形狀不同的兩個對位標記組成。優選地，所述每組對位標記中的兩個對位圖形，其中一個對位圖形為空心圖形，另一個對位圖形為實心圖形。(三)有益效果上述技術方案所提供的掩膜版，通過在掩膜版上設置有至少兩套對位標記，實現了一張掩膜版在陣列基板和/或彩膜基板上形成多種對位標記的效果，極大的降低成本，顯著提升企業的經濟效益和核心競爭力。附圖說明圖I是利用現有技術中在彩膜基板上形成的對位標記的掩膜版示意圖；圖2是利用現有技術中在陣列基板上形成的對位標記的掩膜版示意圖；圖3是圖I和圖2中所不的彩I旲基板和陣列基板對位的不意圖；圖4是本技術實施例I的掩膜版的示意圖；圖5是本技術提供的另一種掩膜版的示意圖；圖6是利用本技術實施例2得到的陣列基板和彩膜基板對位后的示意圖。其中，I :第一空心對位圖形；2 :第二空心對位圖形；3 :第三空心對位圖形；4 :第四空心對位圖形；1’ 第一實心對位圖形；2’ 第二實心對位圖形；3’ 第三實心對位圖形；4’ 第四實心對位圖形。具體實施方式以下結合附圖和實施例，對本技術的具體實施方式作進一步詳細描述。以下實施例用于說明本技術，但不用來限制本技術的范圍。實施例I圖4示出了本實施例的掩膜版的示意圖，圖示的掩膜版上設置有兩組對位標記，每組對位標記包括兩個對位圖形，兩個對位圖形的圖案不同，每組的對位標記中的兩個對位圖形設置于掩膜版的左右兩側。下面以掩膜版在陣列基板和彩膜基板上形成對盒用的對位標記的過程為例對掩膜版的使用方法進行說明。采用如圖4所示的掩膜版進行對盒工藝的過程如下I)采用如圖4所示的掩膜版通過掩膜工藝在陣列基板上形成對盒用的第一空心對位圖形I、第二空心對位圖形2 ；2)繼續采用該掩膜版通過掩膜工藝在彩膜基板上形成對盒用的對位標記第一實心對位圖形P、第二實心對位圖形2'；3)將形成對盒用的第一實心對位圖形I'、第二實心對位圖形2'的彩膜基板翻轉；4)通過CXD (圖像傳感器)對應對位標記來實現陣列基板和彩膜基板的對盒，具體為陣列基板上的第一空心對位圖形I與彩膜基板上的第一實心對位圖形Γ進行對位，陣列基板上的第二空心對位圖形2與彩膜基板上的第二實心對位圖形2'進行對位，使彩膜基板上的第一實心對位圖形Γ位于第一空心對位圖形I的中心位置，第二實心對位圖形2'位于第二空心對位圖形2的中心位置。通過上述操作過程，實現了僅使用一張掩膜版即可完成陣列基板和彩膜基板的對位過程，節省了一張掩膜版，降低了生產成本。實施例2圖5示出了實施例2提供的另一種掩膜版的示意圖，為了更精確的進行對位操作，本實施提供的掩膜版包括四組對位標記，每組對位標記包括兩個圖案不同的對位圖形，每組的對位標記中的兩個對位圖形設置于掩膜版的左右兩側。使用該掩膜版的方法與實施例I中基本相同，區別在于在通過CCD對位時，首先需要使彩膜基板上的第一實心對位圖形r位于第一空心對位圖形I的中心位置，第二實心對位圖形2'位于第二空心對位圖形2的中心位置，還需要使彩膜基板上的第三實心對位圖形3'位于陣列基板上的第三空心對位圖形3的中心位置，且各邊平行，彩膜基板上的第四實心對位圖形4'位于陣列基板上的第四空心對位圖形4的中心位置，且各邊平行，即完成對盒工藝中的對位操作，對位操作完成后的示意圖如圖6所示。本實施例中的第三、第四組空心、實心對位圖形主要是作為精對位圖形使用。在需要實現其他對位操作時，僅需在掩膜版上增加相應的對位圖形，即可實現一張掩膜版制備多種對位標記的效果。上述兩個實施例中提供的掩膜版，將對位標記設置于掩膜版的角上，但對位標記所設置的位置不僅限于此，只要是在陣列基板和彩膜基板上形成對位標記后，不影響陣列基板和彩膜基板的后續工藝制作的位置都是可以的。同時，對位圖形的選擇也不僅限于如圖4、5所示的空心、實心的圓形和方形，其他形狀也可以實現本方案的效果。本實施例中掩膜版上的對位圖形設置為圓形是為了對位能夠快速簡單，精對位圖形設置為長方形是為了對位的精度高，精對位圖形也可設置為五邊形、六邊形等，但是增加了攝像頭識別對位的復雜度，不及長方形既能保證對位的精度，又能盡可能的簡化攝像頭識別的過程。本實施例的掩膜版設計采用Right Read方式進行，此時形成的曝光圖形在掩膜版的上表面；也可以采用Wrong Read方式,形成的曝光圖形在掩膜版的下表面。本實施例中的掩膜版不包括切割標記曝光圖案，切割標記可最后由電極ITO設計完成，設備可以識別。另本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種在陣列基板和/或彩膜基板上形成對位標記的掩膜版，其特征在于，包括至少兩組對位標記，所述每組對位標記包括兩個對位圖形，所述對位圖形的圖案不同且設置于掩膜版相對的兩側。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：李文波，孫中元，鄧簡，武延兵，
申請(專利權)人：京東方科技集團股份有限公司，
類型：實用新型
國別省市：