均勻清洗裝置制造方法及圖紙

本發明專利技術涉及一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設置有超聲波發生器，所述槽體的側壁上端分別設置有擋板，所述擋板的邊緣設置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒，所述擋板上的凹面梯形齒設置在同一個平面上，所述相鄰梯形凸起、相鄰凹面梯形齒的形狀相同。本發明專利技術通過打磨機將擋板上的尖角打磨成凹面梯形齒，使得水流的地方平整，水流帶動雜質從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質，保證鏡片的清洗質量。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及光學器件領域，尤其涉及一種鏡片的均勻清洗裝置。
技術介紹
隨著電子技術的發展，數碼相機、攝像機等設備的使用越來越廣泛。在數碼相機、攝像機等設備的制造過程中，光學器件是不可缺少的部件。其中使用的圓形光學玻璃鏡片一般是先通過選原材料、切割、超聲波清洗，再進行鍍膜、光譜及外觀檢測，接著將玻璃鏡片粘結在一起形成玻璃方柱，再通過內圓切割機將玻璃方柱切成小塊小塊的玻璃方柱，最后通過磨圓機進行磨圓、泡膠、清洗、干燥，得到所需的光學鏡片。其中，鏡片的清洗工藝是光學鏡片加工中的一道重要工序，其直接影響到光學鏡片的質量。目前鏡片的清洗是放置在 清洗槽內，通過超聲波進行清洗。由于承載鏡片的夾具在通過設備在快下慢上的運動過程中，清洗槽的邊角不均勻，使得鏡片上的雜質聚流到一個角落，在運動過程中又被帶入清洗的純水內，影響了鏡片的清洗質量。
技術實現思路
本專利技術克服了現有技術的不足，提供一種結構簡單、水流均勻的均勻清洗裝置。為達到上述目的，本專利技術采用的技術方案為一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設置有超聲波發生器，所述槽體的側壁上端分別設置有擋板，所述擋板的邊緣設置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒。本專利技術一個較佳實施例中，均勻清洗裝置進一步包括所述擋板上的凹面梯形齒設置在同一個平面上。本專利技術一個較佳實施例中，均勻清洗裝置進一步包括所述相鄰梯形凸起、相鄰凹面梯形齒的形狀相同。本專利技術解決了
技術介紹
中存在的缺陷，本專利技術通過打磨機將擋板上的尖角打磨成凹面梯形齒，使得水流的地方平整，水流帶動雜質從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質，保證鏡片的清洗質量。附圖說明下面結合附圖和實施例對本專利技術進一步說明。圖I是本專利技術的優選實施例的結構示意 圖中1、槽體，2、超聲波發生器，3、擋板，4、梯形凸起，5、凹面梯形齒。具體實施例方式現在結合附圖和實施例對本專利技術作進一步詳細的說明，這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本專利技術的基本結構，因此其僅顯示與本專利技術有關的構成。如圖I所示，一種均勻清洗裝置，包括槽體I，所述槽體I的下端設置有超聲波發生器2，通過振動帶動槽體I內的水不斷地沖擊鏡片表面，使鏡片上的雜質快速地剝落，清洗效果好，而且速度快，對鏡片表面無損傷，達到很好的清洗效果。本專利技術優選所述槽體I的側壁上端分別設置有擋板3，所述擋板3的邊緣設置有梯形凸起4，所述相鄰梯形凸起4之間為凹面梯形齒5，并且所述擋板3上的凹面梯形齒5設置在同一個平面上，所述相鄰梯形凸起4、相鄰凹面梯形齒5的形狀相同。水流的地方平整，水流帶動雜質從水槽的四周溢出，快速且均勻的去除了水中的雜質，保證鏡片的清洗質量，提聞了鏡片的良品率。以上依據本專利技術的理想實施例為啟示，通過上述的說明內容，相關人員完全可以 在不偏離本項專利技術技術思想的范圍內，進行多樣的變更以及修改。本項專利技術的技術性范圍并不局限于說明書上的內容，必須要根據權利要求范圍來確定技術性范圍。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設置有超聲波發生器，其特征在于：所述槽體的側壁上端分別設置有擋板，所述擋板的邊緣設置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒。

【技術特征摘要】
1.一種均勻清洗裝置，包括槽體，所述槽體的下端設置有超聲波發生器，其特征在于所述槽體的側壁上端分別設置有擋板，所述擋板的邊緣設置有梯形凸起，所述相鄰梯形凸起之間為凹面梯形齒。2....

【專利技術屬性】
技術研發人員：奐微微，
申請(專利權)人：蘇州五方光電科技有限公司，
類型：發明
國別省市：