一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃制造技術

本實用新型專利技術涉及一種鍍膜玻璃，尤其是一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，其包括基片玻璃，所述基片玻璃為浮法玻璃，其不同之處為：自基片玻璃向外依次設置有第一電介質層、第二電介質層、第一保護層、Ag層、第二保護層、第三電介質層、第四電介質層，第一電介質層為Si3N4電介質層，第二電介質層為ZnAlOX，第一保護層、第二保護層均為NiCrOX，第三電介質層為TiOX，第四電介質層為Si3N4介質層。本實用新型專利技術提供一種質量可靠，具有加強型效果的可異地加工加強型高透單銀低輻射鍍膜玻璃，其透過率在79%以上。（*該技術在2022年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】

本技術涉及一種鍍膜玻璃，尤其是一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃。
技術介紹
現有技術中生產高透低輻射鍍膜玻璃，生產難度較大，且只能采用先鋼化后鍍膜的生產方式，不能承受長途運輸，易損壞。
技術實現思路
為解決以上技術問題，本技術提供一種質量可靠，具有加強型效果的可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，其透過率在79%以上。 為實現以上專利技術目的，本技術的技術方案為一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，其包括基片玻璃，所述基片玻璃為浮法玻璃，其不同之處為自基片玻璃向外依次設置有第一電介質層、第二電介質層、第一保護層、Ag層、第二保護層、第三電介質層、第四電介質層，第一電介質層為Si3N4電介質層,第二電介質層為ZnAlOx,第一保護層、第二保護層均為NiCrOx,第三電介質層為TiOx,第四電介質層為Si3N4介質層,第一電介質層的膜層厚度為20nm 30nm,第二電介質層的膜層厚度為IOnm 20nm,第一保護層的膜層厚度為O. 8nm I. 2nm, Ag層的膜層厚度為IOnm 13nm,第二保護層的膜層厚度為O. 8nm I. 2nm,第三電介質層的膜層厚度為74nm 76nm,第四電介質層的膜層厚度為35nm 40nmo本技術的有益效果是本技術提供了一種異地加工加強型高透單銀低輻射鍍膜玻璃，可實現先鍍膜再進行改切、磨邊、鋼化等后續加工。在膜層中含有一層具有反射紅外線能力的銀層和具有減少可見光反射以及保護銀層作用的電介質層和耐磨電介質層，極大地降低了玻璃表面輻射率，起到了較好的隔熱保溫效果，同時也提高了整個玻璃的強度，抗氧化性能更好，能夠承受長途運輸，生產難度小。附圖說明圖I是本技術可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃的結構示意圖；圖2是本技術可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃的一個實施例結構示意圖。具體實施方式以下結合附圖對本技術實施例作進一步的描述。如圖I，本技術實施例可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，其包括基片玻璃，所述基片玻璃為浮法玻璃，自基片玻璃向外依次設置有第一電介質層、第二電介質層、第一保護層、Ag層、第二保護層、第三電介質層、第四電介質層。如圖2所示，本技術提供的可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃的一個實施例，其中，GLASS指新鮮透明的優質浮法玻璃，第一電介質層為Si3N4電介質層，第二電介質層為ZnAlOx，第一保護層、第二保護層均為NiCrOx，第三電介質層為TiOx，第四電介質層為Si3N4介質層。優選的，第一電介質層的Si3N4的膜層厚度為20nm 30nm,第二電介質層的ZnAlOx的膜層厚度為IOnm 20nm,第一保護層的NiCrOx的膜層厚度為O. 8nm I. 2nm, Ag層的膜層厚度為IOnm 13nm,第二保護層的NiCrOx的膜層厚度為O. 8nm I.2nm,第三電介質層TiOx的膜層厚度為74nm 76nm,第四電介質層的Si3N4介質層的膜層厚度為35nm 40nm。上述膜層的加工工藝為所有Si3N4膜層采用雙陰極旋轉靶在中頻電源下濺射，工藝氣體為Ar和N2的混合氣體，濺射功率為40kw llOkw，中頻電源頻率為20kHz 55kHz。 AlZnOx膜層膜層采用雙陰極旋轉靶在中頻電源下濺射，工藝氣體為Ar和O2的混合氣體，濺射功率為15kw 20kw，中頻電源頻率為IOkHz 50kHz。TiOx膜層采用雙陰極旋轉靶在中頻電源下濺射，工藝氣體為Ar和O2的混合氣體，濺射功率為50kw 80kw，中頻電源頻率為IOkHz 50kHz。NiCrOx膜層采用平面陰極在直流電源下濺射，工藝氣體為Ar和O2的混合氣體，濺射功率為3kw 9kw。所有Ag膜層采用平面陰極在直流電源下濺射，工藝氣體為Ar，濺射功率為5kw 10kw。以上顯示和描述了本技術的基本原理和主要特征和本技術的優點。本行業的技術人員應該了解，本技術不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本技術的原理，在不脫離本技術精神和范圍的前提下，本技術還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本技術范圍內。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，所用基片玻璃為浮法玻璃，其特征在于：自基片玻璃向外依次包括第一電介質層、第二電介質層、第一保護層、Ag層、第二保護層、第三電介質層、第四電介質層，第一電介質層為Si3N4電介質層，第二電介質層為ZnAlOX，第一保護層、第二保護層均為NiCrOX，第三電介質層為TiOX，第四電介質層為Si3N4介質層，第一電介質層的膜層厚度為20nm～30nm，第二電介質層的膜層厚度為10nm～20nm，第一保護層的膜層厚度為0.8nm～1.2nm，Ag層的膜層厚度為10nm～13nm，第二保護層的膜層厚度為0.8nm～1.2nm，第三電介質層的膜層厚度為74nm～76nm，第四電介質層的膜層厚度為35nm～40nm。

【技術特征摘要】
1.一種可異地加工加強型單銀高透低輻射鍍膜玻璃，所用基片玻璃為浮法玻璃，其特征在于自基片玻璃向外依次包括第一電介質層、第二電介質層、第一保護層、Ag層、第二保護層、第三電介質層、第四電介質層，第一電介質層為Si3N4電介質層,第二電介質層為ZnAlOx，第一保護層、第二保護層均為NiCrOx，第三電介質層為TiOx，第四電介質層為...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王桂榮，陳德成，陳飛，陳飛，楊真理，李蕾，
申請(專利權)人：武漢長利玻璃漢南有限公司，
類型：實用新型
國別省市：