一種防著板表面處理方法技術(shù)

一種防著板表面處理方法，所述方法包括：提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。在光滑的防著板的表面進(jìn)行圖案化、噴砂和熔射處理后，使得防著板表面達(dá)到防腐蝕、防銹、耐磨、潤滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱等目的。同樣可以使得防著板的防著面達(dá)到均勻的粗糙度；使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，使其不掉落在基片上，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度；提高了濺鍍的成膜率；延長了防著板的使用壽命。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術(shù)涉及真空濺鍍技術(shù)，特別涉及真空濺鍍的防著板表面處理方法。?
技術(shù)介紹
真空濺鍍是由電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜，而最終達(dá)到對(duì)基片表面鍍膜的目的。二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響，被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi)，該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高，二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運(yùn)動(dòng)，該電子的運(yùn)動(dòng)路徑很長，在運(yùn)動(dòng)過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材，經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低，擺脫磁力線的束縛，遠(yuǎn)離靶材，最終沉積在基片上，或少量的沉積在真空室內(nèi)壁。?然而，在上述真空濺鍍的過程中，濺射出的靶材原子或大尺寸的顆粒，會(huì)最終飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響其清潔。為此，在濺射機(jī)的結(jié)構(gòu)中加入了防著板。?相關(guān)技術(shù)另可參閱專利申請(qǐng)?zhí)枮?00720141077.6的中國專利文件，請(qǐng)參閱圖1，圖1繪示為現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍機(jī)的剖面示意圖。該濺鍍機(jī)主要包括：靶材10，該靶材10采用上述真空濺鍍?cè)恚a(chǎn)生靶材原子，而這些靶材原子最終沉積在基片15上完成濺鍍；防著板11，該防著板11設(shè)于導(dǎo)軌12兩側(cè)，該防著板11用于防止原子沉積于置物板14以外的機(jī)臺(tái)其他位置；導(dǎo)軌12，該導(dǎo)軌12設(shè)于輸送帶13的兩側(cè)，用以導(dǎo)引置物板14移動(dòng)方向；輸送帶13，該輸送帶13輸送置物板14經(jīng)過靶材10；置物板14，提供給基片15放置。通過上述組成，基片15置于置物板14上，再將置物板14置于輸送帶13上，?經(jīng)導(dǎo)軌12導(dǎo)引，而經(jīng)過濺鍍?cè)?0完成濺鍍。?請(qǐng)?jiān)賲㈤唸D2，圖2為圖1中防著板的正面視圖。由圖可以看出，防著板16的防著面11光滑。?采用上述濺鍍機(jī)在濺鍍過程中，由于防著板16的防著面11光滑，因此其沉淀能力不強(qiáng)，一方面濺射出的靶材原子或大尺寸的顆粒仍然會(huì)飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響其清潔；另一方面由于大尺寸顆粒飛向基片15會(huì)造成成膜率低的缺陷。?
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本專利技術(shù)解決的問題是提供一種真空濺鍍的防著板表面處理技術(shù)，增強(qiáng)防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度，同時(shí)提高濺鍍的成膜率。?為解決上述問題，本專利技術(shù)提供了一種防著板表面處理方法，所述方法包括：提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。?可選的，對(duì)所述防著面進(jìn)行噴砂處理后，還包括用純凈水或去離子水清洗防著面的步驟。-->?可選的，所述防著板的材料為鋁或者鋁合金。?可選的，所述防著面和噴砂槍噴嘴的直線距離范圍為14.5cm～15.5cm。?可選的，噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線運(yùn)動(dòng)方向和所述防著面呈80度～100度夾角。?可選的，所述噴砂處理的壓縮空氣的壓強(qiáng)調(diào)節(jié)在0.35MPa～0.6MPa。?可選的，所述噴砂處理的砂粒型號(hào)為22號(hào)～24號(hào)白剛玉。?可選的，所述噴砂處理的砂粒重量為1千克。?可選的，所述熔射處理的溫度控制在1000攝氏度～3000攝氏度。?可選的，所述熔射處理的熔射距離為50mm～500mm。?可選的，所述熔射處理的熔射粉末的供給量設(shè)定為30～180g/min。?與現(xiàn)有技術(shù)相比，本專利技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)：?將防著板表面進(jìn)行圖案化，使得防著板表面粗糙化；將圖案化的防著板表面進(jìn)行噴砂處理，可以使得防著板表面形成均勻的粗糙度；將噴砂后的防著板表面進(jìn)行熔射處理，出了形成更均勻的粗糙度之外，還增加了防著板的耐腐蝕性。因此，總的來說，在光滑的防著板的表面進(jìn)行圖案化、噴砂和熔射處理后，達(dá)到防腐蝕、防銹、耐磨、潤滑、表面粗糙化、吸附、絕緣、絕熱等目的，同樣可以使得防著板的防著面達(dá)到均勻的粗糙度；使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，使其不掉落在基片上，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度；提高了濺鍍的成膜率；延長了防著板的使用壽命。?附圖說明圖1是現(xiàn)有技術(shù)的濺鍍機(jī)的剖面示意圖；?圖2是圖1中防著板的正面視圖；?圖3是本專利技術(shù)真空濺鍍的防著板表面處理的工藝流程示意圖；?圖4是本專利技術(shù)對(duì)所述防著板的光滑表面進(jìn)行圖案化處理的工藝流程示意圖；?圖5是本專利技術(shù)的真空濺鍍的防著板結(jié)構(gòu)較佳實(shí)施例的防著面局部示意圖；?圖6是圖5沿A-A方向的剖視圖。?具體實(shí)施方式為使本專利技術(shù)的上述目的、特征和優(yōu)點(diǎn)能夠更加明顯易懂，下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)專利技術(shù)的具體實(shí)施方式做詳細(xì)的說明。?在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本專利技術(shù)，但是本發(fā)?明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，因此本專利技術(shù)不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。?正如
技術(shù)介紹
所述，由于其防著板的表面光滑，其沉淀能力不強(qiáng)，一方面濺射出的靶材原子或大尺寸的顆粒仍然會(huì)飛向?yàn)R射機(jī)的內(nèi)壁表面，影響其清潔；另一方面由于大尺寸顆粒飛向基片會(huì)造成成膜率低的缺陷。?參考圖3，本專利技術(shù)實(shí)施例提供了一種真空濺鍍的防著板表面處理方法，包括如下步驟：-->?步驟S1，提供表面光滑的防著板；?步驟S2，對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；?步驟S3，在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；?步驟S4，將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。?下面結(jié)合附圖對(duì)于上述實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)說明。?如步驟S1所述，提供表面光滑的防著板。所述防著板的材料可以是鋁或者鋁合金，所述防著板對(duì)鋁材的組成沒有特別限定，根據(jù)用途的要求可使用各種材質(zhì)的鋁材。另外，對(duì)鋁材的加工方法也無限定，可使用擠壓出的鋁材、壓延材、鑄成材以及替他種類的材料。防著板的形狀，根據(jù)應(yīng)用環(huán)境、濺射設(shè)備的實(shí)際要求，可以為圓形、矩形、環(huán)形、圓錐形或其他類似形狀(包括規(guī)則形狀和不規(guī)則形狀)中的任一種，本實(shí)施例中以長度為1300mm、寬度為226.5mm、厚度為13mm的方形防著板進(jìn)行說明。?接著執(zhí)行步驟S2，對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面。由于在所述光滑的防著板表面設(shè)有凹凸不平的結(jié)構(gòu)，使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度。?對(duì)所述防著板的光滑防著面采用機(jī)械加工的方法進(jìn)行圖案化處理請(qǐng)參考?圖4，具體分為如下幾個(gè)步驟：?首先，對(duì)防著板進(jìn)行毛坯下料作業(yè)(步驟100)；然后對(duì)防著板進(jìn)行油壓校正(步驟101)，本實(shí)施例中，所述油壓校正較佳采用100噸油壓校正；之后對(duì)防著板的防著面進(jìn)行粗銑(步驟102)；之后對(duì)防著板的防著面進(jìn)行精銑(步驟103)；之后對(duì)防著板的防著面進(jìn)行凹凸結(jié)構(gòu)的加工(步驟104)；最后再對(duì)平面進(jìn)行校正(步驟105)。即在加工過程中對(duì)平面進(jìn)行校正，可以減少防著板厚度較薄而對(duì)加工出的凹凸結(jié)構(gòu)均勻性的影響。當(dāng)然，如上所述，防著板的側(cè)面也可以設(shè)置為凹凸不平的結(jié)構(gòu)，而在制作的過程中增加對(duì)相應(yīng)面的精銑及凹凸結(jié)構(gòu)的制作。?經(jīng)過上述步驟后，防著板的防著面形成了凹凸不平的結(jié)構(gòu)，使得防著板更加容易吸附靶材原子或大尺寸的顆粒，從而增加了防著板的沉淀能力，提高濺射機(jī)內(nèi)壁清潔度，提高了濺鍍的成膜率。?請(qǐng)參閱圖5，圖5是本專利技術(shù)的真空濺鍍的防著板結(jié)構(gòu)較佳實(shí)施例的防著面局部示意圖。在本實(shí)施例里，所述凹凸不平的結(jié)構(gòu)為所述防著板1的防著面2設(shè)有多個(gè)凸臺(tái)3，各所述凸臺(tái)3間存在間隙本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種防著板表面處理方法，其特征在于，所述方法包括：提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種防著板表面處理方法，其特征在于，所述方法包括：提供表面光滑的防著板；對(duì)所述防著板的防著面進(jìn)行圖案化處理，形成凹凸不平的防著面；在所述防著面進(jìn)行噴砂處理；將進(jìn)行噴砂處理后的防著面進(jìn)行熔射處理。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，對(duì)所述防著面進(jìn)行噴砂處理后，還包括用純凈水或去離子水清洗防著面的步驟。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，所述防著板的材料為鋁或者鋁合金。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，所述防著面和噴砂槍噴嘴的直線距離范圍為14.5cm～15.5cm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的防著板表面處理方法，其特征在于，噴砂槍噴嘴所噴砂粒所作的直線運(yùn)動(dòng)方向和所述防著面呈80度～100...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：姚力軍，潘杰，王學(xué)澤，陳玉蓉，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：寧波江豐電子材料有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：97