【技術實現步驟摘要】
本專利技術屬于鎢鉬合金薄膜材料，具體涉及阿爾法相鎢鉬合金薄膜，還涉及阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法。
技術介紹
1、鎢鉬合金是一種重要的高溫材料，具有優異的高溫強度、抗氧化性和耐磨性，同時具有良好的耐腐蝕性，因此廣泛應用于航空航天、國防軍工和高溫工業領域。隨著器件的小型化發展，高質量鎢鉬合金薄膜的需求更加迫切，另外要滿足不同領域的需求，需要對合金中鎢和鉬的比例進行調節和性能優化。由于鎢的相結構復雜，有阿爾法相和貝塔相，貝塔相鎢是一種亞穩態相，熱穩定性差，在一定的膜厚和溫度下會轉變為阿爾法相鎢，因此，高質量阿爾法相且成分可調的鎢鉬合金更有應用價值。
技術實現思路
1、本專利技術的第一個目的是提供阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，本專利技術通過鎢和鉬共濺射形成薄膜，并通過真空退火，實現阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備。
2、本專利技術的第二個目的是提供阿爾法相鎢鉬合金薄膜，該鎢鉬合金薄膜呈阿爾法相，具有良好的熱穩定性。
3、本專利技術所采用的第一個技術方案是，阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，具體步驟如下：
4、步驟1：由磁控濺射法同時在襯底上沉積wxmo1-x合金層，其中0.2≤x≤0.8；
5、步驟2：退火：在wxmo1-x合金層沉積結束后，將樣品進行退火處理。
6、本專利技術的特征還在于：
7、步驟1中，襯底為si基片、sio2基片或預先模印刻制圖案的si基片。
8、步驟1中，阿爾法相鎢鉬合金薄膜中wxmo
9、步驟1中，采用磁控濺射系統制備同時在襯底上沉積w和mo；w靶的濺射功率為20w-60w，mo靶的濺射功率為13w-60w；濺射時長為128s-300s。
10、磁控濺射系統中基板旋轉速度為5rpm-20rpm。
11、步驟2中，退火溫度為500℃-700℃，
12、步驟2中，退火時間為0.5h-2h。
13、本專利技術所采用的第二個技術方案是，阿爾法相鎢鉬合金薄膜，采用上述方法制備得到。
14、本專利技術的有益效果是：
15、由于貝塔相鎢鉬合金在高溫情況下會使其應力積累顯著提高，導致其熱力學不穩定性的增加，因此通過本專利技術方法將鎢鉬合金結構重組轉變為穩定相的阿爾法相鎢鉬合金，制備得到的阿爾法相鎢鉬合金薄膜具有良好的熱穩定性。
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1.阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：
2.根據權利要求1所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，襯底（1）為Si基片、SiO2基片或預先模印刻制圖案的Si基片。
3.根據權利要求2所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，阿爾法相鎢鉬合金薄膜中WxMo1-x合金層（2）的沉積采用磁控濺射系統制備，濺射氣氛為氬氣，氬氣流量為18sccm-36sccm。
4.根據權利要求2所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，采用磁控濺射系統制備同時在襯底（1）上沉積W和Mo；W靶的濺射功率為20W-65W，Mo靶的濺射功率為13W-60W；濺射時長為128s-300s。
5.根據權利要求3所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，磁控濺射系統中基板旋轉速度為5rpm-20rpm。
6.根據權利要求1所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟2中，退火溫度為500℃-700℃。
7.根據權利要求1所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的
8.阿爾法相鎢鉬合金薄膜，其特征在于，采用權利要求1-7任意一項所述方法制備得到。
...【技術特征摘要】
1.阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，具體步驟如下：
2.根據權利要求1所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，襯底（1）為si基片、sio2基片或預先模印刻制圖案的si基片。
3.根據權利要求2所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，阿爾法相鎢鉬合金薄膜中wxmo1-x合金層（2）的沉積采用磁控濺射系統制備，濺射氣氛為氬氣，氬氣流量為18sccm-36sccm。
4.根據權利要求2所述的阿爾法相鎢鉬合金薄膜的制備方法，其特征在于，步驟1中，采用磁控濺射系統制備同時在襯底（1）上沉積...
【專利技術屬性】
技術研發人員：馬麗，劉志豪，龍河海，王雪，萬雅帆，康斌，鄭富，王曉夢，曹志杰，
申請(專利權)人：寧夏大學，
類型：發明
國別省市：
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