【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及確定標記位置的方法、光刻方法、制造物品的方法、存儲器介質和光刻裝置。
技術介紹
1、可以通過使用觀測儀(scope)捕獲標記的圖像并且處理獲得的圖像來檢測設置在基板等上的標記的位置。如果觀測儀具有不可忽略的畸變(distortion)，那么畸變可能影響標記的位置的檢測精確度。日本專利公開no.2005-285916公開了測量目標的位置、將目標饋送到光學系統的視野中心、并且然后再次測量目標的位置的方法。日本專利公開no.2006-30021公開了通過預先獲取畸變對觀察目標的區域的影響來校正測得的值的方法。
2、日本專利公開no.2005-285916中公開的方法要求將目標放置到視野中心的處理，因此延長測量所需的時間。因為畸變的影響量根據標記的形狀而改變，所以日本專利公開no.2006-30021中公開的方法不能實現精確的校正。
技術實現思路
1、本專利技術提供一種有利于以高精確度檢測標記的位置的技術。
2、本專利技術的第一方面提供一種確定標記位置的方法，該方法包括：基于通過使用捕獲標記的圖像的觀測儀獲取的圖像上的標記圖像的位置來確定標記圖像的臨時位置；基于指示觀測儀的畸變量的二維分布的畸變圖和標記圖像來確定用于校正臨時位置的校正量；并且通過基于校正量對臨時位置進行校正來確定標記的位置。
3、本專利技術的第二方面提供一種將圖案轉印到基板上的光刻方法，該方法包括：根據如第一方面限定的標記位置確定方法來檢測設置在基板上的標記的位置；并且基于
4、本專利技術的第三方面提供一種制造物品的方法，該方法包括：通過如第二方面限定的光刻方法將圖案轉印到基板上；對經歷了該轉印的基板進行處理；并且從經歷了該處理的基板獲得物品。
5、本專利技術的第四方面提供一種存儲器介質，該存儲器介質存儲使計算機執行如第一方面限定的標記位置確定方法的程序。
6、本專利技術的第五方面提供一種光刻裝置，該光刻裝置包括被配置成捕獲設置在基板上的標記的圖像的觀測儀和被配置成基于由觀測儀捕獲的圖像檢測標記的位置的處理器，并且該光刻裝置被配置成基于由該處理器檢測到的標記的位置將圖案轉印到基板上的目標位置，該處理器被配置成：基于通過使用被配置成捕獲標記的圖像的觀測儀獲取的圖像上的標記圖像的位置，確定標記圖像的臨時位置；基于指示觀測儀的畸變量的二維分布的畸變圖和標記圖像，確定用于校正臨時位置的校正量，并且通過基于校正量對臨時位置進行校正來確定標記的位置。
7、從以下參考附圖對示例性實施例進行的描述，本專利技術的更多特征將變得清楚。
本文檔來自技高網...【技術保護點】
1.一種確定標記位置的方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其中，在確定所述校正量時，基于與所述標記圖像的邊緣的位置相對應的畸變圖中的畸變量來確定所述校正量。
3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標記圖像具有與第一方向交叉的第一邊緣、以及與和第一方向正交的第二方向交叉的第二邊緣，
4.根據權利要求3所述的方法，其中，在確定所述校正量時，通過執行與第一邊緣的多個位置相對應的多個第一畸變量的統計處理來確定第一校正量，并且通過執行與第二邊緣的多個位置相對應的多個第二畸變量的統計處理來確定第二校正量。
5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述統計處理包括獲得平均值的處理。
6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是算術均值。
7.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是加權平均值。
8.根據權利要求1所述的方法，還包括基于通過使用所述觀測儀捕獲布置有多個點的點圖的圖像而獲得的圖像來生成畸變圖。
9.根據權利要求1所述的方法，還包括在所述觀測儀的視野中的多個位置處
10.根據權利要求9所述的方法，其中，所述標記是點標記。
11.根據權利要求9所述的方法，其中，所述標記是對準標記。
12.一種將圖案轉印到基板上的光刻方法，其特征在于，所述方法包括：
13.一種制造物品的方法，其特征在于，所述方法包括：
14.一種存儲器介質，所述存儲器介質存儲使計算機執行權利要求1至11中的任一項限定的標記位置確定方法的程序。
15.一種光刻裝置，所述光刻裝置包括觀測儀和處理器，所述觀測儀被配置成捕獲設置在基板上的標記的圖像，所述處理器被配置成基于由所述觀測儀捕獲的圖像檢測所述標記的位置，并且所述光刻裝置被配置成基于由所述處理器檢測到的標記的位置將圖案轉印到基板上的目標位置，
...【技術特征摘要】
1.一種確定標記位置的方法，其特征在于，包括：
2.根據權利要求1所述的方法，其中，在確定所述校正量時，基于與所述標記圖像的邊緣的位置相對應的畸變圖中的畸變量來確定所述校正量。
3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述標記圖像具有與第一方向交叉的第一邊緣、以及與和第一方向正交的第二方向交叉的第二邊緣，
4.根據權利要求3所述的方法，其中，在確定所述校正量時，通過執行與第一邊緣的多個位置相對應的多個第一畸變量的統計處理來確定第一校正量，并且通過執行與第二邊緣的多個位置相對應的多個第二畸變量的統計處理來確定第二校正量。
5.根據權利要求4所述的方法，其中，所述統計處理包括獲得平均值的處理。
6.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是算術均值。
7.根據權利要求5所述的方法，其中，所述平均值是加權平均值。
8.根據權利要求1所述的方法，還包括基于通過使用所述觀測儀捕獲布置有...
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