【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N濕法工藝基板處理裝置，其通過單一動(dòng)力源同步驅(qū)動(dòng)多個(gè)外環(huán)罩各自進(jìn)行升降。
技術(shù)介紹
1、現(xiàn)今的一種單晶圓濕法工藝基板處理裝置包含有工藝槽及環(huán)繞工藝槽的多個(gè)外環(huán)罩，外環(huán)罩相互套疊能夠各自垂直移動(dòng)。當(dāng)兩個(gè)相套接的外環(huán)罩分離時(shí)，二者之間能夠形成流道以供排放工藝工作流體。通過各自升降外環(huán)罩以開閉不同的流道以供排放不同的工藝工作流體，故能將不同的工藝工作流體分離排放以便于后續(xù)回收或廢棄處理。
2、前述的裝置中，在各外環(huán)罩需分別安裝驅(qū)動(dòng)元件以進(jìn)行升降，而且各驅(qū)動(dòng)元件需要分別控制，因此除了設(shè)備成本昂貴，各驅(qū)動(dòng)元件也需要分別與工藝時(shí)間同步而不易調(diào)校。
3、有鑒于此，本申請(qǐng)遂針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)，特潛心研究并配合學(xué)理的運(yùn)用，盡力解決上述的問題點(diǎn)，即成為本申請(qǐng)的改良目標(biāo)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
1、本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N濕法工藝基板處理裝置，其通過單一動(dòng)力源同步驅(qū)動(dòng)多個(gè)外環(huán)罩各自進(jìn)行升降。
2、本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N濕法工藝基板處理裝置，其包含一槽體、多個(gè)外環(huán)罩及一升降機(jī)構(gòu)。各外環(huán)罩分別環(huán)繞槽體，外環(huán)罩相互套疊，至少一部分的外環(huán)罩能夠各自垂直移動(dòng)。升降機(jī)構(gòu)包含一驅(qū)動(dòng)軸、一溝槽凸輪組及多個(gè)連桿，驅(qū)動(dòng)軸連接溝槽凸輪組，在溝槽凸輪組上設(shè)置有多個(gè)行程槽道，連桿分別連動(dòng)對(duì)應(yīng)的各外環(huán)罩，每一連桿具有一從動(dòng)件，從動(dòng)件分別穿設(shè)在對(duì)應(yīng)的各行程槽道中。當(dāng)驅(qū)動(dòng)軸驅(qū)動(dòng)各行程槽道繞行驅(qū)動(dòng)軸時(shí)，從動(dòng)件分別在對(duì)應(yīng)的各行程槽道中相對(duì)移動(dòng)而使各連桿隨對(duì)應(yīng)的行程槽道的轉(zhuǎn)動(dòng)而升降作動(dòng)，且連桿分別垂直作動(dòng)而帶動(dòng)相連接的各
3、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，其中一外環(huán)罩固定設(shè)置。
4、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，濕法工藝基板處理裝置更包含多個(gè)升降軌道別，而且能夠各自垂直移動(dòng)的多個(gè)外環(huán)罩分別設(shè)置在對(duì)應(yīng)的各該升降軌道。
5、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，溝槽凸輪組包含多個(gè)轉(zhuǎn)盤，該驅(qū)動(dòng)軸水平配置，多個(gè)轉(zhuǎn)盤共軸設(shè)置在該驅(qū)動(dòng)軸而隨該驅(qū)動(dòng)軸同步旋轉(zhuǎn)，多個(gè)行程槽道分別設(shè)置在多個(gè)轉(zhuǎn)盤上。各該行程槽道分別繞該驅(qū)動(dòng)軸延伸。本申請(qǐng)一實(shí)施例中，其中二個(gè)行程槽道可以分別配置在同一轉(zhuǎn)盤的二面。
6、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，在每一該行程槽道中包含一維持段，該維持段相對(duì)于該驅(qū)動(dòng)軸等間距地延伸。
7、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，至少其中一行程槽道包含一移動(dòng)段，該移動(dòng)段相對(duì)于該驅(qū)動(dòng)軸不等間距地延伸。
8、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，至少其中一行程槽道包含二維持段以及連接在二該維持段之間的一移動(dòng)段，該移動(dòng)段相對(duì)于該驅(qū)動(dòng)軸不等間距地延伸，多個(gè)維持段分別相對(duì)于該驅(qū)動(dòng)軸等間距地延伸且各該維持段與該驅(qū)動(dòng)軸的間距相異。
9、本申請(qǐng)一實(shí)施例中，其中一外環(huán)罩能夠垂直移動(dòng)而與相套接的另一外環(huán)罩分離而在兩者之間圍設(shè)形成一排放流道。
10、本申請(qǐng)的濕法工藝基板處理裝置以單一動(dòng)力源同步驅(qū)動(dòng)多個(gè)外環(huán)罩各自依據(jù)對(duì)應(yīng)的工藝進(jìn)行升降，因此能夠簡(jiǎn)化切換排放流道切換的機(jī)制。
11、為了能更進(jìn)一步了解本申請(qǐng)為達(dá)成預(yù)定目的所采取的技術(shù)、手段及功效，請(qǐng)參閱以下有關(guān)本申請(qǐng)的詳細(xì)說明與附圖，相信本申請(qǐng)的目的、特征與特點(diǎn)，當(dāng)可由此得到深入且具體的了解，然而所附圖式僅提供參考與說明用，并非用來對(duì)本申請(qǐng)加以限制。
本文檔來自技高網(wǎng)...【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
1.一種濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，包含：
2.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少一所述外環(huán)罩固定設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，更包含多個(gè)升降軌道，而且能夠各自垂直移動(dòng)的所述多個(gè)外環(huán)罩分別設(shè)置在對(duì)應(yīng)的各所述升降軌道。
4.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，所述溝槽凸輪組包含多個(gè)轉(zhuǎn)盤，所述驅(qū)動(dòng)軸水平配置，所述多個(gè)轉(zhuǎn)盤共軸設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)軸而隨所述驅(qū)動(dòng)軸同步旋轉(zhuǎn)，所述多個(gè)行程槽道分別設(shè)置在所述多個(gè)轉(zhuǎn)盤上。
5.如權(quán)利要求4所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，各所述行程槽道分別繞所述驅(qū)動(dòng)軸延伸。
6.如權(quán)利要求4所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少其中二所述行程槽道分別配置在同一轉(zhuǎn)盤的二面。
7.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，在每一所述行程槽道中包含一維持段，所述維持段相對(duì)于所述驅(qū)動(dòng)軸等間距地延伸。
8.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少其中一所述行程槽道包含一移動(dòng)段，所
9.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少其中一所述行程槽道包含二維持段以及連接在二所述維持段之間的一移動(dòng)段，所述移動(dòng)段相對(duì)于所述驅(qū)動(dòng)軸不等間距地延伸，多個(gè)所述維持段分別相對(duì)于所述驅(qū)動(dòng)軸等間距地延伸且各所述維持段與所述驅(qū)動(dòng)軸的間距相異。
10.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，其中一所述外環(huán)罩能夠垂直移動(dòng)而與相套接的另一所述外環(huán)罩分離而在兩者之間圍設(shè)形成一排放流道。
...【技術(shù)特征摘要】
1.一種濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，包含：
2.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少一所述外環(huán)罩固定設(shè)置。
3.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，更包含多個(gè)升降軌道，而且能夠各自垂直移動(dòng)的所述多個(gè)外環(huán)罩分別設(shè)置在對(duì)應(yīng)的各所述升降軌道。
4.如權(quán)利要求1所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，所述溝槽凸輪組包含多個(gè)轉(zhuǎn)盤，所述驅(qū)動(dòng)軸水平配置，所述多個(gè)轉(zhuǎn)盤共軸設(shè)置在所述驅(qū)動(dòng)軸而隨所述驅(qū)動(dòng)軸同步旋轉(zhuǎn)，所述多個(gè)行程槽道分別設(shè)置在所述多個(gè)轉(zhuǎn)盤上。
5.如權(quán)利要求4所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，各所述行程槽道分別繞所述驅(qū)動(dòng)軸延伸。
6.如權(quán)利要求4所述的濕法工藝基板處理裝置，其特征在于，至少其中二所述行程槽道分別配置在同一轉(zhuǎn)...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：謝旻谷，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：辛耘企業(yè)股份有限公司，
類型：新型
國(guó)別省市：
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