一種六極電磁軌道發射器制造技術

一種六極電磁軌道發射器，包括主軌道及電樞，所述電樞和所述主軌道相接觸，并可沿所述主軌道移動；所述電樞包括電樞本體以及和所述電樞本體相連的六根電樞臂，所述電樞臂沿所述電樞本體的外周面均勻間隔布置，相鄰的所述電樞臂之間通過引流面相連，所述引流面在垂直于所述電樞的軸線的平面上的投影為半圓形。本發明專利技術改善了拋體裝載區內磁場屏蔽效果不明顯的情況，具有更好的磁場屏蔽性能，可以減小拋體裝載區內電子元器件所受到的干擾，從而有利于提高發射的精準度。提高發射的精準度。提高發射的精準度。

【技術實現步驟摘要】
一種六極電磁軌道發射器


[0001]本專利技術屬于電磁彈射
，尤其涉及一種六極電磁軌道發射裝置。

技術介紹

[0002]電磁發射技術是一種將電磁能轉換為發射彈丸所需動能的新型發射技術。電磁軌道發射系統主要包括電源系統和電磁軌道發射器，其中，電磁軌道發射器的核心部件是軌道和電樞，電樞與軌道相接觸并可沿軌道滑動，當軌道通電后，電樞會在安培力的作用下加速運動。電磁軌道發射器內部為電磁環境，具有較強的電磁干擾，極易影響拋體裝載區內電子元器件的正常工作。如何有效減小拋體裝載區內電子元器件所受到的干擾，提高發射精準度是目前電磁軌道發射器需要解決的問題之一。

技術實現思路

[0003]本專利技術的目的是提供一種可以減小拋體裝載區中電子元器件受到的干擾、提高發射精準度的六極電磁軌道發射器。
[0004]為了實現上述目的，本專利技術采取如下的技術解決方案：
[0005]一種六極電磁軌道發射器，包括主軌道及電樞，所述電樞和所述主軌道相接觸，并可沿所述主軌道移動；所述電樞包括電樞本體以及和所述電樞本體相連的六根電樞臂，所述電樞臂沿所述電樞本體的外周面均勻間隔布置，相鄰的所述電樞臂之間通過引流面相連，所述引流面在垂直于所述電樞的軸線的平面上的投影為半圓形。
[0006]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述電樞臂具有和所述主軌道相接觸的滑行接觸面，所述滑行接觸面為平面。
[0007]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述滑行接觸面和所述電樞的軸線相平行。
[0008]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述主軌道的數量和所述電樞臂的數量相同，所述主軌道以中心對稱的形式布置。
[0009]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述電樞的相對設置的電樞臂中的電流方向相反，電流從一電樞臂流入后，從與該電樞臂相連的兩電樞臂流出。
[0010]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述電樞臂的背面和所述電樞本體之間通過弧面相連。
[0011]如上所述的六極電磁軌道發射器，可選的，所述弧面為1/4圓弧面。
[0012]由以上技術方案可知，本專利技術的電樞采用了六根電樞臂，且相鄰電樞臂之間采用半圓形的引流面相連，通過增加電樞臂的數量，以及對引流弧形狀的改進，有效改善了拋體裝載區內的磁場屏蔽效果，具有更好的磁場屏蔽性能，可以減小拋體裝載區內電子元器件所受到的干擾，從而有利于提高發射的精準度。
附圖說明
[0013]為了更清楚地說明本專利技術實施例，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖做簡單介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
[0014]圖1為一種四極電磁軌道發射器的主軌道和電樞的配合示意圖；
[0015]圖2為一種四極電樞的結構示意圖；
[0016]圖3為四極電樞本體前端面的磁場強度分布云圖；
[0017]圖4為四極電樞本體后端面的磁場強度分布云圖；
[0018]圖5為在四極電樞本體上選取的路徑示意圖；
[0019]圖6為四極電樞本體上路徑1的磁場分布圖；
[0020]圖7為四極電樞本體上路徑2的磁場分布圖；
[0021]圖8為本專利技術實施例六極電磁軌道發射器的主軌道和電樞的配合示意圖；
[0022]圖9為本專利技術實施例六極電樞的結構示意圖；
[0023]圖10為本專利技術實施例六極電樞的側視圖；
[0024]圖11為本專利技術實施例六極電樞的正面視圖；
[0025]圖12為本專利技術實施例六極電樞的電樞臂的結構示意圖；
[0026]圖13為本專利技術實施例六極電樞內電流流向的示意圖；
[0027]圖14為本專利技術實施例六極電樞本體前端面的磁場強度分布云圖；
[0028]圖15為本專利技術實施例六極電樞本體后端面的磁場強度分布云圖；
[0029]圖16為四極電樞本體及六極電樞本體上路徑1的磁場分布圖；
[0030]圖17為四極電樞本體及六極電樞本體上路徑2的磁場分布圖；
[0031]圖18為引流弧為圓弧形的六極電樞的正面視圖；
[0032]圖19為引流弧為直線的六極電樞的正面視圖；
[0033]圖20為半圓形引流弧、圓弧形引流弧及直線形引流弧的六極電樞本體上路徑1的磁場分布圖；
[0034]圖21為半圓形引流弧、圓弧形引流弧及直線形引流弧的六極電樞本體上路徑2的磁場分布圖。
具體實施方式
[0035]下面結合附圖對本專利技術進行詳細描述，在詳述本專利技術實施例時，為便于說明，表示器件結構的附圖會不依一般比例做局部放大，而且所述示意圖只是示例，其在此不應限制本專利技術保護的范圍。需要說明的是，附圖采用簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、清晰地輔助說明本專利技術實施例的目的。同時，在本申請的描述中，術語“第一”、“第二”等僅用于區分描述，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量；術語“正”、“反”、“底”、“上”、“下”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本專利技術和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本專利技術的限制。
[0036]在本專利技術的描述中，需要說明的是，除非另有明確的規定和限定，術語“相連”、“連
接”應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或一體地連接；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，還可以是兩個元件內部的連通，可以是無線連接，也可以是有線連接。對于本領域的普通技術人員而言，可以具體情況理解上述術語在本專利技術中的具體含義。
[0037]電磁軌道發射器根據主軌道的數量可分為二極電磁軌道發射器和四極電磁軌道發射器。二極電磁軌道發射器包括兩根主軌道，四極電磁軌道發射器的主軌道有四根。四極電磁軌道的四根主軌道中，相鄰的主軌道內電流的流向相反，對應的，四極電樞相鄰的電樞臂內電流的流向也相反，從而對電樞的拋體裝載區(電樞圓孔)產生的磁場可以相互抵消，因此，相比于二極電磁軌道發射器，四極電磁軌道發射器具有更好的磁屏蔽效果，能夠更為有效地保護發射體內敏感的精密電子元件。
[0038]專利技術人在進一步研究后發現，雖然四極電磁軌道發射器對發射器內拋體裝載區的磁場強度具有一定的屏蔽作用，但效果并不是很明顯。圖1和圖2分別為四極電磁軌道發射器的主軌道和電樞相配合的示意圖以及四極電樞的結構示意圖。如圖1和圖2所示，電樞100設置于4根主軌道101之間，并可沿著主軌道200移動，相鄰的主軌道200之間通入相反的脈沖電流。電樞100包括電樞本體101以及和電樞本體101相連的四根電樞臂102，電樞臂102為撓性臂，電樞臂102具有和主軌道200相接觸的滑行接觸面s1，電樞臂102和主軌道200之間為過盈配合。電樞本體101上設置有一沿電本文檔來自技高網...

【技術保護點】

【技術特征摘要】
1.一種六極電磁軌道發射器，包括主軌道及電樞，所述電樞和所述主軌道相接觸，并可沿所述主軌道移動；其特征在于：所述電樞包括電樞本體以及和所述電樞本體相連的六根電樞臂，所述電樞臂沿所述電樞本體的外周面均勻間隔布置，相鄰的所述電樞臂之間通過引流面相連，所述引流面在垂直于所述電樞的軸線的平面上的投影為半圓形。2.根據權利要求1所述的六極電磁軌道發射器，其特征在于：所述電樞臂具有和所述主軌道相接觸的滑行接觸面，所述滑行接觸面為平面。3.根據權利要求2所述的六極電磁軌道發射器，其特征在于：所述滑行接觸面和所...

【專利技術屬性】
技術研發人員：王學智，郭安新，劉少偉，馮剛，時建明，任師達，
申請(專利權)人：中國人民解放軍空軍工程大學，
類型：發明
國別省市：