顯示裝置制造方法及圖紙

提供了一種顯示裝置。所述顯示裝置包括：第一基底；位于第一基底上的擋光圖案；位于擋光圖案上的接觸電極；位于接觸電極上并且與接觸電極接觸的導電密封件；位于導電密封件上并且與導電密封件接觸的對電極；位于對電極上的第二基底；以及位于對電極下方的擋光構(gòu)件，其中，擋光構(gòu)件具有與擋光圖案對應的開口，并且導電密封件通過開口電結(jié)合到對電極。

display device

【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
顯示裝置本申請要求于2018年8月3日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2018-0090845號韓國專利申請的優(yōu)先權(quán)和權(quán)益，所述韓國專利申請的全部內(nèi)容通過引用包含于此。
本公開的實施例涉及一種顯示裝置。
技術(shù)介紹
諸如液晶顯示器(LCD)、有機發(fā)光二極管(OLED)顯示器等的顯示裝置包括顯示面板，顯示面板包括能夠顯示圖像的多個像素。每個像素包括被配置為接收數(shù)據(jù)信號的像素電極，并且像素電極結(jié)合到至少一個晶體管以接收數(shù)據(jù)信號。顯示裝置可以包括兩個基底和位于兩個基底之間的密封劑，并且電極可以在兩個基底上。在這些顯示裝置之中，液晶顯示器包括在兩個基底之間的液晶層。在該
技術(shù)介紹
部分中公開的上述信息僅用于增強對本公開的背景的理解，因此，其可以包含不形成對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言在該國已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本公開的實施例通過導電密封件實現(xiàn)電連接，同時防止或減少由于因顯示裝置的異物顆粒而在兩個基底之間短路所導致的顯示缺陷，并防止或減少在其中導電密封件所在的部分上的光的反射和不必要的識別。根據(jù)本公開的示例性實施例的顯示裝置包括：第一基底；位于第一基底上的擋光圖案；位于擋光圖案上的接觸電極；位于接觸電極上并且與接觸電極接觸(例如，物理接觸)的導電密封件；位于導電密封件上并且與導電密封件接觸(例如，物理接觸)的對電極；位于對電極上的第二基底；以及位于對電極下方的擋光構(gòu)件，其中，擋光構(gòu)件具有與擋光圖案對應的開口，并且導電密封件通過開口電結(jié)合到對電極。導電密封件可以與擋光圖案疊置。在開口中，擋光構(gòu)件的側(cè)表面可以與導電密封件的側(cè)表面接觸(例如，物理接觸)。在平面圖中，擋光圖案的面積可以等于或大于開口的面積。擋光圖案可以包括表現(xiàn)彼此不同的顏色的至少兩個濾色器(例如，擋光圖案可以包括被配置為傳輸彼此不同的各個顏色的光的至少兩個濾色器)。至少兩個濾色器可以包括彼此疊置的紅色濾色器和藍色濾色器。顯示裝置還可以包括：位于第一基底上的傳輸電極；以及位于傳輸電極上的絕緣層，其中，絕緣層可以具有形成在傳輸電極上的接觸孔，并且接觸電極可以通過接觸孔電結(jié)合到傳輸電極。擋光圖案可以不與接觸孔疊置。在接觸孔中接觸電極和第一基底的上表面之間的距離可以小于位于擋光圖案上的接觸電極和第一基底的上表面之間的距離。還可以包括位于擋光構(gòu)件和接觸電極之間的密封劑。顯示裝置可以包括被配置為顯示圖像的顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的外圍區(qū)域，傳輸電極、擋光圖案、接觸電極和導電密封件可以位于外圍區(qū)域中，并且傳輸電極、擋光圖案、接觸電極和導電密封件可以沿著第一方向延伸。在平面圖中，接觸孔可以位于擋光圖案和顯示區(qū)域之間。根據(jù)示例性實施例的顯示裝置包括：第一基底和第二基底，包括被配置為顯示圖像的顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的外圍區(qū)域；位于第一基底和第二基底之間并且位于外圍區(qū)域中的傳輸電極；位于傳輸電極上的絕緣層；位于絕緣層上并且位于外圍區(qū)域中的擋光圖案；位于擋光圖案上且位于外圍區(qū)域中的接觸電極；位于接觸電極上并且位于外圍區(qū)域中的導電密封件；以及位于導電密封件和第二基底之間并電結(jié)合到導電密封件的對電極，其中，絕緣層具有形成在傳輸電極上的接觸孔，接觸電極通過接觸孔電結(jié)合到傳輸電極，并且導電密封件位于擋光圖案上并且不與接觸孔疊置。在接觸孔中接觸電極與第一基底的上表面之間的距離可以小于擋光圖案上的接觸電極與第一基底的上表面之間的距離。還可以包括位于對電極下方的擋光構(gòu)件，擋光構(gòu)件可以具有與擋光圖案對應的開口，并且導電密封件可以通過開口電結(jié)合到對電極。在開口中，擋光構(gòu)件的側(cè)表面可以與導電密封件的側(cè)表面接觸(例如，物理接觸)。擋光圖案可以包括彼此疊置的紅色濾色器和藍色濾色器。根據(jù)示例性實施例的顯示裝置包括：被配置為顯示圖像的顯示區(qū)域和圍繞顯示區(qū)域的外圍區(qū)域；位于外圍區(qū)域中并沿著顯示區(qū)域的邊緣沿著第一方向延伸的傳輸電極；位于所述外圍區(qū)域中，與傳輸電極疊置并沿著第一方向延伸的接觸電極；位于外圍區(qū)域中，與接觸電極疊置并且沿著第一方向延伸的擋光圖案和導電密封件；位于傳輸電極和接觸電極之間并且在剖視圖中具有接觸孔的絕緣層；以及與導電密封件接觸(例如，物理接觸)的對電極，其中，擋光圖案和導電密封件在平面圖中不與接觸孔疊置，并且導電密封件與擋光圖案疊置并且與擋光圖案上的接觸電極接觸(例如，物理接觸)。接觸電極可以通過接觸孔電結(jié)合到傳輸電極。還可以包括擋光構(gòu)件，該擋光構(gòu)件與導電密封件和擋光圖案疊置并且在外圍區(qū)域中具有開口。根據(jù)本公開的示例性實施例，在防止或減少由于因顯示裝置中的異物顆粒而在兩個基底之間短路所導致的顯示缺陷的同時，通過導電密封件的電連接是可能的，并且可以防止或減少從其中導電密封件所在的部分的外部的光的反射和不必要的識別。附圖說明附圖與說明書一起示出了本公開的主題的實施例，并且與描述一起用于解釋本公開的主題的實施例的原理。圖1是根據(jù)示例性實施例的顯示裝置的布局圖。圖2是根據(jù)示例性實施例的顯示裝置的兩個相鄰像素的布局圖。圖3是沿著線IIIa-IIIb截取圖2中所示的顯示裝置的剖視圖。圖4是沿著線IVa-IVb截取圖1中所示的顯示裝置的剖視圖。圖5是圖1中所示的顯示裝置的部分AA的放大圖。圖6是沿著線VIa-VIb截取圖5中所示的顯示裝置的剖視圖。圖7是沿著線VIIa-VIIb截取圖5中所示的顯示裝置的剖視圖。圖8至圖10是根據(jù)示例性實施例的顯示裝置的布局圖。具體實施方式在下文中將參照附圖更充分地描述本公開的主題，在附圖中示出了本公開的示例性實施例。如本領(lǐng)域技術(shù)人員將認識到的，在全部不脫離本公開的精神或范圍的情況下，可以以各種不同的方式修改所描述的實施例。為了更清楚地描述本公開的主題，將省略與本公開無關(guān)的元件的描述。在整個附圖中，同樣的附圖標記表示同樣的元件。此外，為了更好地理解和易于描述，可以任意地示出附圖中所示的每個構(gòu)造的尺寸和厚度，但是本公開不限于此。在附圖中，為了清楚起見，可以夸大層、膜、面板、區(qū)域等的厚度。將理解的是，當諸如層、膜、區(qū)域或基底的元件被稱為“在”另一元件“上”時，該元件可以直接在所述另一元件上或者也可以存在中間元件。相反，當元件被稱為“直接在”另一元件“上”時，不存在中間元件。此外，在說明書中，詞語“在……上”或“在……上方”表示定位在目標部分上或下面，并且不一定表示基于重力方向定位在目標部分的上側(cè)上。此外，除非明確地描述為相反，否則詞語“包括”和諸如“包含”或“含有”的變型將被理解為暗示包括所述元件，但不排除任何其他元件。在整個說明書中，平面圖表示當觀察平行于彼此交叉的兩個方向(例如，第一方向DR1和第二方向DR2)的表面時的視圖，而剖視圖表示當觀察在垂直于與第一方向DR1和第二方向DR2平行的表面的方向(例如，第三方向)上切割的表面時的視圖。另外，除非另有說明，本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護點】
1.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：/n第一基底；/n擋光圖案，位于所述第一基底上；/n接觸電極，位于所述擋光圖案上；/n導電密封件，位于所述接觸電極上并且與所述接觸電極接觸；/n對電極，位于所述導電密封件上并且與所述導電密封件接觸；/n第二基底，位于所述對電極上；以及/n擋光構(gòu)件，位于所述對電極下方，/n其中，所述擋光構(gòu)件具有與所述擋光圖案對應的開口，并且/n所述導電密封件通過所述開口電結(jié)合到所述對電極。/n

【技術(shù)特征摘要】
20180803 KR 10-2018-00908451.一種顯示裝置，所述顯示裝置包括：
第一基底；
擋光圖案，位于所述第一基底上；
接觸電極，位于所述擋光圖案上；
導電密封件，位于所述接觸電極上并且與所述接觸電極接觸；
對電極，位于所述導電密封件上并且與所述導電密封件接觸；
第二基底，位于所述對電極上；以及
擋光構(gòu)件，位于所述對電極下方，
其中，所述擋光構(gòu)件具有與所述擋光圖案對應的開口，并且
所述導電密封件通過所述開口電結(jié)合到所述對電極。


2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中：
所述導電密封件與所述擋光圖案疊置。


3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中：
在所述開口中，所述擋光構(gòu)件的側(cè)表面與所述導電密封件的側(cè)表面接觸。


4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示裝置，其中：
在平面圖中，所述擋光圖案的面積等于或大于所述開口的面積。


5....

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：申東熹，
申請(專利權(quán))人：三星顯示有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：韓國;KR