激光裝置管理系統制造方法及圖紙

本公開提供一種激光裝置管理系統，其可以具備：服務器，以存儲第一信息、第二信息和第三信息的方式構成，第一信息以通過第一訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，第二信息以通過第二訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，第三信息以通過第一訪問權限和第二訪問權限的雙方可以進行訪問的方式受到訪問限制；以及激光裝置，包括激光輸出部和控制部，激光輸出部向進行晶片曝光的曝光裝置輸出脈沖激光束，控制部進行將第一信息、第二信息和第三信息保存在服務器中的控制。第二信息包括互相建立對應的曝光裝置的晶片曝光關聯信息與激光裝置的激光控制關聯信息。

Laser device management system

The present disclosure provides a laser device management system, which can be equipped with a server, which is made up of first information, second information, and third information, and the first information is restricted by access through the first access authority, and second information can be accessed through the access of second access. The third information is restricted by access to both the first access rights and the second access rights, and the laser device, including the laser output unit and the control unit. The laser output unit outputs the pulse laser beam to the exposure device for the wafer exposure, and the control unit will be the first. The control of information, second information, and third information is stored in the server. The second information includes the correlation information of the wafer exposure corresponding to the corresponding exposure device and the laser control correlation information of the laser device.

【技術實現步驟摘要】
【國外來華專利技術】激光裝置管理系統
本公開涉及一種激光裝置管理系統。
技術介紹
隨著半導體集成電路的微細化、高集成化，在半導體曝光裝置中，對分辨力提出了更高的要求(在下文中，將半導體曝光裝置僅稱為“曝光裝置”)。因此，正在推進從曝光用光源輸出的光的短波長化。在曝光用光源中，使用氣體激光裝置來代替以往的水銀燈。現在，作為曝光用的氣體激光裝置，使用輸出波長為248nm的紫外線的KrF準分子激光裝置、以及輸出波長約為193.4nm的紫外線的ArF準分子激光裝置。作為現在的曝光技術，如下的液浸曝光已被投入實際使用：通過將曝光裝置側的投影透鏡與晶片之間的間隙用液體充滿，來改變該間隙的折射率，從而使曝光用光源的外觀波長短波長化。在將ArF準分子激光裝置作為曝光用光源使用、且進行液浸曝光的情況下，對晶片照射水中的波長為134nm的紫外光。該技術稱為ArF液浸曝光。ArF液浸曝光也被稱為ArF液浸光刻。因為KrF、ArF準分子激光裝置的自然振蕩的頻譜線寬度約為350～400pm、比較寬，所以由曝光裝置側的投影透鏡縮小投影在晶片上的激光束(紫外線光)產生色差，分辨力降低。為此，有必要使從氣體激光裝置輸出的激光束的頻譜線寬度變窄直至色差可以忽略不計。頻譜線寬度也被稱為頻譜寬度。因此，在氣體激光裝置的激光學諧振器內設置具有譜線窄化元件的譜線窄化模塊(LineNarrowModule)，并且通過該譜線窄化模塊實現頻譜寬度的譜線窄化。再有，譜線窄化元件也可以是標準具(etalon)、光柵等。像這樣頻譜寬度變窄的激光裝置稱為譜線窄化激光裝置。現有技術文獻專利文獻專利文獻1：日本特開2003-258337號公報專利文獻2：日本特開2003-283007號公報專利文獻3：日本特表2003-503861號公報專利文獻4：日本特開2001-135883號公報專利文獻5：日本特開2002-84026號公報專利文獻6：國際公開第2015/068205號專利文獻6：國際公開第2014/030645號
技術實現思路
本公開的激光裝置管理系統具備：服務器，以存儲第一信息、第二信息和第三信息的方式構成，第一信息以通過第一訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，第二信息以通過第二訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，第三信息以通過第一訪問權限和第二訪問權限的雙方可以進行訪問的方式受到訪問限制；以及激光裝置，包括激光輸出部和控制部，激光輸出部向進行晶片曝光的曝光裝置輸出脈沖激光束，控制部進行將第一信息、第二信息和第三信息保存在服務器中的控制。第二信息包括互相建立對應的曝光裝置的晶片曝光關聯信息與激光裝置的激光控制關聯信息。附圖說明在下文中，參照附圖對僅作為例子的本公開的幾個實施方式進行說明。圖1概略地表示比較例的激光裝置管理系統的一個結構例子。圖2示意性地表示激光裝置通過脈沖串操作而輸出的脈沖激光束的輸出定時的一個例子。圖3示意性地表示掃描曝光的概要。圖4概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的一個結構例子。圖5示意性地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的服務器的數據區域與訪問權限的關系的一個例子。圖6是表示由第一實施方式的激光裝置管理系統的晶片數據收集控制部對第二數據區域的數據寫入控制流程的一個例子的流程圖。圖7概略地表示存儲在服務器的第二數據區域的第二信息的數據例子。圖8是表示由第一實施方式的激光裝置管理系統的激光控制部對第三數據區域的數據寫入控制流程的一個例子的流程圖。圖9概略地表示存儲在服務器的第三數據區域的第三信息的數據例子。圖10是表示由第一實施方式的激光裝置管理系統的激光控制部對第一數據區域的數據寫入控制流程的一個例子的流程圖。圖11概略地表示存儲在服務器的第一數據區域的第一信息的數據例子。圖12概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關射束計測部分的一個結構例子。圖13是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關射束計測控制部的射束計測的控制流程的一個例子的流程圖。圖14是表示圖13所示的流程圖的步驟S403的處理的詳細內容的輔助流程圖。圖15概略地表示由射束計測控制部計算射束輪廓的方法的一個例子。圖16是表示圖13所示的流程圖的步驟S404的處理的詳細內容的輔助流程圖。圖17概略地表示由射束計測控制部計算射束指向的方法的一個例子。圖18是表示圖13所示的流程圖的步驟S405的處理的詳細內容的輔助流程圖。圖19概略地表示由射束計測控制部計算的偏振光分量的峰值強度的一個例子。圖20概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關能量控制的部分的一個結構例子。圖21是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關能量控制部的能量控制的控制流程的一個例子的流程圖。圖22概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關頻譜控制的部分的一個結構例子。圖23概略地表示譜線窄化模塊和頻譜可變部的一個結構例子。圖24概略地表示譜線窄化模塊和頻譜可變部的一個結構例子。圖25是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關頻譜控制部的波長控制的控制流程的一個例子的流程圖。圖26是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關頻譜控制部的頻譜線寬度控制的控制流程的一個例子的流程圖。圖27概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關氣體控制的部分的一個結構例子。圖28是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關氣體控制部的氣體壓力控制的控制流程的一個例子的流程圖。圖29是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關氣體控制部的部分氣體交換控制的控制流程的一個例子的流程圖。圖30是表示圖29所示的流程圖的步驟S719的處理的詳細內容的輔助流程圖。圖31概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關電力消耗的計測的部分的一個結構例子。圖32概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關冷卻水流量的計測的部分的一個結構例子。圖33是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關激光控制部的環保計測的控制流程的一個例子的流程圖。圖34是表示第一實施方式的激光裝置管理系統的有關激光控制部的出錯記錄取得的控制流程的一個例子的流程圖。圖35示意性地表示第一實施方式的變形例的激光裝置管理系統的服務器的數據區域與訪問權限的關系的一個例子。圖36是關于第二實施方式的激光裝置管理系統的服務器的設定的序列圖。圖37示意性地表示第二實施方式的激光裝置管理系統的服務器的數據區域的信息范圍的設定的一個例子。圖38概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的監測器模塊的一個結構例子。圖39示意性地表示由圖38所示的監測器模塊的頻譜計測器計測的頻譜線寬度的一個例子。圖40概略地表示第一實施方式的激光裝置管理系統的脈沖功率模塊的一個結構例子。圖41表示控制部的硬件環境的一個例子。具體實施方式<內容><1.比較例>(激光裝置管理系統)(圖1～圖3)1.1結構1.2動作1.3課題<2.第一實施方式>(具備服務器的激光裝置管理系統)2.1具備服務器的激光裝置管理系統的概要(圖4～圖11)2.1.1結構2.1.2動作2.1.3作用·效果2.2射束計測系統(圖12～圖19)2.2.1結構2.2.2動作2.3能量控制系統(圖20～圖21)2.4頻譜控制系統(圖本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種激光裝置管理系統，具備：服務器，以存儲第一信息、第二信息和第三信息的方式構成，所述第一信息以通過第一訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，所述第二信息以通過第二訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，所述第三信息以通過所述第一訪問權限和所述第二訪問權限的雙方可以進行訪問的方式受到訪問限制；以及激光裝置，包括激光輸出部和控制部，所述激光輸出部向進行晶片曝光的曝光裝置輸出脈沖激光束，所述控制部進行將所述第一信息、所述第二信息和所述第三信息保存在所述服務器中的控制，所述第二信息包括互相建立對應的所述曝光裝置的晶片曝光關聯信息與所述激光裝置的激光控制關聯信息。

【技術特征摘要】
【國外來華專利技術】1.一種激光裝置管理系統，具備：服務器，以存儲第一信息、第二信息和第三信息的方式構成，所述第一信息以通過第一訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，所述第二信息以通過第二訪問權限可以進行訪問的方式受到訪問限制，所述第三信息以通過所述第一訪問權限和所述第二訪問權限的雙方可以進行訪問的方式受到訪問限制；以及激光裝置，包括激光輸出部和控制部，所述激光輸出部向進行晶片曝光的曝光裝置輸出脈沖激光束，所述控制部進行將所述第一信息、所述第二信息和所述第三信息保存在所述服務器中的控制，所述第二信息包括互相建立對應的所述曝光裝置的晶片曝光關聯信息與所述激光裝置的激光控制關聯信息。2.根據權利要求1所述的激光裝置管理系統，其中，所述第一信息包括關于所述激光裝置的控制的控制參數的數據。3.根據權利要求2所述的激光裝置管理系統，其中，所述激光輸出部包括被供給激光氣體的激光腔室，所述控制參數包括：關于所述脈沖激光束的脈沖能量的控制的能量控制參數，關于所述脈沖激光束的波長的控制的頻譜控制參數，以及關于所述激光氣體的控制的氣體控制參數中的至少1個。4.根據權利要求1所述的激光裝置管理系統，其中，所述第三信息包括關于所述激光裝置的記錄數據。5.根據權利要求4所述的激光裝置管理系統，其中，所述記錄數據包括...

【專利技術屬性】
技術研發人員：峰岸裕司，五十嵐豊，太田毅，
申請(專利權)人：極光先進雷射株式會社，
類型：發明
國別省市：日本,JP