干燥裝置和干燥處理方法制造方法及圖紙

本發明專利技術提供在對基板上的有機材料膜進行干燥處理時盡量地降低混入到處理容器內的水分的影響的干燥裝置和干燥處理方法。干燥裝置（100）包括能夠抽成真空的處理容器（1）和用于在處理容器（1）內支承基板（S）的作為基板支承部的基板支承部（3），在干燥處理期間，在處理容器（1）內的壓力為大氣壓～500Pa的范圍內，將基板（S）保持在第1高度位置，在處理容器（1）內的壓力為3Pa以下時，使基板（S）下降到比第1高度位置低的第2高度位置。通過在將基板（S）保持在第1高度位置的狀態下進行減壓排氣，能夠使處理容器（1）內的水分自底壁（11）的排氣口（11a）快速地排出。

【技術實現步驟摘要】
干燥裝置和干燥處理方法
本專利技術涉及例如在有機EL元件的制造過程中能夠用來進行基板上的有機材料膜的干燥的干燥裝置和干燥處理方法。
技術介紹
有機EL(ElectroLuminescence)元件是利用通過通入電流而產生的有機化合物的發光的發光元件，成為在一對電極之間夾有多個有機功能膜的層疊體(以下將該層疊體統稱作“EL層”)的構造。在此，EL層例如具有從陽極側起按照[空穴輸送層/發光層/電子輸送層]、[空穴注入層/空穴輸送層/發光層/電子輸送層]、或者[空穴注入層/空穴輸送層/發光層/電子輸送層/電子注入層]等順序層疊而成的構造。通過針對各層分別在基板上蒸鍍或者涂敷有機材料而形成EL層。并且，在形成高精度的微細圖案的情況下，作為涂敷方法，一般認為利用噴墨印刷法是有利的。由于在利用噴墨印刷法印刷在基板上的有機材料膜中含有大量的源自墨的溶劑，因此，為了除去該溶劑而進行減壓干燥。進而對干燥后的有機材料膜在低氧氣氛中進行烘焙處理。利用該烘焙處理使有機材料膜變化為構成EL層的有機功能膜。因而，在利用噴墨印刷法的EL層的形成過程中，要重復進行印刷、干燥、烘焙各工序。在用于干燥處理的減壓干燥裝置中設有用于搬入搬出基板的開口和用于將該開口封堵的閘閥。在搬入搬出基板時，打開閘閥，因此，大氣會自所述開口流入處理容器內。在該狀態下，當為了進行干燥處理而對處理容器內進行減壓時，隨著壓力的降低，大氣開放時流入的空氣中的水分會聚集而產生霧。當在基板上方產生該霧時，會在基板表面產生結露而損害干燥狀態的均勻性，在將基板用作有機EL顯示器等產品時，會成為引起顯示不均勻等不良的原因。對于涂敷在基板上的有機功能性墨的干燥處理，在專利文獻1中，為了在基板面內進行均勻的干燥處理而提出如下一種方案：使腔室內的壓力為溶劑的蒸氣壓以下并一邊自基板的周圍供給溶劑一邊進行減壓干燥工序。另外，在專利文獻2中，提出如下一種方案：在對感光性樹脂組合物的墨進行減壓干燥的工序中，以使壓力在第一階段中為5000Pa～50000Pa且使壓力在暫時返回大氣壓之后在第二階段中為500Pa以下的方式來提高濾色器的分隔壁的品質。另外，在專利文獻3中，提出如下一種方案：在墨的真空干燥工序中，通過使自容納室排出的氣體的排氣流量階梯式變化，從而抑制涂敷膜的破裂。并且，在專利文獻4中，提出一種具有多個噴嘴的減壓干燥裝置，該多個噴嘴能夠朝向被涂敷在基板上的有機材料膜以獨立地控制氣體流量和氣體種類的方式噴射氣體。在以所述專利文獻1～專利文獻4為代表的以往技術中，在被涂敷在基板上的有機材料膜的干燥處理中進行了各種設計，但沒有注意到針對混入到干燥裝置的處理容器內的水分的對策。專利文獻1：日本特開2010－272382號公報(權利要求1等)專利文獻2：日本特開2008－116536號公報(段落0032等)專利文獻3：日本特開2007－253043號公報(權利要求1等)專利文獻4：日本特開2014－199808號公報(圖1等)
技術實現思路
專利技術要解決的問題本專利技術的目的在于，提供能夠在對基板上的有機材料膜進行干燥處理時盡量地降低混入到處理容器內的水分的影響的干燥裝置和干燥處理方法。用于解決問題的方案為了解決所述問題，本專利技術提供一種干燥裝置，該干燥裝置包括：處理容器，其能夠抽成真空并具有底壁、側壁以及頂壁，在該處理容器內，在減壓條件下除去被涂敷在基板的表面的有機材料膜中的溶劑而使有機材料膜干燥；基板支承部，其用于在所述處理容器內支承所述基板；排氣裝置，其用于對所述處理容器內進行減壓排氣；以及控制部，其用于對所述基板支承部支承所述基板的高度位置可變地進行調節。并且，在本專利技術的干燥裝置中，在對所述處理容器的內部進行減壓排氣的過程中,所述控制部進行控制，以便至少在所述處理容器內的壓力下降到第1壓力之前的期間利用所述基板支承部將所述基板保持在第1高度位置，并至少在所述處理容器內的壓力為比所述第1壓力低的第2壓力以下時將所述基板保持在從所述第1高度位置下降后的第2高度位置。另外，本專利技術提供一種干燥處理方法，該干燥處理方法包括使用干燥裝置在減壓條件下除去被涂敷在基板的表面的有機材料膜中的溶劑而使有機材料膜干燥的干燥處理工序，該干燥裝置包括：處理容器，其能夠抽成真空并具有底壁、側壁以及頂壁；基板支承部，其用于在所述處理容器內支承所述基板；以及排氣裝置，其用于對所述處理容器內進行減壓排氣。并且，在本專利技術的干燥處理方法中，所述干燥處理工序包括以下步驟：至少在所述處理容器內的壓力下降到第1壓力之前的期間利用所述基板支承部將所述基板保持在第1高度位置；至少在所述處理容器內的壓力為比所述第1壓力低的第2壓力以下時將所述基板保持在從所述第1高度位置下降后的第2高度位置。在本專利技術的干燥裝置和干燥處理方法中，也可以是，所述第1壓力為500Pa，所述第2壓力為3Pa。在本專利技術的干燥裝置和干燥處理方法中，也可以是，在所述側壁上設有用于自外部的輸送裝置搬入所述基板的開口，所述第1高度位置是所述基板的上表面被保持在比所述開口的上端靠上方的位置，所述第2高度位置是所述基板的上表面與所述頂壁的下表面分開150mm以上的位置。在本專利技術的干燥裝置和干燥處理方法中，也可以是，在有機EL元件的制造過程中利用噴墨印刷法在所述基板上涂敷所述有機材料膜。專利技術的效果采用本專利技術，能夠一邊盡量地排除混入到處理容器內的水分的影響一邊使有機材料膜在基板面內均勻地干燥。因而，通過將本專利技術應用于例如有機EL顯示器等制造過程中，能夠提高產品的可靠性。附圖說明圖1是表示本專利技術的一實施方式的干燥裝置的概略結構的剖視圖。圖2是圖1的干燥裝置的基板支承部中的多個支承板的說明圖。圖3是圖1的干燥裝置的基板支承部中的多個支承板的另一狀態的說明圖。圖4是表示控制部的硬件構成的一個例子的框圖。圖5是用以說明干燥處理方法的工序圖。圖6是用以接著圖5繼續說明干燥處理方法的工序圖。圖7是用以接著圖6繼續說明干燥處理方法的工序圖。圖8A是說明本專利技術中的基板保持位置的作用的示意圖。圖8B是說明以往技術中的基板保持位置的示意圖。圖9A是說明本專利技術中的基板保持位置的作用的另一示意圖。圖9B是說明比較例中的基板保持位置的示意圖。圖10是表示處理容器內的壓力與溶劑的揮發量之間的關系的圖表。圖11是表示有機EL元件的制造工序的概略的流程圖。具體實施方式以下，參照附圖說明本專利技術的實施方式。圖1是表示本專利技術的第1實施方式的單片式的干燥裝置的概略結構的剖視圖。本實施方式的干燥裝置100用于對作為被處理體的例如有機EL顯示器用的玻璃基板(以下簡記作“基板”)S除去被涂敷在其表面的有機材料膜中的溶劑并使其干燥的干燥處理。本實施方式的干燥裝置100包括能夠抽成真空的處理容器1和用于在處理容器1內支承基板S的作為基板支承部的基板支承部3。處理容器處理容器1是能夠抽成真空的耐壓容器。處理容器1利用金屬材料形成。作為形成處理容器1的材料，例如能夠使用鋁、鋁合金、不銹鋼等。處理容器1包括底壁11、呈方筒狀的4個側壁13、以及頂壁15。在一個側壁13上設有用于向裝置內搬入基板S或者自該裝置搬出基板S的作為開口的搬入搬出口13a。搬入搬出口13a用于在處理容器1與外部之間搬入或搬出基板S。在搬入搬出口13a設有閘閥G本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種干燥裝置，其中，該干燥裝置包括：處理容器，其能夠抽成真空并具有底壁、側壁以及頂壁，在該處理容器內，在減壓條件下除去被涂敷在基板的表面的有機材料膜中的溶劑而使有機材料膜干燥；基板支承部，其用于在所述處理容器內支承所述基板；排氣裝置，其用于對所述處理容器內進行減壓排氣；以及控制部，其用于對所述基板支承部支承所述基板的高度位置可變地進行調節，在對所述處理容器的內部進行減壓排氣的過程中,所述控制部進行控制，以便至少在所述處理容器內的壓力下降到第1壓力之前的期間利用所述基板支承部將所述基板保持在第1高度位置，并至少在所述處理容器內的壓力為比所述第1壓力低的第2壓力以下時將所述基板保持在從所述第1高度位置下降后的第2高度位置。

【技術特征摘要】
2015.09.29 JP 2015-1916511.一種干燥裝置，其中，該干燥裝置包括：處理容器，其能夠抽成真空并具有底壁、側壁以及頂壁，在該處理容器內，在減壓條件下除去被涂敷在基板的表面的有機材料膜中的溶劑而使有機材料膜干燥；基板支承部，其用于在所述處理容器內支承所述基板；排氣裝置，其用于對所述處理容器內進行減壓排氣；以及控制部，其用于對所述基板支承部支承所述基板的高度位置可變地進行調節，在對所述處理容器的內部進行減壓排氣的過程中,所述控制部進行控制，以便至少在所述處理容器內的壓力下降到第1壓力之前的期間利用所述基板支承部將所述基板保持在第1高度位置，并至少在所述處理容器內的壓力為比所述第1壓力低的第2壓力以下時將所述基板保持在從所述第1高度位置下降后的第2高度位置。2.根據權利要求1所述的干燥裝置，其中，所述第1壓力為500Pa，所述第2壓力為3Pa。3.根據權利要求1或2所述的干燥裝置，其中，在所述側壁上設有用于自外部的輸送裝置搬入所述基板的開口，所述第1高度位置是所述基板的上表面被保持在比所述開口的上端靠上方的位置，所述第2高度位置是所述基板的上表面與所述頂壁的下表面分開150mm以上的位置。4.根據權利要求1至3中任一項所述的干燥裝...

【專利技術屬性】
技術研發人員：島村明典，林輝幸，
申請(專利權)人：東京毅力科創株式會社，
類型：發明
國別省市：日本,JP