The present invention provides a photoelectric detector array includes a substrate layer of semi insulating substrate; covering the surface of the insulating layer of the passivation layer; is disposed on the substrate layer and positioned in the at least 2 photoelectric detector in the passivation layer; N contact electrode deposition in N contact layer of each of the photoelectric detector the P contact electrode; vapor deposition in P contact layer on each of the photoelectric detector; hole is arranged in the N contact electrode and grounding electrode in plating steaming in the passivation layer; and the hole in the P contact electrode arranged on the signal electrode and steam plating on the passivation layer. In the invention, a plurality of photoelectric detector according to the symmetrical structure design to the signal electrode as the center, to overcome the single photoelectric detector cannot handle high power optical signal defects, as well as the traditional photoelectric detector array of the photoelectric detector signal to the phase mismatch caused by signal distortion at the output of the shortcomings of simple process,; the saturated power and high sensitivity.
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種光電探測器陣列
本專利技術(shù)涉及光電
,更具體地,涉及一種光電探測器陣列。
技術(shù)介紹
目前,隨著大容量光纖通信系統(tǒng)和光載無線鏈路及相控陣雷達等微波光子應(yīng)用的迅猛發(fā)展,模擬光纖鏈路對于能夠同時滿足高速,大功率的光電探測器的需求也與日俱增。此外,高飽和光電探測器也可以簡化光通信鏈路中接收機的設(shè)計復(fù)雜度,降低或去除接收機對阻抗匹配的低噪聲電放大器的需求。為了應(yīng)對這些需求,近幾年幾種高速、大功率的光電探測器被提出并得到了大量的關(guān)注。但單個光電探測器在處理較大的光信號時仍然存在吸收層厚度的制約問題,較寬的吸收層厚度可以提高光電探測器的響應(yīng)度和飽和特性,但會降低其3dB帶寬;較窄的吸收層厚度可以使光電探測器響應(yīng)更快,但將降低光電探測器的輸出功率。為了解決以上問題,幾種不同結(jié)構(gòu)的分布式光電探測器陣列被提出。分布式光電探測器陣列將入射信號光分散在數(shù)個獨立光電探測器上進行吸收并將其輸出電信號進行疊加,這樣可以減小每個器件的吸收層厚度,克服了單個光電探測器的吸收層厚度制約問題。目前已公布的分布式光電探測器陣列包括垂直耦合和波導(dǎo)耦合兩種耦合方式,但波導(dǎo)耦合方式耦合效率較低,會直接導(dǎo)致整個陣列的響應(yīng)度較低。另外,基于波導(dǎo)型探測器的串聯(lián)型光探測器陣列在大功率環(huán)境下前部光探測器會先達到飽和狀態(tài),而后部的光探測器接收到的光強較小,光功率分配不均也容易引入額外的信號畸變。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)提供一種克服上述問題或者至少部分地解決上述問題的一種光電探測器陣列。根據(jù)本專利技術(shù)的一個方面,提供一種光電探測器陣列,包括:半絕緣的襯底層;覆蓋在所述襯底層表面的絕緣鈍化層;設(shè)置在所述襯底層 ...
【技術(shù)保護點】
一種光電探測器陣列,其特征在于,包括:半絕緣的襯底層;覆蓋在所述襯底層表面的絕緣鈍化層;設(shè)置在所述襯底層上且位于所述鈍化層內(nèi)的至少2個光電探測器;在每個所述光電探測器的N接觸層上蒸鍍的N接觸電極;在每個所述光電探測器的P接觸層上蒸鍍的P接觸電極;在所述N接觸電極上開孔設(shè)置并在所述鈍化層上蒸鍍的接地大電極;以及在所述P接觸電極上開孔設(shè)置并在所述鈍化層上蒸鍍的信號大電極。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種光電探測器陣列,其特征在于,包括:半絕緣的襯底層;覆蓋在所述襯底層表面的絕緣鈍化層;設(shè)置在所述襯底層上且位于所述鈍化層內(nèi)的至少2個光電探測器;在每個所述光電探測器的N接觸層上蒸鍍的N接觸電極;在每個所述光電探測器的P接觸層上蒸鍍的P接觸電極;在所述N接觸電極上開孔設(shè)置并在所述鈍化層上蒸鍍的接地大電極;以及在所述P接觸電極上開孔設(shè)置并在所述鈍化層上蒸鍍的信號大電極。2.如權(quán)利要求1所述的光電探測器陣列,其特征在于,各個光電探測器的N接觸電極通過所述接地大電極互相連通,各個光電探測器的P接觸電極通過所述信號大電極互相連通;所述信號大電極,用于將各個光電探測器產(chǎn)生的電信號進行疊加形成信號線;所述接地大電極,用于將電信號接地形成地線。3.如權(quán)利要求2所述的光電探測器陣列,其特征在于,各個光電探測器以所述信號大電極為中心呈中心對稱分...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:黃永清,趙康,費嘉瑞,段曉峰,劉凱,王俊,任曉敏,王琦,張霞,顏鑫,陳偉,
申請(專利權(quán))人:北京郵電大學,
類型:發(fā)明
國別省市:北京,11
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