一種基板、用于基板定位的對位標記以及對位方法技術

本發明專利技術公一種用于基板定位的對位標記，包括第一對位單元，第一對位單元為由待定位點向兩側延伸的長條狀結構；長條狀結構長邊所在的方向為第一方向，與第一方向垂直的為第二方向；在長條狀結構上沿第二方向上設置有第二對位單元，第二對位單元包括多個第二對位結構，第二對位結構沿第一方向間隔設置。本發明專利技術還公開包括上述對位標記的基板，以及對位方法。本發明專利技術增加了定位標記的偵測范圍，提升了基板定位中的粗對位的成功率。

A substrate, a contraposition mark for locating a substrate, and a counterpoint method

The invention discloses a substrate for positioning the alignment marker includes a first alignment unit, a strip-shaped structure unit is to be positioned at the first position extends to both sides; a strip-shaped structure long side in the direction of the first direction perpendicular to the first direction and second direction; in the long strip structure there are second para units arranged along the second direction, the second bit unit comprises a plurality of second bit structure, second interval counterpoint provided along a first direction. The invention also discloses a substrate including the alignment mark and a contraposition method. The invention increases the detection range of the positioning mark and improves the success rate of the coarse contraposition in the positioning of the substrate.

【技術實現步驟摘要】
一種基板、用于基板定位的對位標記以及對位方法
本專利技術涉及顯示面板生產領域，具體涉及一種用于基板的對位標記以及對位方法。
技術介紹
顯示面板由于其本身結構較為精細，因此，顯示面板的生產過程要求也較為精細。因此，在顯示面板的生產過程中，很多站點對于位置精度有很高的要求，例如曝光、檢測等。在現有技術中，高精度的定位一般分兩個步驟，總結來說就是包括粗對位和細對位。一般來說，在粗對位正常的情況下，后續的采用高倍率鏡頭進行的細對位可以得到較為精確的對位結果。在進行粗對位和細對位的過程中，一般會在待對位物體表面設置對位標記(Mark)的方法來提高對位精度，從而提高定位精度。如圖1和圖2所示，為現有技術中粗對位步驟中的對位標記在基板上的分布圖，圖3為圖1中的對位標記的放大圖。由圖1和圖3可知，現有技術中的對位標記為十字標記2，一般設置在待對位結構1的邊角位置，圖1中為一種矩形結構的待對位結構。十字標記2位于矩形結構1的四個角上。其中的圓形3表示對位系統的鏡頭視野范圍，在對位過程中，只有整個十字標記2必須完全位于圓形3內才能真正的完成對位過程。因此，對位標記的可偵測范圍肯定要小于對位系統的鏡頭視野范圍，一般情況下對位標記的可偵測范圍是很小的，例如1mmx1mm(其中mm為長度單位毫米，1mmx1mm表示對位標記的可偵測范圍為橫向和縱向個1mm的范圍，具體如圖2所示的十字標記)。如圖3所示，十字結構的中心21的坐標為(x，y)。在十字標記2完整出現在圓形3內，即十字標記2出現在對位系統的鏡頭視野中時，對位系統自動對準十字標記的中心21，記錄該中心位置的坐標，從而完成粗對位步驟。由于現有技術中，基板放置位置的偏差量為2mm，受到現有技術中的光學系統的視野范圍的限制，粗對位步驟中的十字結構2的偵測范圍較小，因此，很容易出現如圖2中所示的十字標記2沒有出現在對位系統的鏡頭視野中的情況，從而造成粗對位步驟的失敗。如果讓鏡頭在對位標記周圍移動搜索則增加對位時間，降低機臺的產出。在現有的設備和光學系統不改變的情況下，增大粗對位對位標記的可偵測范圍是一個較為困難的問題。
技術實現思路
為解決現有技術中的對位標記存在的偵測范圍較小，容易造成粗對位失敗的技術問題，本專利技術提供一種用于基板定位的定位標記及定位方法，還提供包括定位標記的基板，用以增加定位標記的偵測范圍，提升粗對位的成功率。根據本專利技術的一個方面，提供一種用于基板定位的對位標記，包括第一對位單元，所述第一對位單元為由待定位點向兩側延伸的長條狀結構；所述長條狀結構長邊所在的方向為第一方向，與第一方向垂直的為第二方向；在所述長條狀結構上沿第二方向上設置有第二對位單元，所述第二對位單元包括多個第二對位結構，所述第二對位結構沿第一方向間隔設置。本專利技術中的對位標記設置有多個第二對位結構，因此，本專利技術中的對位標記擴大了對位標記在第一方向上的的偵測范圍，從而提高了粗對位步驟成功的幾率。根據本專利技術的一個實施例，多個所述第二對位結構沿所述第一方向上，關于待定位點對稱分布。根據本專利技術的一個實施例，所述第二對位結構的個數為奇數，所述待定位點設置與位于中間的第二對位結構在第二方向的中心線上。根據本專利技術的一個實施例，位于所述待定位點同一側的第二對位結構非等間隔設置。根據本專利技術的一個實施例，位于所述待定位點同一側的第二對位結構，在所述長條狀結構一側的高度不同。根據本專利技術的一個實施例，位于所述待定位點同一側的第二對位結構，在所述長條狀結構一側在第二方向上的高度，隨著離帶定位點的距離的增加而逐漸增大或減小。根據本專利技術的一個實施例，所述第二對位結構為矩形結構，所述矩形結構關于長條狀結構在第一方向上的中心線對稱。根據本專利技術的另一個方面，還提供了一種用于基板定位的對位方法，其特征在于，包括以下步驟：S10：在基板上設置以上所述的對位標記，S20：將對位鏡頭的視野范圍調整到對位標記的位置，S30：對位系統對進入到對位鏡頭的視野范圍內的對位標記進行分析，S40：根據步驟S30中的分析結構得到待定位點的坐標。根據本專利技術的一個實施例，所述步驟S30包括一下子步驟：S31：選取進入鏡頭視野范圍的兩個第二對位結構，S32：將對位鏡頭對準兩個第二對位結構之間的中心位置，獲得所述中心位置的坐標，S33：根據步驟S32中心位置的坐標以及第二對位結構的位置確定待定為點的坐標。根據本專利技術的另一個方面，還提供了一種基板，所述基板上設置有多個以上所述的用于基板定位的對位標記。附圖說明在下文中將基于實施例并參考附圖來對本專利技術進行更詳細的描述。其中：圖1是現有技術中粗對位步驟中的對位標記在基板上的分布圖；圖2是現有技術中粗對位步驟中的對位標記在基板上的分布圖；圖3是圖1中的對位鏡頭的視野范圍內的對位標記的放大圖；圖4是本專利技術實施中的用于基板定位的對位標記的結構示意圖；圖5是專利技術實施例中的用于基板定位的對位標記在對位系統的對位鏡頭下是示意圖；圖6是本專利技術實施例中的用于基板定位的對位方法流程圖；圖7是圖6中的步驟S30的子步驟的流程圖。在附圖中，相同的部件使用相同的附圖標記。附圖并未按照實際的比例。具體實施方式下面將結合附圖對本專利技術作進一步說明。本專利技術中的對位標記主要用于基板定位中的粗對位步驟。如圖4所示，為本專利技術實施例中的一種用于基板定位的對位標記，包括第一對位單元41，其中待定位點40位于基板上，在設計對位標記時，第一對位單元由待定位點向兩側延伸，得到如圖4所示的長條狀結構，長條狀結構長邊所在的方向為第一方向，在實際應用中，第一方向可以為水平方向也可以為豎直方向，當然對于特殊的情況下還可以為其他任意方向，一般要求在第一方向上對位系統的精度較高，不易發生偏移，例如在曝光工序中，第一方向常為水平方向，待定位基板在一般為矩形結構，此時的第一方向一般與矩形結構其中的一邊平行。如圖3所示，在第一對位單元41沿第二方向上設置有第二對位單元42，所述第二對位單元有多個第二對位結構。第二對位結構沿第一方向間隔設置。優選的，如圖4圖5所示，多個第二對位結構沿所述第一方向上，關于待定位點40對稱分布。在一些實施例中，第二對位結構的個數可以為偶數個，例如可以為2個、4個、6個或8個等，此時，將待定位點40位于兩個第二對位結構中間的位置。優選的，第二對位結構的個數為奇數，例如可以為3個、5個、7個或9個等，此時待定位點40設置與位于中間的第二對位結構在第二方向的中心線上。如圖4所示，定位點40位于中間第二對位結構420上。在一些實施中，當第二對位結構有兩個以上時，相鄰的第二對位結構之間的間隔設置為各不相同。優選的，在待定位點40一側的第二對位結構，在所述長條狀結構一側在第二方向上的高度，隨著離帶定位點的距離的增加而逐漸增大或減小。如圖4和圖5所示，第二對位結構的個數為7個，中間一個，另外6個分三組關于中間一個對稱設置。設置在中間的第二對位結構的高度最小為L0，關于待定位點對稱設置的第一組第二對位結構421和421`的高度為L1，第二組第二對位結構422和422`的高度為L2，第三組第二對位結構423和423`的高度為L3，其中L0<L1<L2<L3。有規律的設置第二對位結構的高度，可以方便系統對于待定位點的位置的判斷。如圖4和圖5所示的第二對位本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于基板定位的對位標記，其特征在于，包括第一對位單元，所述第一對位單元為由待定位點向兩側延伸的長條狀結構；所述長條狀結構長邊所在的方向為第一方向，與第一方向垂直的為第二方向；在所述長條狀結構上沿第二方向上設置有第二對位單元，所述第二對位單元包括多個第二對位結構，所述第二對位結構沿第一方向間隔設置。

【技術特征摘要】
1.一種用于基板定位的對位標記，其特征在于，包括第一對位單元，所述第一對位單元為由待定位點向兩側延伸的長條狀結構；所述長條狀結構長邊所在的方向為第一方向，與第一方向垂直的為第二方向；在所述長條狀結構上沿第二方向上設置有第二對位單元，所述第二對位單元包括多個第二對位結構，所述第二對位結構沿第一方向間隔設置。2.根據權利要求1所述的用于基板定位的對位標記，其特征在于，多個所述第二對位結構沿所述第一方向上，關于待定位點對稱分布。3.根據權利要求2所述的用于基板定位的對位標記，其特征在于，所述第二對位結構的個數為奇數，所述待定位點設置與位于中間的第二對位結構在第二方向的中心線上。4.根據權利要求3所述的用于基板定位的對位標記，其特征在于，位于所述待定位點同一側的第二對位結構非等間隔設置。5.根據權利要求4所述的用于基板定位的對位標記，其特征在于，位于所述待定位點同一側的第二對位結構，在所述長條狀結構一側的高度不同。6.根據權利要求5所述的用于基板定位的對位標記，其特征在于，位于所述待定位點同一側的第二對...

【專利技術屬性】
技術研發人員：龔成波，
申請(專利權)人：武漢華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：湖北,42