The invention relates to a nano particle over saturation growth device and a control method thereof. The device comprises a particle like gas passage, a sheath gas passage, a saturated water vapor passage, a deionized water channel, an air flow proportional control device and a temperature gradient control device. The invention is based on the principle of water vapor condensation, the sample gas with atmospheric particulate clean sheath gas parcels through the water vapor channel by a semiconductor refrigerator and flexible heater two level water vapor channel temperature control, temperature gradient, water vapor diffusion rate is higher than the rate of heat transfer characteristics of gas particles around the water vapor supersaturation, make the water vapor condense on the surface of particles, particle size growth promoting. By controlling the flow ratio of the sample gas and sheath gas or controlling the temperature difference of the two stage saturated water vapor passage, the steam supersaturation is regulated, and the particle size of the supersaturated growth is controlled dynamically.
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
一種納米級顆粒物過飽和增長裝置及控制方法
本專利技術(shù)涉及氣溶膠監(jiān)測
,具體涉及一種利用水蒸氣凝結(jié)促進納米級顆粒物過飽和增長裝置及控制方法。
技術(shù)介紹
顆粒物在過飽和環(huán)境下凝結(jié)增長達到光學(xué)方法可測量的粒徑范圍是大氣超細顆粒物(粒徑小于100nm)測量的主要手段。水蒸氣分子在顆粒物表面的凝結(jié)可以促進顆粒物粒徑的增長,顆粒物過飽和增長后的粒徑大小與所處的水蒸氣過飽和度有直接關(guān)系,獲取不同水蒸氣過飽和度條件下的顆粒物增長后的粒徑大小信息有助于分析大氣顆粒物的化學(xué)組分和凝結(jié)增長特征。中國專利CN104297118A中提到了一種利用正丁醇蒸氣過飽和促進顆粒物凝結(jié)增長測量3nm~5μm顆粒物數(shù)濃度的裝置,其利用了正丁醇蒸氣分子擴散系數(shù)小于熱擴散系數(shù)的原理,固定了飽和溶液裝置和冷凝裝置的壁面溫度(39℃和10℃),顆粒物周圍的正丁醇蒸氣過飽和度保持不變,不能滿足對顆粒物凝結(jié)增長后的粒徑大小的控制需求。因此,需要設(shè)計一種能夠動態(tài)控制顆粒物凝結(jié)增長后粒徑大小的顆粒物測量裝置。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本專利技術(shù)的目的在于提供一種利用水蒸氣凝結(jié)促進納米級顆粒物過飽和增長的裝置及控制方法,該裝置及控制方法能夠解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足,對對1nm~100nm之間的納米顆粒物過飽和增長過程進行動態(tài)控制,使納米顆粒物過飽和增長后的粒徑在0.1μm~10μm范圍內(nèi)動態(tài)變化。為實現(xiàn)上述目的,本專利技術(shù)采用了以下技術(shù)方案:一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,包括顆粒物樣氣通道、鞘氣通道、飽和水蒸氣通道、去離子水通道、氣流比例控制裝置和溫度梯度控制裝置。具體地說,所述顆粒物樣氣通道包括樣氣管道以及分別安裝 ...
【技術(shù)保護點】
一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,其特征在于:包括顆粒物樣氣通道、鞘氣通道、飽和水蒸氣通道、去離子水通道、氣流比例控制裝置和溫度梯度控制裝置;所述顆粒物樣氣通道包括樣氣管道以及分別安裝在樣氣管道上的樣氣流量計與樣氣真空泵;所述鞘氣通道包括鞘氣管道以及分別安裝在鞘氣管道上的過濾器、鞘氣流量計與鞘氣真空泵;所述飽和水蒸氣通道包括從內(nèi)向外依次同軸設(shè)置的微孔內(nèi)襯管和不銹鋼套管;所述去離子水通道包括去離子水儲存裝置以及與去離子水儲存裝置相連的可調(diào)速水泵;所述氣流比例控制裝置包括壓差測量系統(tǒng)、信號放大電路和真空泵驅(qū)動電路;所述壓差測量系統(tǒng)包括開設(shè)在鞘氣管道上的限流小孔以及用于測量限流小孔兩端的壓差的壓差式傳感器;所述溫度梯度控制裝置包括依次包裹在不銹鋼套管外壁上的半導(dǎo)體制冷器與柔性加熱器、分別設(shè)置在柔性加熱器與不銹鋼套管之間以及半導(dǎo)體制冷器與不銹鋼套管之間的兩個溫度傳感器、與溫度傳感器相連的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、以及與半導(dǎo)體制冷器和柔性加熱器相連的電流控制電路。
【技術(shù)特征摘要】
1.一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,其特征在于:包括顆粒物樣氣通道、鞘氣通道、飽和水蒸氣通道、去離子水通道、氣流比例控制裝置和溫度梯度控制裝置;所述顆粒物樣氣通道包括樣氣管道以及分別安裝在樣氣管道上的樣氣流量計與樣氣真空泵;所述鞘氣通道包括鞘氣管道以及分別安裝在鞘氣管道上的過濾器、鞘氣流量計與鞘氣真空泵;所述飽和水蒸氣通道包括從內(nèi)向外依次同軸設(shè)置的微孔內(nèi)襯管和不銹鋼套管;所述去離子水通道包括去離子水儲存裝置以及與去離子水儲存裝置相連的可調(diào)速水泵;所述氣流比例控制裝置包括壓差測量系統(tǒng)、信號放大電路和真空泵驅(qū)動電路;所述壓差測量系統(tǒng)包括開設(shè)在鞘氣管道上的限流小孔以及用于測量限流小孔兩端的壓差的壓差式傳感器;所述溫度梯度控制裝置包括依次包裹在不銹鋼套管外壁上的半導(dǎo)體制冷器與柔性加熱器、分別設(shè)置在柔性加熱器與不銹鋼套管之間以及半導(dǎo)體制冷器與不銹鋼套管之間的兩個溫度傳感器、與溫度傳感器相連的數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)、以及與半導(dǎo)體制冷器和柔性加熱器相連的電流控制電路。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,其特征在于:所述半導(dǎo)體制冷器和柔性加熱器之間設(shè)有絕熱塊。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,其特征在于:所述不銹鋼套管的內(nèi)徑不小于12mm,且不銹鋼套管采用316L不銹鋼材質(zhì)。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種納米級顆粒物過飽和增長裝置,其特征在于:所述微孔內(nèi)襯管的內(nèi)徑不小于9mm;所述微孔內(nèi)襯管采用e-PTFE膨體聚四氟乙烯材料;所述微孔內(nèi)襯管的管壁上開設(shè)有若干通孔,且通孔的孔隙尺寸小于0.5μm,孔隙率大于80%。5.根據(jù)權(quán)利要求1~4任意一項所述的納米級顆粒物過飽和增長裝置的控制方法,其特征在于:該方法包括以下步驟:(1)帶有大氣顆粒物的樣氣進入顆粒物樣氣通道后分為兩路,一路沿顆粒物樣氣通道繼續(xù)流動,另一路經(jīng)鞘氣通道過濾后形成潔凈的鞘氣后再次進入大氣顆...
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員:張礁石,劉建國,桂華僑,余同柱,楊義新,杜朋,王文譽,趙欣,王杰,程寅,陸亦懷,劉文清,
申請(專利權(quán))人:中國科學(xué)院合肥物質(zhì)科學(xué)研究院,
類型:發(fā)明
國別省市:安徽,34
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