薄膜晶體管陣列基板及其制備方法及液晶顯示面板技術

本發明專利技術提供一種薄膜晶體管陣列基板及其制備方法及液晶顯示面板，所述陣列基板包括陣列基板襯底、設置在所述陣列基板襯底上的薄膜晶體管陣列層、設置在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上的彩色濾光層、設置在所述彩色濾光層上的像素電極鈍化層以及設置在所述像素電極鈍化層上的像素電極，所述像素電極通過一過孔與所述薄膜晶體管陣列層連接，所述彩色濾光層表面設置有圖形化的凹陷微結構。本發明專利技術的優點在于，在不增加制造成本的前提下，利用形成過孔的光罩在彩色濾光層表面形成圖形化的凹陷微結構，使得色阻制作過程及后續像素電極鈍化層高溫制程產生的揮發物完全釋放，避免氣體殘留，消除產品后期產生氣泡的可能性，提高產品品質。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術涉及液晶顯示領域，尤其涉及一種薄膜晶體管陣列基板及其制備方法及液晶顯示面板。
技術介紹
液晶顯示器(LiquidCrystalDisplay，LCD)是目前最廣泛使用的平板顯示器之一，液晶面板是液晶顯示器的核心組成部分。AMLCD制備技術中采用COA(ColorFilteronArray)技術來提高開口率，降低寄生電容效應。COA(ColorFilteronArray)技術是將彩色濾光層直接制備在的陣列基板上的技術，而彩膜基板上只設有黑色矩陣(BlackMatrix，BM)以及柱狀隔墊物(PhotoSpacer，PS)層。彩色濾光層的主體材料為有機物，現有技術在進行彩色濾光層的制作時，可能會在其內部殘存有氣體。同時由于有機物的特性，在某些條件下，例如高溫環境，彩色濾光層內部會緩慢釋放出小分子的碳氧化物氣體，如CO、CO2等，這些小分子氣體產生后會穿透彩色濾光層表面其他結構層，而進入液晶層當中，在局部形成氣泡，會影響顯示效果，降低產品良率。目前，需要通過設計小孔來使色阻中的氣體揮發出來，但是采用這種方式氣體揮發不充分且制備小孔工藝較難控制，導致COA產品品質不夠穩定。
技術實現思路
本專利技術所要解決的技術問題是，提供一種薄膜晶體管陣列基板及其制備方法及液晶顯示面板，其能夠釋放色阻層產生的氣體，避免形成氣泡，提高產品品質。為了解決上述問題，本專利技術提供了一種薄膜晶體管陣列基板，包括陣列基板襯底、設置在所述陣列基板襯底上的薄膜晶體管陣列層、設置在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上的彩色濾光層、設置在所述彩色濾光層上的像素電極鈍化層以及設置在所述像素電極鈍化層上的像素電極，所述像素電極通過一過孔與所述薄膜晶體管陣列層連接，所述彩色濾光層表面設置有圖形化的凹陷微結構。進一步，所述薄膜晶體管陣列層包括設置在所述陣列基板襯底上的柵極金屬層、設置在所述柵極金屬層及陣列基板襯底上的柵極鈍化層、設置在所述柵極鈍化層上的溝道區、設置在所述溝道區上的第一鈍化層、設置在所述第一鈍化層上的源漏極金屬層以及設置在所述源漏極金屬層上的第二鈍化層，所述彩色濾光層設置在所述第二鈍化層上。進一步，所述彩色濾光層包括多個依次連接的色阻單元，每一色阻單元上均設置有圖形化的凹陷微結構。進一步，所述色阻單元包括紅色色阻單元、綠色色阻單元以及藍色色阻單元。本專利技術還提供一種液晶顯示面板，包括薄膜晶體管陣列基板及彩膜基板，所述薄膜晶體管陣列基板采用上述的薄膜晶體管陣列基板，所述彩膜基板包括彩膜基板襯底、設置在所述彩膜基板襯底上的黑色矩陣以及設置在所述黑色矩陣上的柱狀隔墊物。本專利技術還提供一種薄膜晶體管陣列基板的制作方法，括如下步驟：提供一陣列基板襯底；在所述陣列基板襯底上形成薄膜晶體管陣列層；在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上形成彩色濾光層；形成一貫穿所述彩色濾光層并暴露出所述薄膜晶體管陣列層的漏極的過孔，并在所述彩色濾光層表面形成圖形化的凹陷微結構；在所述彩色濾光層上形成像素電極鈍化層；在所述像素電極鈍化層上形成像素電極，在所述凹陷微結構對應位置，所述像素電極的圖形與所述凹陷微結構的圖形相同。進一步，在所述陣列基板襯底上形成薄膜晶體管陣列層的方法包括如下步驟：在所述陣列基板襯底上形成柵極金屬層；在所述柵極金屬層及陣列基板襯底上形成柵極鈍化層；在所述柵極鈍化層上形成溝道區；在所述溝道區上形成第一鈍化層；在所述第一鈍化層上形成源漏極金屬層；以及在所述源漏極金屬層上形成第二鈍化層，所述彩色濾光層形成在所述第二鈍化層上。進一步，所述彩色濾光層包括多個依次連接的色阻單元，每一色阻單元上均設置有圖形化的凹陷微結構。進一步，采用干法蝕刻所述彩色濾光層，用以形成所述過孔及凹陷微結構。進一步，在所述像素電極鈍化層上以及凹陷微結構表形成透明電極層，采用濕法蝕刻所述透明電極層形成像素電極。本專利技術的優點在于，在不增加制造成本的前提下，利用形成過孔的光罩在彩色濾光層表面形成圖形化的凹陷微結構，使得色阻制作過程及后續像素電極鈍化層高溫制程產生的揮發物完全釋放，避免氣體殘留，消除產品后期產生氣泡的可能性，提高產品品質。附圖說明圖1是本專利技術薄膜晶體管陣列基板的結構示意圖圖2是圖1中A-A向截面圖；圖3是本專利技術薄膜晶體管陣列基板的制作方法的步驟示意圖；圖4A～圖4F是本專利技術薄膜晶體管陣列基板的制作方法的工藝流程圖。具體實施方式下面結合附圖對本專利技術提供的薄膜晶體管陣列基板及其制備方法及液晶顯示面板的具體實施方式做詳細說明。參見圖1及圖2，本專利技術薄膜晶體管陣列基板包括陣列基板襯底1、設置在所述陣列基板襯底1上的薄膜晶體管陣列層2、設置在所述薄膜晶體管陣列層2及陣列基板襯底1上的彩色濾光層3、設置在所述彩色濾光層3上的像素電極鈍化層4以及設置在所述像素電極鈍化層4上的像素電極5。其中，所述陣列基板襯底1優選為玻璃基板。所述薄膜晶體管陣列層2包括設置在所述陣列基板襯底1上的柵極金屬層21、設置在所述柵極金屬層21及陣列基板襯底1上的柵極鈍化層22、設置在所述柵極鈍化層22上的溝道區23、設置在所述溝道區23上的第一鈍化層24、設置在所述第一鈍化層24上的源漏極金屬層25以及設置在所述源漏極金屬層25上的第二鈍化層26，所述彩色濾光層3設置在所述第二鈍化層26上。所述彩色濾光層3表面設置有圖形化的凹陷微結構31，在彩色濾光層3及后續像素電極鈍化層4的高溫工藝中產生的氣體可通過該凹陷微結構31釋放，從而避免形成氣泡，影響產品品質。參見圖1，所述彩色濾光層3包括多個依次連接的色阻單元32，所述色阻單元32包括紅色色阻單元R、綠色色阻單元G以及藍色色阻單元B，所述紅色色阻單元R、綠色色阻單元G以及藍色色阻單元B交替排列形成彩色濾光層3，進一步，所述色阻單元32還可以包括白色色阻單元(附圖中未標示)。每一色阻單元32上均設置有圖形化的凹陷微結構31。在本具體實施方式中，在所述色阻單元32表面覆蓋像素電極鈍化層4之后，圖形化所述像素電極鈍化層4，以在后續制程中形成如圖1所示的圖形化的像素電極5。在本專利技術另一實施例中，在所述凹陷微結構31內表面也覆蓋像素電極鈍化層4，像素電極5沉積在像素電極鈍化層4表面，所述凹陷微結構31內表面沒有沉積像素電極，以使得在所述凹陷微結構31對應位置，所述像素電極5的圖形與所述凹陷微結構31的圖形相同，進而形成圖形化的像素電極5，從而省略了現有技術中通過圖形化像素電極鈍化層4形成圖形化的像素電極5的的過程，節約成本，縮短制程時間。本專利技術還提供一種上述薄膜晶體管陣列基板的制作方法，參加圖3，所述方法包括如下步驟：步驟S30、提供一陣列基板襯底；步驟S31、在所述陣列基板襯底上形成薄膜晶體管陣列層；步驟S32、在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上形成彩色濾光層；步驟S33、形成一貫穿所述彩色濾光層并暴露出所述薄膜晶體管陣列層的漏極的過孔，并利用形成過孔的光罩在所述彩色濾光層表面形成圖形化的凹陷微結構；步驟S34、在所述彩色濾光層上形成像素電極鈍化層；步驟S35、在所述像素電極鈍化層上形成像素電極，在所述凹陷微結構對應位置，所述像素電極的圖形與所述凹陷微結構的圖形相同。圖4A～圖4F是本專利技術薄膜晶體管陣列基板的制作方法的工藝流程圖。參見圖4A及步驟S30，提供一本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，包括陣列基板襯底、設置在所述陣列基板襯底上的薄膜晶體管陣列層、設置在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上的彩色濾光層、設置在所述彩色濾光層上的像素電極鈍化層以及設置在所述像素電極鈍化層上的像素電極，所述像素電極通過一過孔與所述薄膜晶體管陣列層連接，所述彩色濾光層表面設置有圖形化的凹陷微結構。

【技術特征摘要】
1.一種薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，包括陣列基板襯底、設置在所述陣列基板襯底上的薄膜晶體管陣列層、設置在所述薄膜晶體管陣列層及陣列基板襯底上的彩色濾光層、設置在所述彩色濾光層上的像素電極鈍化層以及設置在所述像素電極鈍化層上的像素電極，所述像素電極通過一過孔與所述薄膜晶體管陣列層連接，所述彩色濾光層表面設置有圖形化的凹陷微結構。2.根據權利要求1所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述薄膜晶體管陣列層包括設置在所述陣列基板襯底上的柵極金屬層、設置在所述柵極金屬層及陣列基板襯底上的柵極鈍化層、設置在所述柵極鈍化層上的溝道區、設置在所述溝道區上的第一鈍化層、設置在所述第一鈍化層上的源漏極金屬層以及設置在所述源漏極金屬層上的第二鈍化層，所述彩色濾光層設置在所述第二鈍化層上。3.根據權利要求1所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述彩色濾光層包括多個依次連接的色阻單元，每一色阻單元上均設置有圖形化的凹陷微結構。4.根據權利要求3所述的薄膜晶體管陣列基板，其特征在于，所述色阻單元包括紅色色阻單元、綠色色阻單元以及藍色色阻單元。5.一種液晶顯示面板，包括薄膜晶體管陣列基板及彩膜基板，其特征在于，所述薄膜晶體管陣列基板采用權利要求1～4任意一項所述的薄膜晶體管陣列基板，所述彩膜基板包括彩膜基板襯底、設置在所述彩膜基板襯底上的黑色矩陣以及設置在所述黑色矩陣上的柱狀隔墊物。6.一種薄膜晶體管陣列基板的制作方法，其特征在于，...

【專利技術屬性】
技術研發人員：宋利旺，
申請(專利權)人：深圳市華星光電技術有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44