太陽能面板結構制造技術

本發(fā)明專利技術為一種增加圖紋顯色效果的太陽能面板結構，具有一太陽能基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其特征在于該圖紋透光層設有一圖紋層及一反光層，該反光層混合一定比例的反光顆粒，該反光層覆蓋于發(fā)電層表面上，而反光層上再覆蓋一圖紋層，通過控制反光層的厚度控制光線穿透至該發(fā)電層產生所需的發(fā)電功率，以及控制反光層間的反光顆粒的密度產生的折射光反射亮度使圖紋層產生更佳的色澤表現(xiàn)。

【技術實現(xiàn)步驟摘要】

本專利技術為一種增加圖紋顯色效果的太陽能面板結構，尤指一種在太陽能面板的表面包覆具有圖案或文字的透光層施以增加反光效果由此使該透光層的圖案或文字的顯色狀況更佳的方法及其結構。
技術介紹
近來為能發(fā)展環(huán)保能源，太陽能面板的使用成為幾項綠色能源發(fā)展中最成熟也最為所廣泛運用的技術之一，而目前現(xiàn)有的太陽能面板在使用上必須設置于戶外日照充足的位置，從而達到應有的發(fā)電效能，然而在一般市區(qū)土地寸土寸金的土地利用面積上，使用者若想安置太陽能面板，多半選擇房屋或大樓屋頂?shù)容^少人使用的有限空間來裝設太陽能面板來發(fā)電，然而太陽能面板的發(fā)電必須具備更充足的空間才可以大量的提供電力，因此如何爭取足夠的太陽能面板設置空間并促使使用者愿意安置是現(xiàn)今亟欲解決的技術問題。探究現(xiàn)今使用者僅愿意設置太陽能面板于樓頂?shù)确θ诉M出之處的主因在于外表漆黑的太陽能面板的設置對于建筑物外觀多數(shù)認為不美觀，更無其他的外觀選擇性，因此大幅降低建筑物外表可設置太陽能面板的空間，而包括如建筑物外觀墻面或裝設玻璃位置，反而多半選擇設置較為美觀但不具能源效益的廣告物或裝飾板材，若能將所述建筑物外觀的墻面或裝設玻璃部分的空間裝設太陽能面板，將大為有利于太陽能的發(fā)電量。基于上述現(xiàn)有技術背景，本專利技術人已開發(fā)出「具備圖紋之太陽能面板結構」并申請中國臺灣專利技術專利申請案第103113278號，請參考圖5所示的所述具備圖紋的太陽能面板結構20，該專利技術專利申請主要特征在于該基板24上所設的發(fā)電層21的表面上包覆有一圖紋透光層22，該圖紋透光層22維持一定透光率，其中光線L穿透該圖紋透光層22后仍提供足夠的入射光Li或經基板反射的反射光Lo在發(fā)電層21中作用產生電能。所述的具備圖紋的太陽能面板結構20主要功用為透過該圖紋透光層22顯示出各種花紋或圖形得以使單調的太陽能面板在外觀上可以依據(jù)設計者需求在可控制發(fā)電量的設定下任意的設計所要表現(xiàn)的圖紋，且該圖紋并非為現(xiàn)有點陣式的間隔色塊拼湊，因此近觀或遠觀都有更佳的視覺效果，而此一外觀呈現(xiàn)上的技術突破將促使更多的使用者將太陽能面板美化后設置于更多的建筑物外觀上甚至是室內室外擺設上，不但提供更大的環(huán)保電能效益，也維持甚而美化建筑物的外觀。但所述的具備圖紋的太陽能面板結構20的圖紋透光層22為附著在太陽能面板上，而太陽能面板的色澤都是黑色系為準，而黑色系會吸附光線，也代表所述的具備圖紋的太陽能面板結構20的圖紋透光層22雖具有顯示圖紋的功效，但其圖紋的色澤也往往因為太陽能面板為黑色系的顏色而使圖紋色澤的呈現(xiàn)大幅抵減，因此如何增加色澤的呈現(xiàn)是需要再突破的技術課題。另外，在市場需求多樣化的狀況下，必然有部分的需求是需要太陽能面板在一定的圖紋顯色效果上具有更佳的發(fā)電功率，或者一定的發(fā)電功率上具有更佳的圖紋顯色效果，如何在具備圖紋的太陽能面板結構20的圖紋透光層22的設計上產生更佳的表面顯色效果，又能控制生產出太陽能面板產品的發(fā)電功率，實為另外一個亟待解決的技術問題。
技術實現(xiàn)思路
有鑒于現(xiàn)有技術中太陽能面板圖紋的色澤因為太陽能面板為黑色系的顏色而使圖紋色澤的呈現(xiàn)大幅抵減，且不能控制生產出太陽能面板產品的發(fā)電功率的問題。為解決上述問題，本專利技術提供一種太陽能面板結構，該太陽能面板結構具有一太陽能基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其特征在于，該圖紋透光層設有一圖紋層及一反光層，該反光層混合一定比例的反光顆粒，該反光層覆蓋于發(fā)電層表面上，而反光層上再覆蓋一圖紋層，通過控制反光層的厚度控制光線穿透至該發(fā)電層產生所需的發(fā)電功率，以及控制反光層間的反光顆粒的密度產生的折射光反射亮度使圖紋層產生更佳的色澤表現(xiàn)。本專利技術還提供一種太陽能面板結構，其具有一太陽能基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其中該發(fā)電層與圖紋透光層間具有一保護層，該圖紋透光層
設有一圖紋層及一反光層，該反光層混合一定比例的反光顆粒，該反光層覆蓋于保護層表面上，而反光層上再覆蓋一圖紋層，通過控制反光層的厚度與控制保護層表面上粗糙加工的起伏高度控制光線穿透至該發(fā)電層產生所需的發(fā)電功率，以及控制反光層間的反光顆粒的密度產生的折射光反射亮度使圖紋層產生更佳的色澤表現(xiàn)。作為優(yōu)選，該反光層為環(huán)氧樹脂等透明高分子化合物。作為優(yōu)選，該圖紋層為薄膜或軟性透光材質。作為優(yōu)選，該保護層表面上粗糙加工系可以噴砂、研磨或化學蝕刻等方式對保護層表面進行粗糙化。附圖說明圖1為本專利技術最佳實施例的太陽能面板結構剖示圖。圖2為本專利技術最佳實施例的太陽能面板結構剖示放大圖。圖3為本專利技術另一較佳實施例的太陽能面板結構剖示圖。圖4為本專利技術另一較佳實施例的太陽能面板結構剖示放大圖。圖5為現(xiàn)有技術中的太陽能面板結構剖示圖。附圖標記11 發(fā)電層 12 圖紋透光層121 圖紋層 122 反光層30 反光顆粒 L 光線Lr 反射光 H1 反光層厚度具體實施方式請參照圖1及圖2的本專利技術較佳實施例所示，為能在原有具備圖紋的太陽能面板結構的技術上更進一步的增加圖紋色澤以及控制發(fā)電功率，本專利技術特別針對太陽能基板14以及基板14上設置的一發(fā)電層11與圖紋透光層間的結構設計進行研發(fā)，本專利技術主要針對太陽能面板結構10的發(fā)電層11表面與其表面
所包覆的圖紋透光層12進行新的設計，在技術特征上本專利技術的圖紋透光層12中增設有一圖紋層121以及一反光層122，其中反光層122制作上為環(huán)氧樹脂等透明高分子化合物混合一定比例的反光顆粒30所構成，其中該反光層122覆蓋于發(fā)電層11表面上，而反光層122上再覆蓋以薄膜或軟性透光材質等通過染色、涂覆或貼附色彩等產生圖紋的圖紋層121于其上，為能維持一定光線L透光率穿透至該發(fā)電層21上或控制圖紋層121產生的色澤亮度，在本專利技術至少實施有：1)控制所述反光層122的厚度H1；2)控制反光層122間的反光顆粒30的密度，得以控制反光顆粒30受光后產生的折射光Lr的反射亮度，進而使圖紋層121產生更佳的色澤表現(xiàn)。再請參照圖3及圖4所示的本專利技術另一較佳實施例，一般太陽能面板10設置在外曝環(huán)境時需要具備更佳的保護，因此發(fā)電層11表面會設一層保護層111，該保護層111由玻璃等透明材質所構成，在此一實施例上，所包覆的圖紋透光層13的圖紋層131以及反光層132設于所述的保護層111上，其中為使該反光層132與保護層111表面具有更佳的表面附著效果，于保護層111表面上進行粗糙加工，使保護層111表面具有一定的起伏高度，其中所述的粗糙加工可以噴砂、研磨或化學蝕刻等方式對保護層111表面進行粗糙化，為能維持一定光線L透光率穿透至該發(fā)電層21上或控制圖紋層131產生的色澤亮度，在本專利技術至少實施有：1)控制所述反光層132的厚度H1；2)控制所述保護層111表面上進行粗糙加工的起伏高度H2；3)控制反光層132間的反光顆粒30的密度，得以控制反光顆粒30受光后產生的折射光Lr的反射亮度，進而使圖紋層131產生更佳的色澤表現(xiàn)，其中所述的保護層111表面上進行粗糙加工的起伏高度H2影響光線透光率，起伏高度H2越大，透光率越低，起伏高度H2越小，透光率越高。綜上所述，本專利技術增加圖紋顯色效果的太陽能面板結構可通過反光層的設計增加圖紋層的顯色效果，應能兼具必要的發(fā)電功率，且無近似的技術公告在先，于是依法提出專利本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術保護點】
一種太陽能面板結構，具有一基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其特征在于：該圖紋透光層設有一圖紋層及一反光層，該反光層混合一定比例的反光顆粒，該反光層覆蓋于發(fā)電層表面上，而反光層上再覆蓋一圖紋層，通過控制反光層的厚度控制光線穿透至該發(fā)電層產生所需的發(fā)電功率，以及控制反光層間的反光顆粒的密度產生的折射光反射亮度使圖紋層產生更佳的色澤表現(xiàn)。

【技術特征摘要】
1.一種太陽能面板結構，具有一基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其特征在于：該圖紋透光層設有一圖紋層及一反光層，該反光層混合一定比例的反光顆粒，該反光層覆蓋于發(fā)電層表面上，而反光層上再覆蓋一圖紋層，通過控制反光層的厚度控制光線穿透至該發(fā)電層產生所需的發(fā)電功率，以及控制反光層間的反光顆粒的密度產生的折射光反射亮度使圖紋層產生更佳的色澤表現(xiàn)。2.根據(jù)權利要求1所述的太陽能面板結構，其中該反光層為環(huán)氧樹脂透明高分子化合物。3.根據(jù)權利要求1所述的太陽能面板結構，其中該圖紋層為薄膜或軟性透光材質。4.一種太陽能面板結構，具有一基板、一發(fā)電層與一圖紋透光層，其中該發(fā)電層與圖紋透光層間具有一保護...

【專利技術屬性】
技術研發(fā)人員：陳彩惠，李翠煌，
申請(專利權)人：陳彩惠，李翠煌，
類型：發(fā)明
國別省市：中國臺灣;71