【技術實現步驟摘要】
本專利技術涉及電路板
,尤其涉及一種異形塔壘式雙面按鍵板制作方法。
技術介紹
在印制電路板的制作中,蝕刻工藝是其中不可缺少的一個重要步驟,特別是隨著微電子技術的飛速發展,大規模集成電路和超大規模集成電路的廣泛應用,使印制電路板上的導線寬度與間距越來越小,布線密度和精度也越來越高,對蝕刻的精度和公差提出了更高更嚴的要求,蝕刻質量的好壞直接影響到印制電路板的質量優劣。對于銅箔厚度相同的印制電路板,通常采用兩面同時蝕刻,即可滿足要求。但是,對于銅箔厚度不同的印制電路板,兩面同時蝕刻無法滿足要求,目前,常見的方式有:一種是兩面的線路蝕刻補償量按銅箔厚度較厚的以免同等補償,再進行蝕刻處理;另一種是兩面按實際銅箔厚度制作線路蝕刻補償,蝕刻時通過調整蝕刻壓力,這種方式僅適合兩面銅箔厚度極差小于或者等于1盎司的情況,然而,這兩種方式均適合于線路間距非常寬的印制電路板,無法加工精細線路的印制電路板,而且也無法加工兩面銅箔厚度極差大于1盎司的印制電路板。因此,需要提供一種新的技術方案解決上述技術問題。
技術實現思路
本專利技術的目的是提供一種可有效解決上述技術問題的異形塔壘式雙面按鍵板制作方法。為了解決上述技術問題,本專利技術采用如下技術方案:所述異形塔壘式雙面按鍵板制作方法包括以下步驟:S1(干膜):首先在按鍵板的各個底銅面上需要加厚的部位進行干膜,以便產生一種穩定的物質附著在底銅面上;S2(二銅):經過干膜以后,在按鍵板的各個部位進行電鍍,形成一層金屬膜;S3(干膜):然后將異形底銅面覆蓋,把同性底銅面作出圖形;S4(蝕刻):然后確認底同性底銅的厚度正常負片蝕刻;S5 ...
【技術保護點】
一種異形塔壘式雙面按鍵板制作方法,其特征在于:所述異形塔壘式雙面按鍵板制作方法包括以下步驟:S1(干膜):首先在按鍵板的各個底銅面上需要加厚的部位進行干膜,以便產生一種穩定的物質附著在底銅面上;S2(二銅):經過干膜以后,在按鍵板的各個部位進行電鍍,形成一層金屬膜;S3(干膜):然后將異形底銅面覆蓋,把同性底銅面作出圖形;S4(蝕刻):然后確認底同性底銅的厚度正常負片蝕刻;S5(干膜):然后將已經蝕刻的同性底銅面覆蓋,再將異形底銅面做出圖形;S6(蝕刻):然后確認異形底銅厚度正常負片蝕刻。
【技術特征摘要】
1.一種異形塔壘式雙面按鍵板制作方法,其特征在于:所述異形塔壘式雙面按鍵板制作方法包括以下步驟:S1(干膜):首先在按鍵板的各個底銅面上需要加厚的部位進行干膜,以便產生一種穩定的物質附著在底銅面上;S2(二銅):經過干膜以后,在按鍵板的各個部位進行電鍍,形成一層金屬膜;S3(干膜):然后將異形底銅...
【專利技術屬性】
技術研發人員:李高猛,朱曉菲,張海軍,王恒星,孫坤坤,劉攀,
申請(專利權)人:昆山銓瑩電子有限公司,
類型:發明
國別省市:江蘇;32
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