一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置制造方法及圖紙

本實(shí)用新型專利技術(shù)公開了一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，該真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置的殼體包括三層密封殼體，并在不同密封殼體之間設(shè)置有夾層空腔，在不同的夾層空腔內(nèi)和在殼體外分別設(shè)置了真空泵，通過逐層抽真空的方式對(duì)中央真空室進(jìn)行抽真空，大大提高了抽真空的效果，從而使本真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置能夠制得連續(xù)薄膜，提高薄膜在基板上的附著力，以及工藝重復(fù)性。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】

本技術(shù)涉及光學(xué)鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置。
技術(shù)介紹
真空鍍膜是一種由物理方法產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)，在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。其被廣泛應(yīng)用于生產(chǎn)光學(xué)鏡片，如航海望遠(yuǎn)鏡鏡片等；后延伸到其他功能薄膜，唱片鍍鋁、裝飾鍍膜和材料表面改性等。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空室中，加熱蒸發(fā)容器中待形成薄膜的原材料，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜固體上，即襯底或基片表面，從而凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。現(xiàn)有的真空蒸發(fā)鍍膜裝置具有結(jié)構(gòu)簡單，操作容易，制成的薄膜純度高等優(yōu)點(diǎn)。但在蒸發(fā)鍍膜過程都必須在空氣非常稀薄的環(huán)境中進(jìn)行，而現(xiàn)有的真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置是在真空室內(nèi)的底部(坩堝旁)設(shè)置通向泵來抽真空，不僅抽真空效果不佳，還會(huì)影響蒸發(fā)容器中逸出的蒸氣流的流動(dòng)方向，從而使蒸發(fā)物原子或分子將與大量空氣分子碰撞，使膜層受到嚴(yán)重污染，甚至形成氧化物，并由于空氣分子的碰撞阻擋，難以獲得連續(xù)薄膜，所形成的薄膜在基板上的附著力較小，工藝重復(fù)性不佳。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
本技術(shù)要解決的技術(shù)問題，一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，用于解決現(xiàn)有真空離子蒸發(fā)鍍膜過程中真空條件不佳，難于得到連續(xù)薄膜以及薄膜在基板上的附著力較小，工藝重復(fù)性不佳的問題。本技術(shù)是這樣實(shí)現(xiàn)的：一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，包括殼體、抽真空裝置和坩堝，所述殼體由外至內(nèi)依次包括外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體為密封殼體，內(nèi)層殼體圍成中央真空室，內(nèi)層殼體與中層殼體圍成第一夾層空腔，中層殼體與外層殼體圍成第二夾層空腔；所述抽真空裝置包括第一真空泵、第二真空泵、第三真空泵和多個(gè)用于檢測(cè)真空值的真空壓力傳感器，所述中央真空室、第一夾層空腔和第二夾層空腔內(nèi)分別設(shè)置有所述真空壓力傳感器；第一真空泵設(shè)置于第一夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與中央真空室連通；第二真空泵設(shè)置于第二夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與第一夾層空腔連通；第三真空泵設(shè)置于外層殼體外，并通過密封管道與第二夾層空腔連通；所述坩堝設(shè)置于中央真空室的底部，坩堝的底部設(shè)置有加熱裝置，坩堝的上方設(shè)置有用于夾裝鍍膜基材的固定裝置。進(jìn)一步的，中央真空室的頂部設(shè)置有兩個(gè)以上抽氣口，第一真空泵的密封管道連接于各抽氣口。進(jìn)一步的，所述加熱裝置為鎢絲。進(jìn)一步的，所述密封管道中分別串聯(lián)有單向閥。進(jìn)一步的，所述固定裝置的基材固定面設(shè)置有半導(dǎo)體制冷片，半導(dǎo)體制冷片的制冷面朝向基材夾裝方向。本技術(shù)具有如下優(yōu)點(diǎn)：區(qū)別于現(xiàn)有的離子蒸發(fā)鍍膜裝置采用單一真空泵抽真空，真空效果不佳，難以獲得連續(xù)薄膜，所形成的薄膜在基板上的附著力較小，工藝重復(fù)性不佳。本技術(shù)真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置的殼體采用三層密封殼體，并在殼體之間設(shè)置有夾層空腔，并且在不同的夾層空腔內(nèi)和在殼體外分別設(shè)置了真空泵，通過逐層抽真空的方式對(duì)中央真空室進(jìn)行抽真空，大大提高了抽真空的效果，從而使本真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置能夠制得連續(xù)薄膜，提高薄膜在基板上的附著力，以及工藝重復(fù)性。附圖說明圖1為本技術(shù)實(shí)施方式真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；標(biāo)號(hào)說明：1、殼體；2、坩堝；3、抽真空裝置；4、基材；5、固定裝置；11、外層殼體；12、中層殼體；13、內(nèi)層殼體；14、進(jìn)料通道；15、艙門31、
第一真空泵；32、第二真空泵；33、第三真空泵；34、真空壓力傳感器；111、中央真空室；121、第一夾層空腔；131、第二夾層空腔。具體實(shí)施方式為詳細(xì)說明本技術(shù)的
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
、構(gòu)造特征、所實(shí)現(xiàn)目的及效果，以下結(jié)合實(shí)施方式并配合附圖詳予說明。請(qǐng)參閱圖1，本技術(shù)提供了一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，包括殼體1、抽真空裝置3和坩堝2，所述殼體1由外至內(nèi)依次包括外層殼體11、中層殼體12和內(nèi)層殼體13，所述外層殼體11、中層殼體12和內(nèi)層殼體13為密封殼體，內(nèi)層殼體13圍成中央真空室111，內(nèi)層殼體13的內(nèi)側(cè)面設(shè)置有內(nèi)襯，內(nèi)層殼體13與中層殼體12圍成第一夾層空腔121，中層殼體12與外層殼體11圍成第二夾層空腔131。為了便于進(jìn)出料，在殼體1的側(cè)面設(shè)置有貫穿外層殼體11、中層殼體12和內(nèi)層殼體13的進(jìn)料通道14，在進(jìn)料通道14上設(shè)置有艙門15，艙門15上設(shè)置有密封橡膠。所述抽真空裝置3包括第一真空泵31、第二真空泵32、第三真空泵33和多個(gè)用于檢測(cè)真空值的真空壓力傳感器34，所述中央真空室111、第一夾層空腔121和第二夾層空腔131內(nèi)分別設(shè)置有所述真空壓力傳感器34。真空壓力傳感器34用于檢測(cè)所在空間的真空值。所述第一真空泵31設(shè)置于第一夾層空腔121內(nèi)，并通過密封管道與中央真空室111連通，用于對(duì)中央真空室111抽真空；第二真空泵32設(shè)置于第二夾層空腔131內(nèi)，并通過密封管道與第一夾層空腔121連通，用于對(duì)第一夾層空腔121抽真空；第三真空泵33設(shè)置于外層殼體11外，并通過密封管道與第二夾層空腔131連通，用于對(duì)第二夾層空腔131抽真空。所述坩堝2設(shè)置于中央真空室111的底部，坩堝2的底部設(shè)置有加熱裝置，坩堝2的上方設(shè)置有用于夾裝鍍膜基材的固定裝置5，鍍膜基材4夾裝于固定裝置5上。優(yōu)選的，所述加熱裝置為耐高溫的鎢絲，鎢絲通過導(dǎo)線連接于電源。待形成薄膜的原材料放置于坩堝2上，在加熱裝置的作用下，使其原子或分子從表面氣化逸出，形成蒸氣流，入射到待鍍膜基材表面，凝結(jié)形成固態(tài)薄
膜。本技術(shù)真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置的殼體采用三層密封殼體，并在殼體之間設(shè)置有夾層空腔，并且在不同的夾層空腔內(nèi)和在殼體外分別設(shè)置了真空泵，使每個(gè)夾層空腔維持在不同的真空值(中央真空室＞第一夾層空腔＞第二夾層空腔)，降低了各級(jí)真空泵的抽真空壓力差，通過逐層抽真空的方式對(duì)中央真空室進(jìn)行抽真空，大大提高了抽真空的效果，從而使本真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置能夠制得連續(xù)薄膜，提高薄膜在基板上的附著力，以及工藝重復(fù)性。為了防止抽真空裝置對(duì)蒸氣流的干擾，在本實(shí)施方式中，所述中央真空室111的頂部設(shè)置有兩個(gè)以上抽氣口，第一真空泵31的密封管道連接于各抽氣口。進(jìn)一步的，為了提高真空泵停止工作時(shí)密封管道的氣密性，所述密封管道中分別串聯(lián)有單向閥。由于薄膜的原材料的蒸氣流帶有較高的溫度，從而使基材4的溫度也逐漸變高，不利于蒸氣流凝結(jié)成膜。因此，在一實(shí)施方式中，在所述固定裝置的基材固定面設(shè)置有半導(dǎo)體制冷片，半導(dǎo)體制冷片的制冷面朝向基材夾裝方向。從而通過半導(dǎo)體制冷片的作用降低基材4的溫度，提高蒸氣流凝結(jié)成膜的效果。為了提高半導(dǎo)體制冷片的制冷效果，在半導(dǎo)體制冷片的發(fā)熱面還設(shè)置了導(dǎo)熱材料(如銅)，通過導(dǎo)熱材料連接于內(nèi)層殼體，從而使半導(dǎo)體制冷片發(fā)熱面的溫度傳遞至內(nèi)層殼體上。以上所述僅為本技術(shù)的實(shí)施例，并非因此限制本技術(shù)的專利范圍，凡是利用本技術(shù)說明書及附圖內(nèi)容所作的等效形狀或結(jié)構(gòu)變換，或直接或間接運(yùn)用在其他相關(guān)的
，均同理包括在本技術(shù)的專利保護(hù)范圍內(nèi)。本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，包括殼體、抽真空裝置和坩堝，其特征在于，所述殼體由外至內(nèi)依次包括外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體為密封殼體，內(nèi)層殼體圍成中央真空室，內(nèi)層殼體與中層殼體圍成第一夾層空腔，中層殼體與外層殼體圍成第二夾層空腔；所述抽真空裝置包括第一真空泵、第二真空泵、第三真空泵和多個(gè)用于檢測(cè)真空值的真空壓力傳感器，所述中央真空室、第一夾層空腔和第二夾層空腔內(nèi)分別設(shè)置有所述真空壓力傳感器；第一真空泵設(shè)置于第一夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與中央真空室連通；第二真空泵設(shè)置于第二夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與第一夾層空腔連通；第三真空泵設(shè)置于外層殼體外，并通過密封管道與第二夾層空腔連通；所述坩堝設(shè)置于中央真空室的底部，坩堝的底部設(shè)置有加熱裝置，坩堝的上方設(shè)置有用于夾裝鍍膜基材的固定裝置。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種真空離子蒸發(fā)鍍膜裝置，包括殼體、抽真空裝置和坩堝，其特征在于，所述殼體由外至內(nèi)依次包括外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體，所述外層殼體、中層殼體和內(nèi)層殼體為密封殼體，內(nèi)層殼體圍成中央真空室，內(nèi)層殼體與中層殼體圍成第一夾層空腔，中層殼體與外層殼體圍成第二夾層空腔；所述抽真空裝置包括第一真空泵、第二真空泵、第三真空泵和多個(gè)用于檢測(cè)真空值的真空壓力傳感器，所述中央真空室、第一夾層空腔和第二夾層空腔內(nèi)分別設(shè)置有所述真空壓力傳感器；第一真空泵設(shè)置于第一夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與中央真空室連通；第二真空泵設(shè)置于第二夾層空腔內(nèi)，并通過密封管道與第一夾層空腔連通；第三真空泵設(shè)置于外層殼...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：關(guān)振奮，
申請(qǐng)(專利權(quán))人：晉譜福建光電科技有限公司，
類型：新型
國別省市：福建;35