裸視立體浮雕燙印薄膜及其制作方法技術(shù)

本發(fā)明專利技術(shù)公開了一種裸視立體浮雕燙印薄膜及其制作方法，裸視立體浮雕燙印薄膜包括從上至下依次固定連接的塑料基材層、離型涂層、含有雕刻紋路的模壓涂層和覆蓋層，本發(fā)明專利技術(shù)的裸視立體浮雕燙印薄膜和制作方法能夠輕易實(shí)現(xiàn)在各種不同材質(zhì)上的呈現(xiàn)的裸視立體圖文效果，達(dá)到平面以及3D印刷技術(shù)做不到的效果。

【技術(shù)實(shí)現(xiàn)步驟摘要】
裸視立體浮雕燙印薄膜及其制作方法
本專利技術(shù)涉及目視防偽
，具體涉及裸視立體浮雕燙印薄膜及其制作方法。
技術(shù)介紹
現(xiàn)行市場上還沒有燙印薄膜可以達(dá)到立體浮雕的效果，要想得到立體效果，必須在利用燙印的同時(shí)還要機(jī)械擊凹凸，只有這樣才能達(dá)到視覺的立體浮雕效果。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路
基于現(xiàn)有技術(shù)的不足，本專利技術(shù)在提供了裸視立體浮雕燙印薄膜的同時(shí)，還提供了裸視立體浮雕燙印薄膜的制作方法，該裸視立體浮雕燙印薄膜可以輕易實(shí)現(xiàn)將裸視立體圖文效果用在各種不同材質(zhì)上，達(dá)到平面以及3D印刷技術(shù)做不到的效果。為實(shí)現(xiàn)上述目的，本專利技術(shù)的技術(shù)方案為：裸視立體浮雕燙印薄膜，包括從上至下依次固定連接的基材層、離型涂層、含有雕刻紋路的模壓涂層和覆蓋層。所述離型涂層與模壓涂層之間設(shè)置有著色涂層。優(yōu)選的，所述模壓涂層上雕刻紋路的深度不超過3微米。優(yōu)選的，所述模壓涂層的厚度不低于1.8微米。進(jìn)一步的，所述模壓涂層上的雕刻紋路是先用光刻機(jī)在基材上雕刻，然后通過模壓技術(shù)復(fù)制到模壓涂層上。優(yōu)選的，所述模壓涂層上的雕刻紋路是用光刻機(jī)雕刻的。進(jìn)一步的，所述的裸視立體浮雕燙印薄膜的制作方法包括以下步驟：S1)設(shè)計(jì)圖像；S2)圖像處理：利用電腦將圖形處理成為漸變的灰階圖；S3)圖檔制作：利用轉(zhuǎn)檔程式把S2)中的灰階圖分別轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔；S4)設(shè)計(jì)S3)中的坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息，光刻機(jī)根據(jù)坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息對基材進(jìn)行光刻，光刻完成后即制得光刻母版；S5)將光刻母版復(fù)制成為生產(chǎn)版；S6)在生產(chǎn)版的第一面上涂布離型涂層，再在離型涂層上放置模壓基材，最后將生產(chǎn)版及放置好的模壓基材一起裝到模壓機(jī)進(jìn)行模壓；S7)將模壓好的生產(chǎn)版的第二面進(jìn)行覆蓋層處理，即得成品。進(jìn)一步的，所述坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息按以下方式設(shè)置：S2)中灰階圖每一個(gè)點(diǎn)對應(yīng)一個(gè)X－Y的移動(dòng)位置，按照8位元處理圖檔，空白代表不光刻，則含空白總共有256x256＝65536個(gè)點(diǎn)，每一個(gè)點(diǎn)有一個(gè)灰階，一個(gè)灰階代表一個(gè)深度，灰階0代表空白，灰階1代表光束輸出功率1/255，灰階2代表輸出功率2/255，灰階255代表輸出功率1，每一個(gè)點(diǎn)到圖形中心點(diǎn)的徑向水平夾角角度代表光刻機(jī)中光刻頭的旋轉(zhuǎn)角度。優(yōu)選的，所述S6)中模壓為熱模壓或UV模壓。所述S6)中模壓基材不限離機(jī)涂布，不限含有真空鍍膜。優(yōu)選的，所述S7)中的覆蓋層處理包括真空鍍膜、紋路保護(hù)涂布和熱熔膠保護(hù)中的一種或多種。本專利技術(shù)的有益效果為：本專利技術(shù)的裸視立體浮雕燙印薄膜和制作方法能夠輕易實(shí)現(xiàn)在各種不同材質(zhì)上的呈現(xiàn)的裸視立體圖文效果，達(dá)到平面以及3D印刷技術(shù)做不到的效果。附圖說明圖1為本專利技術(shù)具體實(shí)施例的裸視立體浮雕燙印薄膜結(jié)構(gòu)示意圖；圖2為本專利技術(shù)具體實(shí)施例的熱模壓過程示意圖；圖3為本專利技術(shù)具體實(shí)施例的UV模壓過程示意圖；圖4為本專利技術(shù)具體實(shí)施例的裸視立體浮雕燙印薄膜外觀效果示意圖。具體實(shí)施方式下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施例對本專利技術(shù)作進(jìn)一步說明，如圖1所示，裸視立體浮雕燙印薄膜，包括從上至下依次固定連接的塑料基材層1、離型涂層2、含有雕刻紋路的模壓涂層4和覆蓋層5,離型涂層2與含有雕刻紋路的模壓涂層4之間還含有色層3。模壓涂層上的雕刻紋路是通過模壓技術(shù)復(fù)制到模壓涂層上，為了達(dá)到足夠的立體感，模壓涂層上紋路結(jié)構(gòu)的紋路深度不超過3微米，模壓涂層的厚度不低于1.8微米，模壓的立體效果取決于圖像的模壓深度損失程度，模壓紋路深度越完整，立體感以及亮度越好，反之越差。裸視立體浮雕燙印薄膜的制作方法包括以下步驟：S1)圖像處理：利用電腦將圖形處理成為漸變的灰階圖；S2)圖檔制作：利用單獨(dú)制作的轉(zhuǎn)檔程式把S1中的灰階圖分別轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔；S3)設(shè)計(jì)S2中的坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息，光刻機(jī)根據(jù)坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息對基材進(jìn)行光刻，光刻完成后即制得光刻母版；坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息按以下方式設(shè)置：S2)中灰階圖每一個(gè)點(diǎn)對應(yīng)一個(gè)X－Y的移動(dòng)位置，按照8位元處理圖檔，空白代表不光刻，則含空白總共有256x256＝65536個(gè)點(diǎn)，每一個(gè)點(diǎn)有一個(gè)灰階，一個(gè)灰階代表一個(gè)深度，灰階0代表空白，灰階1代表光束輸出功率1/255，灰階2代表輸出功率2/255，灰階255代表輸出功率1，每一個(gè)點(diǎn)到圖形中心點(diǎn)的徑向水平夾角角度代表光刻機(jī)中光刻頭的旋轉(zhuǎn)角度；S4)將光刻母版復(fù)制成為生產(chǎn)版；S5)在生產(chǎn)版的第一面上涂布離型涂層，再在離型涂層上放置模壓基材，最后將生產(chǎn)版及放置好的模壓基材一起裝到模壓機(jī)進(jìn)行模壓；模壓可以采用熱模壓或UV模壓，如圖2所示為熱模壓過程示意圖，生產(chǎn)版和模壓基材，即圖中的涂布基材，先通過可以加大直徑的預(yù)熱輥，再由下面的版輥加熱和上面的壓力輥，再經(jīng)由預(yù)熱輥，最后成品收卷。圖3所示為UV模壓過程示意圖，生產(chǎn)版和模壓基材，即圖中的涂布基材，先經(jīng)過UV涂布，再經(jīng)過壓力輥和版輥的加壓和鋪平，同時(shí)經(jīng)過UV燈照射固化，最后成品收卷。也可以采用其它模壓方式，譬如塑料擠出模壓機(jī)等等模壓設(shè)備。生產(chǎn)版上還可選擇的進(jìn)行著色處理，生產(chǎn)版經(jīng)過著色處理后再涂布離型涂層，模壓基材不限離機(jī)涂布，不限有真空鍍膜。S6)將模壓好的生產(chǎn)版的第二面進(jìn)行覆蓋層處理，即得成品，依據(jù)客戶需要分切需要的寬度和長度。覆蓋層處理包括真空鍍膜、紋路保護(hù)涂布和熱熔膠保護(hù)中的一種或多種。圖4為通過本專利技術(shù)方法具體實(shí)施例制成的各種形狀的裸視立體浮雕燙印薄膜。需要說明的是，以上所述只是本專利技術(shù)的較佳實(shí)施例而已，本專利技術(shù)并不局限于上述實(shí)施方式，只要其以相同的手段達(dá)到本專利技術(shù)的技術(shù)效果，都應(yīng)屬于本專利技術(shù)的保護(hù)范圍。本文檔來自技高網(wǎng)...

【技術(shù)保護(hù)點(diǎn)】
裸視立體浮雕燙印薄膜，其特征在于：包括從上至下依次固定連接的基材層、離型涂層、含有雕刻紋路的模壓涂層和覆蓋層。

【技術(shù)特征摘要】
1.一種裸視立體浮雕燙印薄膜的制作方法，其特征在于：所述裸視立體浮雕燙印薄膜包括從上至下依次固定連接的基材層、離型涂層、含有雕刻紋路的模壓涂層和覆蓋層；所述離型涂層與模壓涂層之間設(shè)置有著色涂層；所述模壓涂層上雕刻紋路的深度不超過3微米；所述模壓涂層的厚度不低于1.8微米；所述模壓涂層上的雕刻紋路是先用光刻機(jī)在基材上雕刻，然后通過模壓技術(shù)復(fù)制到模壓涂層上；所述方法包括以下步驟：S1)設(shè)計(jì)圖像；S2)圖像處理：利用電腦將圖形處理成為漸變的灰階圖；S3)圖檔制作：利用轉(zhuǎn)檔程式把S2)中的灰階圖分別轉(zhuǎn)換為坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔；S4)設(shè)計(jì)S3)中的坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息，光刻機(jī)根據(jù)坐標(biāo)圖檔、角度圖檔以及深度圖檔與光刻機(jī)的位置、旋轉(zhuǎn)角度以及功率的關(guān)系信息對基材進(jìn)行光刻，光刻完成后即制得光刻母版；S5)將光刻母版復(fù)制成為生產(chǎn)版...

【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：江明聰，
申請(專利權(quán))人：珠海市瑞明科技有限公司，江明聰，
類型：發(fā)明
國別省市：廣東;44