使用內嵌式觸摸模式的液晶顯示裝置及其制造方法制造方法及圖紙

使用內嵌式觸摸模式的液晶顯示裝置及其制造方法。一種液晶顯示LCD裝置，所述LCD裝置包括：下基板和上基板，所述下基板和所述上基板被布置為彼此面對，并且具有插入在其間的液晶層；黑底，所述黑底被設置在所述下基板上，在所述黑底之間設置濾色器，并且在所述下基板的整個表面上設置公共電極；選通線和數據線，所述選通線和所述數據線被設置在所述上基板上并且彼此交叉以限定像素區域；薄膜晶體管TFT，所述TFT在所述上基板的所述像素區域中存在；以及像素電極，所述像素電極與所述TFT電接觸，其中，通過檢測所述選通線和所述數據線二者與接觸所述上基板的觸摸對象之間的自電容的變化來輸出感測信號。

【技術實現步驟摘要】

本公開涉及一種觸摸面板，并且具體地說，涉及一種通過將自電容型內嵌式(in-cell)觸摸傳感器應用到扭曲向列(TN)模式LCD來使用內嵌式觸摸模式的液晶顯示器(LCD)及該液晶顯示器的制造方法。
技術介紹
平板顯示器的具體示例包括LCD、等離子體顯示面板(PDP)裝置、場發射顯示(FED)裝置和電致發光顯示裝置(ELD)。這些裝置通常包括一個平面顯示面板作為必要元件，并且該平面顯示面板具有這樣的結構，在該結構中，一對透明絕緣基板以面對的方式附接，在該對透明絕緣基板之間插入發射或偏振材料層。其中，LCD通過使用電場來調節液晶的透光率來顯示圖像。為此，圖像顯示裝置包括具有液晶單元的液晶面板、光照射到顯示面板的背光單元和用于驅動液晶單元的驅動電路。近來，增加了添加觸摸面板的需求，所述觸摸面板通過用戶的手或單獨的輸入單元來識別被觸摸的部分并且發送與被觸摸的部分對應的單獨信息。目前，以被附接到顯示裝置的外部表面的形式應用這種觸摸面板。此外，根據一個觸摸感測方案，觸摸面板被分類為電阻式觸摸面板、電容式觸摸面板和紅外線感測式觸摸面板，并且最近，考慮到制造方案和感測功率方面的容易，電容式觸摸面板作為小模式已變得突出。作為電容式方案，為了識別多點觸摸，使用互電容感測方案。在使用電容式感測方案的觸摸傳感器當中，近來出現了內嵌式觸摸型觸摸傳感器。這里，內嵌式觸摸型觸摸傳感器是一種通過在下基板上形成觸摸傳感器來實現觸r>摸操作的技術。近來，內嵌式觸摸技術以各種驅動模式應用于LCD。使用電容方案的內嵌式觸摸傳感器在各種驅動模式應用于LCD當中的TN模式LCD時具有局限。原因是因為：TN模式LCD具有這樣一種結構，在該結構中，柵極、有源層、源極與漏極以及像素電極形成在下基板上，并且黑底、濾色器、公共電極和柱狀間隔件形成在上基板上。因此，在將內嵌式觸摸方案應用于TN模式LCD的情況下，當用戶觸摸濾色器的上部時，觸摸信號被在TN面板的上基板上設置的公共電極阻斷，使得難以實現觸摸功能。而且，難以在保持下基板內的TN結構的同時配置觸摸電極。
技術實現思路
因此，詳細描述的一個方面是提供一種使用能夠將自電容型內嵌式觸摸傳感器應用于扭曲向列(TN)模式LCD的內嵌式觸摸方案的液晶顯示(LCD)裝置及其制造方法。為了實現這些及其它優點且根據本說明書的目的，如本文具體實施且廣泛描述的，一種液晶顯示(LCD)裝置可以包括：下基板和上基板，所述下基板和所述上基板被布置為彼此面對，并且具有插入在該下基板和該上基板之間的液晶層；黑底，所述黑底被設置在所述下基板上，在所述黑底之間設置濾色器，并且在所述下基板的整個表面上設置公共電極；選通線和數據線，所述選通線和所述數據線被設置在所述上基板上并且彼此交叉以限定像素區域；薄膜晶體管TFT，所述TFT在所述上基板的所述像素區域中存在；以及像素電極，所述像素電極與所述TFT電接觸，其中，通過檢測所述選通線和所述數據線二者與接觸所述上基板的觸摸對象之間的自電容的變化來輸出感測信號。所述LCD裝置可以是具有TN結構的內嵌式(in-cell)觸摸模式LCD裝置。所述選通線和所述數據線在顯示時段中可以用作所述LCD裝置的電極并且在所述觸摸時段中可以用作自電容。所述選通線和所述數據線可以根據在所述上基板上有無所述觸摸對象來感測自電容的變化。為了實現這些及其它優點且根據本說明書的目的，如本文具體實施且廣泛描述的，一種用于制造液晶顯示LCD裝置的方法，所述方法可以包括以下步驟：設置下基板和上基板，所述下基板和所述上基板被布置為彼此面對并且具有插入在該下基板和該上基板之間的液晶層；在所述下基板上形成黑底、濾色器和公共電極；形成選通線、有源層、源極、漏極以及與所述選通線交叉的數據線，以在所述上基板上形成像素區域；以及在所述上基板的所述像素區域中形成像素電極，所述像素電極與所述漏極電接觸，其中，通過檢測所述選通線和所述數據線二者與接觸所述上基板的觸摸對象之間的自電容的變化來輸出感測信號。所述LCD裝置可以是具有TN結構的內嵌式觸摸模式LCD裝置。所述選通線和所述數據線在顯示時段中可以用作所述LCD裝置的電極并且在所述觸摸時段中可以用作自電容。所述選通線和所述數據線可以根據在所述上基板上有無所述觸摸對象來感測自電容的變化。在根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD裝置及其制造方法中，通過應用其中所述選通線及數據線在顯示時段中用作選通電極和數據電極并且在觸摸時段中用作觸摸電極的時分方案，可以實現自電容型內嵌式觸摸傳感器。另外，在根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD裝置及其制造方法中，通過將自電容型內嵌式觸摸技術應用于LCD裝置，可以增加LCD裝置的附加值，并且可以在具有TN結構的現有LCD裝置中實現所述內嵌式觸摸技術，而不會增加掩模數量。根據下文給出的詳細描述，本申請的可應用性的進一步范圍將變得更加顯而易見。然而，應該理解，由于根據所述詳細描述本專利技術范圍內的各種變化及修改對于本領域技術人員而言將變得更加顯而易見，因此所述詳細描述及具體示例雖然指示本發明的優選實施方式，但僅是為了說明而給出。附圖說明附圖被包括以提供對本專利技術的進一步理解，并且被并入本說明書且構成本說明書的一部分，附圖例示了示例性實施方式并且與說明書一起用于說明本專利技術的原理。在附圖中：圖1為根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的液晶顯示(LCD)裝置的示意性立體圖。圖2為根據公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的示意性截面圖，示出了選通線和數據線二者與觸摸對象之間的自電容。圖3為根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的平面圖。圖4為根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的示意性截面圖。圖5為示意性地示出根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的選通線和數據線的視圖。圖6為示意性地示出根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的驅動方案的電路波形圖，其中，示出了基于時分方案的顯示時段與觸摸時段中的電路波形。圖7A至圖7D為示出制造根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的上薄膜晶體管(TFT)陣列基板的過程截面圖。圖8A至圖8C為示出制造根據本公開的實施方式的使用內嵌式觸摸方案的LCD的下TFT陣列基板的過程的截面圖。圖9為示意性地示出根據本公開的實施方本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種液晶顯示LCD裝置，所述LCD裝置包括：下基板和上基板，所述下基板和所述上基板被布置為彼此面對，并且具有插入在該下基板和該上基板之間的液晶層；黑底，所述黑底被設置在所述下基板上，在所述黑底之間設置濾色器，并且在所述下基板的整個表面上設置公共電極；選通線和數據線，所述選通線和所述數據線被設置在所述上基板上并且彼此交叉以限定像素區域；薄膜晶體管TFT，所述TFT存在于所述上基板的所述像素區域中；以及像素電極，所述像素電極與所述TFT電接觸，其中，通過檢測所述選通線和所述數據線二者與接觸所述上基板的觸摸對象之間的自電容的變化來輸出感測信號。

【技術特征摘要】
2014.12.30 KR 10-2014-01941901.一種液晶顯示LCD裝置，所述LCD裝置包括：
下基板和上基板，所述下基板和所述上基板被布置為彼此面對，并且具有插入在
該下基板和該上基板之間的液晶層；
黑底，所述黑底被設置在所述下基板上，在所述黑底之間設置濾色器，并且在所
述下基板的整個表面上設置公共電極；
選通線和數據線，所述選通線和所述數據線被設置在所述上基板上并且彼此交叉
以限定像素區域；
薄膜晶體管TFT，所述TFT存在于所述上基板的所述像素區域中；以及
像素電極，所述像素電極與所述TFT電接觸，
其中，通過檢測所述選通線和所述數據線二者與接觸所述上基板的觸摸對象之間
的自電容的變化來輸出感測信號。
2.根據權利要求1所述的LCD裝置，其中，所述LCD裝置是具有TN結構的內
嵌式觸摸模式LCD裝置。
3.根據權利要求1所述的LCD裝置，其中，所述選通線和所述數據線在顯示時
段中用作所述LCD裝置的電極并且在觸摸時段中用作自電容。
4.根據權利要求1所述的LCD...

【專利技術屬性】
技術研發人員：金真星，金哲世，金周漢，金成撤，裵相赫，
申請(專利權)人：樂金顯示有限公司，
類型：發明
國別省市：韓國;KR