電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具制造技術

本發明專利技術適用于電炊具技術領域，公開了一種電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具。電磁線圈盤包括繞線盤座組件、第一線圈和第二線圈，繞線盤座組件包括對合連接的繞線盤座體和繞線盤支架，第一線圈繞設于繞線盤座體上的第一繞線區域，第二線圈繞設于繞線盤支架上的第二繞線區域，且第一、二繞線區域在水平面的投影相錯開。所述電炊具具有上述的電磁線圈盤。本發明專利技術所提供的電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具，兩個線圈可以獨立工作，能夠方便獨立控制其中兩個線圈的繞線參數與性能，滿足不同區域加熱效果的要求。

【技術實現步驟摘要】

本專利技術屬于電炊具
，尤其涉及一種電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具。
技術介紹
目前的電炊具，例如電磁加熱產品(比如電磁加熱電飯煲、電磁爐等)，產品都有電磁線圈圖盤零件，其中部分設計的電加熱產品在底部與側面分別繞設線圈盤，隨著加熱模式的多樣性需求增多，需要進行對不同加熱區域的線圈進行獨立的控制以及同時具備較好的散熱性能，現有結構的線圈盤具有較大的局限性，不能滿足產品性能需求。
技術實現思路
本專利技術的目的在于克服上述現有技術的不足，提供了一種電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具，其便于用戶的使用。本專利技術的技術方案是：一種電磁線圈盤，包括繞線盤座組件、第一線圈和第二線圈，所述繞線盤座組件包括對合連接的繞線盤座體和繞線盤支架，所述第一線圈繞設于所述繞線盤座體上的第一繞線區域，所述第二線圈繞設于所述繞線盤支架上的第二繞線區域，且所述第一繞線區域與所述第二繞線區域在水平面的投影相錯開?？蛇x地，所述繞線盤座體和繞線盤支架通過鎖緊件固定或通過熱熔支架或通過旋轉卡扣結構固定。可選地，所述繞線盤座組件呈凹形，包括底部和側部，所述第一繞線區域位于所述底部和側部中的任意一個上，所述第二繞線區域位于所述底部和側部中的另外一個上?？蛇x地，所述繞線盤座體和繞線盤支架分別呈凹形，且均分別包括底部和側部，所述第一繞線區域位于所述繞線盤座體的底部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架的側部；或者所述第一繞線區域位于所述繞線盤座體的側部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架的底部?？蛇x地，所述第一線圈呈圓形或圓環形且位于所述繞線盤座體的中央區域，所述第二線圈呈圓環形且位于所述第一線圈的外圍；所述第一線圈具有第一內側引線和第一外側引線，所述第二線圈具有第二內側引線和第二外側引線；所述第一外側引線與所述第二內側引線相接并組成公共端連接于電路板，或者，所述第一外側引線與所述第二內側引線連接于電路板同一連接點。可選地，所述第一線圈和所述第二線圈并聯連接于電路板?？蛇x地，所述繞線盤支架的側部在豎直面上的截面呈弧形，所述第二線圈全部或部分繞設于所述繞線盤支架的側部?？蛇x地，所述繞線盤座體呈凹形，包括底部和側部，所述繞線盤支架呈平板型，與所述繞線盤座體的底部相對應，所述第一繞線區域位于所述繞線盤座體的側部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架?？蛇x地，所述第一線圈和所述第二線圈的繞設方向相同，所述第二線圈環設于所述第一線圈周圍，且所述第一線圈與所述第二線圈同軸設置。可選地，所述第一繞線區域由多個弧形凸筋分別沿徑向和周向陣列形成，所述弧形凸筋一體成型于所述繞線盤座體。可選地，所述第二繞線區域由多個弧形凸筋分別沿徑向和周向陣列形成，所述弧形凸筋一體成型于所述繞線盤支架。可選地，所述電磁線圈盤還包括磁條，所述磁條呈放射狀的一體設置在所述繞線盤支架上?？蛇x地，所述繞線盤支架為凹形，包括底部和側部，所述磁條包括設在所述繞線盤支架底部的第一磁條、設在所述繞線盤支架側壁的第二磁條，所述第一磁條的假想長度延長線和所述第二磁條的假想長度延長線在所述繞線盤支架的周向上交錯排列。本專利技術還提供了一種電炊具，所述電炊具具有上述的電磁線圈盤。可選地，所述電炊具包括鍋體和內鍋，所述電磁線圈盤設置于所述鍋體內，所述內鍋位于所述鍋體內且位于所述電磁線圈盤的上方。本專利技術所提供的電磁線圈盤及具有該電磁線圈盤的電炊具，第一線圈繞設于所述繞線盤座體上的第一繞線區域，所述第二線圈繞設于所述繞線盤支架上的第二繞線區域，且所述第一繞線區域與所述第二繞線區域在水平面的投影相錯開，兩個線圈可以獨立工作，能夠方便獨立控制其中兩個線圈的繞線參數與性能，滿足不同區域加熱效果的要求。附圖說明為了更清楚地說明本專利技術實施例中的技術方案，下面將對實施例中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本專利技術的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。圖1是本專利技術實施例提供的電磁線圈盤的平面示意圖；圖2是本專利技術實施例提供的電磁線圈盤中繞線盤座體和第二線圈的平面示意圖；圖3是本專利技術實施例提供的電磁線圈盤的平面示意圖；圖4是本專利技術實施例提供的電磁線圈盤的立體分解示意圖。具體實施方式為了使本專利技術的目的、技術方案及優點更加清楚明白，以下結合附圖及實施例，對本專利技術進行進一步詳細說明。應當理解，此處所描述的具體實施例僅僅用以解釋本專利技術，并不用于限定本專利技術。需要說明的是，當元件被稱為“固定于”或“設置于”另一個元件，它可以直接在另一個元件上或者可能同時存在居中元件。當一個元件被稱為是“連接于”另一個元件，它可以是直接連接到另一個元件或者可能同時存在居中元件。還需要說明的是，本專利技術實施例中的左、右、上、下等方位用語，僅是互為相對概念或是以產品的正常使用狀態為參考的，而不應該認為是具有限制性的。如圖1～圖4所示，本專利技術實施例提供的一種電磁線圈盤，包括第一線圈1、第二線圈2和繞線盤座組件3，所述第一線圈1和所述第二線圈2均繞設于所述繞線盤座組件3，所述繞線盤座組件3包括對合連接的繞線盤座體31和繞線盤支架32，所述第一線圈1繞設于所述繞線盤座體31上的第一繞線區域，所述第二線圈2繞設于所述繞線盤支架32上的第二繞線區域，且所述第一繞線區域與所述第二繞線區域在水平面的投影相錯開。第一線圈1、第二線圈2可以同時工作，也可以分別獨立工作，可以形成有兩個熱源，兩個熱源可以同時加熱，也可以分別獨立加熱，其加熱模式多，加熱效果好。具體地，所述繞線盤座組件3可以呈凹形，繞線盤座組件3可包括底部和側部，所述第一繞線區域位于所述底部和側部中的任意一個上，所述第二繞線區域位于所述底部和側部中的另外一個上，以對應不同加熱區域，實現多種加熱效果，便于分區域獨立控制。具體地，所述繞線盤座體31和繞線盤支架32可以分別呈凹形，且均分別包括底部和側部，所述第一繞線區域位于所述繞線盤座體31的底部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架32的側部；或者所述第一繞線區域位于所述繞線盤座體31的側部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架32的底部。將繞線盤組件3拆分繞線盤座體31和繞線盤支架32兩個部分，且將不同區域的線為分別繞設在不同位置，能夠獨立控制不同加熱區域線圈盤的性能。具體地，所述第一線圈1和所述第二線圈2的繞設方向可以相同。本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種電磁線圈盤，其特征在于，包括繞線盤座組件、第一線圈和第二線圈，所述繞線盤座組件包括對合連接的繞線盤座體和繞線盤支架，所述第一線圈繞設于所述繞線盤座體上的第一繞線區域，所述第二線圈繞設于所述繞線盤支架上的第二繞線區域，且所述第一繞線區域與所述第二繞線區域在水平面的投影相錯開。

【技術特征摘要】
1.一種電磁線圈盤，其特征在于，包括繞線盤座組件、第一線圈和第二線
圈，所述繞線盤座組件包括對合連接的繞線盤座體和繞線盤支架，所述第一線
圈繞設于所述繞線盤座體上的第一繞線區域，所述第二線圈繞設于所述繞線盤
支架上的第二繞線區域，且所述第一繞線區域與所述第二繞線區域在水平面的
投影相錯開。
2.如權利要求1所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述繞線盤座體和繞線
盤支架通過鎖緊件固定或通過熱熔支架或通過旋轉卡扣結構固定。
3.如權利要求1所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述繞線盤座體和繞線
盤支架中的任一個呈凹形。
4.如權利要求1所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述繞線盤座組件包括
底部和側部，所述第一繞線區域位于所述底部和側部中的任意一個上，所述第
二繞線區域位于所述底部和側部中的另外一個上。
5.如權利要求1所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述繞線盤座體和繞線
盤支架分別呈凹形，且均分別包括底部和側部，所述第一繞線區域位于所述繞
線盤座體的底部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支架的側部；或者所述第
一繞線區域位于所述繞線盤座體的側部，所述第二繞線區域位于所述繞線盤支
架的底部。
6.如權利要求5所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述第一線圈呈圓形或
圓環形且位于所述繞線盤座體的中央區域，所述第二線圈呈圓環形且位于所述
第一線圈的外圍；所述第一線圈具有第一內側引線和第一外側引線，所述第二
線圈具有第二內側引線和第二外側引線；所述第一外側引線與所述第二內側引
線相接并組成公共端連接于電路板，或者，所述第一外側引線與所述第二內側
引線連接于電路板同一連接點。
7.如權利要求6所述的電磁線圈盤，其特征在于，所述第一線圈和所述第
二線圈并聯連接于電路板。
8.如權利要求6所述的...

【專利技術屬性】
技術研發人員：吳金華，黃庶鋒，
申請(專利權)人：佛山市順德區美的電熱電器制造有限公司，美的集團股份有限公司，
類型：發明
國別省市：廣東;44