本申請涉及測量閃爍體靈敏度的方法、系統(tǒng)及設(shè)備，屬于測量技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：將多個閃爍體單元排成閃爍體陣列，每個閃爍體單元具有窗口；用射線源從入射面照射所述閃爍體陣列從而使閃爍光從所述多個閃爍體單元的窗口發(fā)出；用成像裝置對發(fā)出閃爍光的所述閃爍體陣列進(jìn)行拍照，得到灰度圖像，所述灰度圖像的各個灰度值對應(yīng)閃爍光強度，所述成像裝置包括多個像素；根據(jù)所述多個閃爍體單元在所述灰度圖像中的相應(yīng)位置及所述相應(yīng)位置處的灰度值的分別得到所述多個閃爍體單元的靈敏度。本公開采用相機批量測試多個閃爍體單元，能夠提高生產(chǎn)效率和控制產(chǎn)品質(zhì)量，且具備通用性。
【技術(shù)實現(xiàn)步驟摘要】
本專利技術(shù)涉及測量技術(shù)，具體而言，涉及測量閃爍體靈敏度的方法、系統(tǒng)和設(shè)備。
技術(shù)介紹
在目前的輻射檢查領(lǐng)域，輻射檢查系統(tǒng)的核心組成部分是其探測器陣列，直接決定著整個系統(tǒng)的性能指標(biāo)。一般一個輻射檢查系統(tǒng)需要幾百到幾萬個探測單元(在輻射成像中，則表現(xiàn)為像素)，每個探測單元的靈敏面的尺寸從1mm到幾十mm不等。目前閃爍探測器是該領(lǐng)域的主流探測器，閃爍探測器中包括多個閃爍體單元。為方便生產(chǎn)，通常將多個閃爍體單元固定組成一排或幾排進(jìn)行生產(chǎn)和安裝。需要根據(jù)閃爍單元的大小和數(shù)量定制特制的測量裝置。隨著對性能指標(biāo)提升的不斷要求，探測器的像素尺寸逐漸減小，隨之探測器通道的數(shù)量不斷增加。同時，每探測通道間的靈敏度的不一致性越來越大，需要找到新的更有效、更快速的測量方法以適應(yīng)該變化帶來的挑戰(zhàn)。因此，需要一種新的測量閃爍體靈敏度的方法、系統(tǒng)和設(shè)備。在所述
技術(shù)介紹
部分公開的上述信息僅用于加強對本公開的背景的理解，因此它可以包括不構(gòu)成對本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。
技術(shù)實現(xiàn)思路
本申請公開一種測量閃爍體靈敏度的方法、系統(tǒng)和設(shè)備，能夠提升生產(chǎn)效率和控制產(chǎn)品質(zhì)量。本公開的其他特性和優(yōu)點將通過下面的詳細(xì)描述變得顯然，或部分地通過本公開的實踐而習(xí)得。根據(jù)本公開的一個方面，提供一種測量閃爍體靈敏度的方法，包括:將多個閃爍體單元排成閃爍體陣列，每個閃爍體單元具有窗口 ；用射線源從入射面照射所述閃爍體陣列從而使閃爍光從所述多個閃爍體單元的窗口發(fā)出；用成像裝置對發(fā)出閃爍光的所述閃爍體陣列進(jìn)行拍照，得到灰度圖像，所述灰度圖像的各個灰度值對應(yīng)閃爍光強度，所述成像裝置包括多個像素；根據(jù)所述多個閃爍體單元在所述灰度圖像中的相應(yīng)位置及所述相應(yīng)位置處的灰度值的分別得到所述多個閃爍體單元的靈敏度。根據(jù)本公開的一實施方式，其中每個閃爍體單元包括長方形的閃爍體及包覆所述閃爍體的反射層，所述反射層暴露所述窗口。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述成像裝置為CCD相機或CMOS相機。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述閃爍體陣列、所述射線源、所述成像裝置設(shè)置在密閉箱體內(nèi)，所述密閉箱體的內(nèi)側(cè)為黑色，且滿足輻射防護(hù)的要求。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述射線源包括X射線源和同位素源。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括:利用設(shè)置在所述密閉箱體外部的計算機控制所述成像裝置的拍照，并獲取所述成像裝置輸出的數(shù)據(jù)以進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，所述計算機通過控制線與所述成像裝置相連。根據(jù)本公開的一實施方式，其中根據(jù)所述多個閃爍體單元在所述灰度圖像中的相應(yīng)位置及所述相應(yīng)位置處的灰度值的分別得到所述多個閃爍體單元的靈敏度包括:從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素；將所述多個像素的灰度值的平均值或者中間值作為相應(yīng)閃爍體單元的靈敏度。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括:將所述多個像素的灰度值的中間值、最大值和最小值作為參考以規(guī)避測量錯誤。根據(jù)本公開的一實施方式，其中從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素包括:利用各個閃爍體單元的反射層作為從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素，或根據(jù)各個閃爍體單元所在的位置及尺寸區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素。根據(jù)本公開的一實施方式，其中從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素包括采用模式識別算法。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括對所述多個閃爍體單元的位置進(jìn)行修正，從而減少或消除由于位置不同而導(dǎo)致的測量值差異。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括從所述灰度圖像的各個灰度值中扣除本底值。根據(jù)本公開的另一個方面，提供一種用于測量閃爍體靈敏度的系統(tǒng)，包括:圖像獲取模塊，用于從成像裝置獲取閃爍體陣列的灰度圖像，所述閃爍體陣列包括多個閃爍體單元；區(qū)分模塊，用于從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素；靈敏度測量模塊，用于將所述多個像素的灰度值作為相應(yīng)閃爍體單元的靈敏度。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述區(qū)分模塊包括:第一區(qū)分單元，用于利用各個閃爍體單元的反射層作為從所述灰度圖像區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素；和/或第二區(qū)分單元，用于根據(jù)各個閃爍體單元所在的位置及尺寸區(qū)分各個閃爍體單元對應(yīng)的多個像素。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括:第一修正模塊，用于對所述多個閃爍體單元的位置進(jìn)行修正，從而減少或消除由于位置不同而導(dǎo)致的測量值差異。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括:第二修正模塊，用于從所述灰度圖像的各個灰度值中扣除本底值。根據(jù)本公開的再一個方面，提供一種測量閃爍體靈敏度的設(shè)備，所述設(shè)備包括射線源、成像裝置、密閉箱體，其中:所述射線源、所述成像裝置設(shè)置在密閉箱體內(nèi)，所述密閉箱體的內(nèi)側(cè)為黑色，且滿足輻射防護(hù)的要求；所述密閉箱體還用于在其中設(shè)置多個閃爍體單元排成的閃爍體陣列，每個閃爍體單元具有窗口 ；所述射線源用于從入射面照射所述閃爍體陣列從而使閃爍光從所述多個閃爍體單元的窗口發(fā)出；所述成像裝置用于對發(fā)出閃爍光的所述閃爍體陣列進(jìn)行拍照以得到灰度圖像，所述灰度圖像的各個灰度值對應(yīng)閃爍光強度，所述成像裝置包括多個像素。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括固定臺，設(shè)置在所述密閉箱體內(nèi)，用于放置所述閃爍體陣列。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述成像裝置為CCD相機或CMOS相機。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述射線源包括X射線源和同位素源。根據(jù)本公開的一實施方式，還包括設(shè)置在所述密閉箱體外部的計算機，用于控制所述成像裝置的拍照，并獲取所述成像裝置輸出的數(shù)據(jù)以進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，所述計算機通過控制線與所述成像裝置相連。根據(jù)本公開的一實施方式，其中所述計算機根據(jù)所述多個閃爍體單元在所述灰度圖像中的相應(yīng)位置及所述相應(yīng)位置處的灰度值的分別得到所述多個閃爍體單元的靈敏度。根據(jù)本公開的測量閃爍體靈敏度的方法、系統(tǒng)和設(shè)備，能夠提升生產(chǎn)效率和控制產(chǎn)品質(zhì)量。應(yīng)當(dāng)理解的是，以上的一般描述和后文的細(xì)節(jié)描述僅是示例性的，并不能限制本公開。【附圖說明】通過參照附圖詳細(xì)描述其示例實施方式，本公開的上述和其它特征及優(yōu)點將變得更加明顯。圖1示意性示出根據(jù)本公開示例實施方式的測量閃爍體靈敏度的方法的流程圖；圖2示意性示出根據(jù)本公開示例實施方式的測量閃爍體靈敏度的方法的流程圖；圖3示意性示出根據(jù)本公開示例實施方式的用于測量閃爍體靈敏度的系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)圖；圖4示意性示出根據(jù)本公開示例實施方式的用于測量當(dāng)前第1頁1 2 3 4 本文檔來自技高網(wǎng)...
【技術(shù)保護(hù)點】
一種測量閃爍體靈敏度的方法，其特征在于，包括：將多個閃爍體單元排成閃爍體陣列，每個閃爍體單元具有窗口；用射線源從入射面照射所述閃爍體陣列從而使閃爍光從所述多個閃爍體單元的窗口發(fā)出；用成像裝置對發(fā)出閃爍光的所述閃爍體陣列進(jìn)行拍照，得到灰度圖像，所述灰度圖像的各個灰度值對應(yīng)閃爍光強度，所述成像裝置包括多個像素；根據(jù)所述多個閃爍體單元在所述灰度圖像中的相應(yīng)位置及所述相應(yīng)位置處的灰度值的分別得到所述多個閃爍體單元的靈敏度。
【技術(shù)特征摘要】
【專利技術(shù)屬性】
技術(shù)研發(fā)人員：李樹偉，李元景，趙自然，張清軍，趙博震，朱維彬，王均效，孫立風(fēng)，
申請(專利權(quán))人：同方威視技術(shù)股份有限公司，
類型：發(fā)明
國別省市：北京;11
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