用于光譜儀的拼接密封真空室制造技術

本實用新型專利技術公開了一種用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體和上蓋，在真空室本體的四周側壁與上蓋相對的面中間設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，在上蓋的四周側壁與真空室本體相對的面中間也設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，真空室本體的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，上蓋的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成。本實用新型專利技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側壁和上蓋的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。（*該技術在2024年保護過期，可自由使用*）

【技術實現步驟摘要】
【專利摘要】本技術公開了一種用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體和上蓋，在真空室本體的四周側壁與上蓋相對的面中間設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，在上蓋的四周側壁與真空室本體相對的面中間也設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，真空室本體的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，上蓋的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成。本技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側壁和上蓋的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好?！緦＠f明】 用于光譜儀的拼接密封真空室
本技術涉及光譜儀
，特別涉及一種用于光譜儀的拼接密封真空室。
技術介紹
光譜儀的真空室需要密封保持真空，而且對溫度和濕度也有一定的要求，所以對整個真空室的側壁以及材料的要求都比較高?，F有的真空室一般采用型砂鑄造而成，會存在孔狀砂眼，需要檢測，而且密封效果都不太好，導致真空室內的環境不是特別穩定，從而影響了整個光學檢測的結果。
技術實現思路
本技術需要解決的技術問題是現有的真空室的密封效果不好。 為解決上述技術問題，本技術提供了一種用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體和上蓋，在真空室本體的四周側壁與上蓋相對的面中間設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，在上蓋的四周側壁與真空室本體相對的面中間也設置有凹槽并在凹槽內設置有密封條，真空室本體的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，上蓋的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成。本技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側壁和上蓋的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。 作為本技術的進一步改進，在真空室本體的四周側壁之間還設置有豎直槽并在豎直槽內設置有豎直密封條，在上蓋的四周側壁之間也設置有豎直槽并在豎直槽內設置有豎直密封條。增加豎直密封條進一步提高真空室的密封性。 作為本技術的優選技術方案，所述密封條和豎直密封條均為氟膠條。氟膠條不僅硬度高，而且不易老化，不易變形，密封效果非常好，而且使用壽命長，不需要經常更換。 本技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，側壁采用兩塊側板拼接而成，通過壓機壓緊，并在四個側壁的兩塊側板之間橫向縱向設置了密封條，整個真空室密結構設計合理，不僅封效果好，而且能保持真空室內的溫度和濕度。 【專利附圖】【附圖說明】 圖1是本技術的結構示意圖； 圖2是圖1的A-A向剖視圖； 圖3是圖1的B-B向剖視圖； 其中，1-真空室本體，2-上蓋，3-凹槽，4-密封條，5-豎直槽，6-豎直密封條。 【具體實施方式】 下面結合附圖詳細說明本技術的優選技術方案。 如圖1、2、3所示，本技術的用于光譜儀的拼接密封真空室，包括真空室本體I和上蓋2，在真空室本體I的四周側壁與上蓋2相對的面中間設置有凹槽3并在凹槽3內設置有密封條4，在上蓋2的四周側壁與真空室本體I相對的面中間也設置有凹槽3并在凹槽3內設置有密封條4，真空室本體I的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，上蓋2的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成，在真空室本體I的四周側壁之間還設置有豎直槽5并在豎直槽5內設置有豎直密封條6，在上蓋2的四周側壁之間也設置有豎直槽5并在豎直槽5內設置有豎直密封條6，并且所述密封條4和豎直密封條6均為氟膠條。 本技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，真空室本體的四周側壁和上蓋的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，并在縫隙之間設置有密封條，這樣設計的真空室密封性好。 增加豎直密封條進一步提高真空室的密封性。 氟膠條不僅硬度高，而且不易老化，不易變形，密封效果非常好，而且使用壽命長，不需要經常更換，所以使用氟膠條作為密封條和豎直密封條效果非常好。 本技術提的用于光譜儀的拼接密封真空室，側壁采用兩塊側板拼接而成，通過壓機壓緊，并在四個側壁的兩塊側板之間橫向縱向設置了密封條，整個真空室密結構設計合理，不僅封效果好，而且能保持真空室內的溫度和濕度。【權利要求】1.一種用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:包括真空室本體(I)和上蓋(2)，在真空室本體(I)的四周側壁與上蓋(2)相對的面中間設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內設置有密封條(4)，在上蓋(2)的四周側壁與真空室本體(I)相對的面中間也設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內設置有密封條(4)，真空室本體(I)的四周側壁均為兩塊側板拼接而成，上蓋(2)的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成。2.如權利要求1所述的用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:在真空室本體(I)的四周側壁之間還設置有豎直槽(5)并在豎直槽(5)內設置有豎直密封條出)，在上蓋(2)的四周側壁之間也設置有豎直槽(5)并在豎直槽(5)內設置有豎直密封條(6)。3.如權利要求1或2所述的用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于:所述密封條(4)和豎直密封條(6)均為氟膠條?！疚臋n編號】G01J3/02GK204043790SQ201420408057【公開日】2014年12月24日 申請日期:2014年7月23日 優先權日:2014年7月23日 【專利技術者】沈云峰, 沈永水, 茹偉民 申請人:郎溪杰博電器科技有限公司本文檔來自技高網...

【技術保護點】
一種用于光譜儀的拼接密封真空室，其特征在于：包括真空室本體(1)和上蓋(2),在真空室本體(1)的四周側壁與上蓋(2)相對的面中間設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內設置有密封條(4),在上蓋(2)的四周側壁與真空室本體(1)相對的面中間也設置有凹槽(3)并在凹槽(3)內設置有密封條(4),真空室本體(1)的四周側壁均為兩塊側板拼接而成,上蓋(2)的四周側壁也分別為兩塊側板拼接而成。

【技術特征摘要】

【專利技術屬性】
技術研發人員：沈云峰，沈永水，茹偉民，
申請(專利權)人：郎溪杰博電器科技有限公司，
類型：新型
國別省市：安徽;34