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    一種改進的低壓熔斷器制造技術

    技術編號:12414144 閱讀:128 留言:0更新日期:2015-11-30 02:35
    本實用新型專利技術公開的是一種改進的低壓熔斷器,包括絕緣管、可熔體、內帽以及外帽,所述可熔體設于絕緣管內,所述內帽和外帽各有兩個,所述兩內帽分別套設于絕緣管的兩端,所述內帽的側壁開設有至少一個缺口或裂縫,所述兩外帽分別套設于對應的內帽的外側壁上,所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內帽并與外帽的內側壁抵觸連接,所述絕緣管內填充有滅電弧材料。本實用新型專利技術在內帽的側壁上開設缺口或裂縫,該缺口或裂縫并不改變內帽的內徑和外徑尺寸,不影響與絕緣管和外帽的裝配配合。由于在內帽的側壁開設缺口或裂縫后,人們利用較小的力就可以把絕緣管壓入內帽,保證內帽不會因受力太大變形,從而使得外帽也不會變形。

    【技術實現步驟摘要】

    本技術涉及電氣保護元件,具體的說是指一種改進的低壓熔斷器
    技術介紹
    熔斷器,是指當電流超過規定值時,以本身產生的熱量使可熔體熔斷,從而斷開電路的一種電器,其廣泛應用于高低壓配電系統和控制系統中。目前,現有的熔斷器包括絕緣管、可熔體、內帽及外帽,絕緣管與內帽之間的連接方式以及內帽和外帽之間的連接方式都是采用過盈配合的連接方式。由于絕緣管的直徑很難控制在一個很小的公差范圍內,其公差一般都較大,這樣導致絕緣管在壓入內帽時,可能會存在較大過盈量,使得絕緣管在裝配過程中內帽的底部會承受較大的壓力而出現變形,最終導致裝在連接在內帽外的外帽也會變形,從而導致產品性能下降或整個產品報廢。
    技術實現思路
    本技術提供的是一種改進的低壓熔斷器,其主要目的在于克服現有的熔斷器在組裝時由于絕緣管直徑的公差較大,而造成內帽和外帽變形的問題。為了解決上述的技術問題,本技術采用如下的技術方案:—種改進的低壓熔斷器,包括絕緣管、可熔體、內帽以及外帽,所述可熔體設于絕緣管內,所述內帽和外帽各有兩個,所述兩內帽分別套設于絕緣管的兩端,所述內帽的側壁開設有至少一個缺口或裂縫,所述兩外帽分別套設于對應的內帽的外側壁上,所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內帽并與外帽的內側壁抵觸連接,所述絕緣管內填充有滅電弧材料。進一步的,所述滅電弧材料為石英砂。由上述對本技術的描述可知,和現有技術相比,本技術具有如下優點:本技術在內帽的側壁上開設缺口或裂縫,該缺口或裂縫并不改變內帽的內徑和外徑尺寸,不影響與絕緣管和外帽的裝配配合。由于在內帽的側壁開設缺口或裂縫后,人們利用較小的力就可以把絕緣管壓入內帽,保證內帽不會因受力太大變形,從而使得外帽也不會變形。【附圖說明】圖1為本技術的示意圖。圖2為本技術內帽的結構圖。【具體實施方式】參照圖1和圖2。一種改進的低壓熔斷器,包括絕緣管1、可熔體2、內帽3以及外帽4。所述可熔體2設于絕緣管I內,所述內帽3和外帽4各有兩個,所述兩內帽3分別套設于絕緣管I的兩端,所述內帽3的側壁開設有一個或多個缺口或裂縫31,所述兩外帽4套分別設于對應的內帽3的外側壁上。所述可熔體2的兩端穿過絕緣管I和內帽3并與外帽4的內側壁抵觸連接,所述絕緣管I內填充有滅電弧材料5,該滅電弧材料5為石英砂。參照圖1和圖2。本技術在內帽3的側壁上開設缺口或裂縫31,該缺口或裂縫31并不改變內帽3的內徑和外徑尺寸,不影響與絕緣管I和外帽4的裝配配合。由于在內帽3的側壁開設缺口或裂縫31后,人們利用較小的力就可以把絕緣管I壓入內帽,保證內帽3不會因受力太大變形,從而使得外帽4也不會變形。上述僅為本技術的【具體實施方式】,但本技術的設計構思并不局限于此,凡利用此構思對本技術進行非實質性的改動,均應屬于侵犯本技術保護范圍的行為。【主權項】1.一種改進的低壓熔斷器,其特征在于:包括絕緣管、可熔體、內帽以及外帽,所述可熔體設于絕緣管內,所述內帽和外帽各有兩個,所述兩內帽分別套設于絕緣管的兩端,所述內帽的側壁開設有至少一個缺口或裂縫,所述兩外帽分別套設于對應的內帽的外側壁上,所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內帽并與外帽的內側壁抵觸連接,所述絕緣管內填充有滅電弧材料。2.如權利要求1所述的一種改進的低壓熔斷器,其特征在于:所述滅電弧材料為石英砂。【專利摘要】本技術公開的是一種改進的低壓熔斷器,包括絕緣管、可熔體、內帽以及外帽,所述可熔體設于絕緣管內,所述內帽和外帽各有兩個,所述兩內帽分別套設于絕緣管的兩端,所述內帽的側壁開設有至少一個缺口或裂縫,所述兩外帽分別套設于對應的內帽的外側壁上,所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內帽并與外帽的內側壁抵觸連接,所述絕緣管內填充有滅電弧材料。本技術在內帽的側壁上開設缺口或裂縫,該缺口或裂縫并不改變內帽的內徑和外徑尺寸,不影響與絕緣管和外帽的裝配配合。由于在內帽的側壁開設缺口或裂縫后,人們利用較小的力就可以把絕緣管壓入內帽,保證內帽不會因受力太大變形,從而使得外帽也不會變形。【IPC分類】H01H85/05, H01H85/044【公開號】CN204809176【申請號】CN201520522863【專利技術人】朱澤江, 溫天開 【申請人】好利來(中國)電子科技股份有限公司【公開日】2015年11月25日【申請日】2015年7月20日本文檔來自技高網...

    【技術保護點】
    一種改進的低壓熔斷器,其特征在于:包括絕緣管、可熔體、內帽以及外帽,所述可熔體設于絕緣管內,所述內帽和外帽各有兩個,所述兩內帽分別套設于絕緣管的兩端,所述內帽的側壁開設有至少一個缺口或裂縫,所述兩外帽分別套設于對應的內帽的外側壁上,所述可熔體的兩端穿過絕緣管和內帽并與外帽的內側壁抵觸連接,所述絕緣管內填充有滅電弧材料。

    【技術特征摘要】

    【專利技術屬性】
    技術研發人員:朱澤江溫天開
    申請(專利權)人:好利來中國電子科技股份有限公司
    類型:新型
    國別省市:福建;35

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